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플라즈마 건식 개질장치

  • 기술번호 : KST2016001176
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따르면, 플라즈마를 통해 주입된 메탄과 이산화탄소를 개질하여 수소와 일산화탄소를 주성분으로 하는 합성가스를 생성하는 플라즈마 건식 개질장치에 있어서, 내부로 공급되는 이산화탄소를 플라즈마화하여 이산화탄소 플라즈마를 생성하고, 생성된 이산화탄소 플라즈마에 탄화수소체를 공급하여 플라즈마 화염을 점화하며, 상기 플라즈마 화염에 메탄을 공급하여 상기 합성가스를 생성하는 플라즈마 개질기(100,200);를 포함하는 플라즈마 건식 개질장치를 개시한다.
Int. CL C01B 3/26 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120099222 (2012.09.07)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1277123-0000 (2013.06.14)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130620) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.09.07)
심사청구항수 21

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍용철 대한민국 대전광역시 유성구
2 천세민 대한민국 대전광역시 유성구
3 조성윤 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장한특허법인 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로 ***, **층 (서초동, 서초지웰타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0723773-84
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2012.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-1024772-11
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search		 2012.12.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2012.12.27 수리 (Accepted) 9-1-2012-0096969-48
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0011940-38
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.03.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0199484-25
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.03.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0201245-24
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.03.07 무효 (Invalidation) 1-1-2013-0199485-71
9 보정요구서
Request for Amendment		 2013.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0028623-14
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2013-0303851-42
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.04.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0303854-89
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
14 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation		 2013.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0044666-31
15 등록결정서
Decision to grant		 2013.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0339978-65
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마를 통해 주입된 메탄(CH4)과 이산화탄소(CO2)를 개질하여 수소(H2)와 일산화탄소(CO)를 포함하는 합성가스를 생성하는 플라즈마 건식 개질장치에 있어서,내부로 공급되는 이산화탄소를 플라즈마화하여 이산화탄소 플라즈마를 생성하고, 생성된 이산화탄소 플라즈마에 탄화수소체를 공급하여 플라즈마 화염을 점화하며, 상기 플라즈마 화염에 메탄을 공급하여 상기 합성가스를 생성하는 플라즈마 개질기(100,200);를 포함하되, 상기 플라즈마 개질기(100)는,내부에는 플라즈마가 생성되는 반응공간부(111)가 형성되고, 하부에는 상기 반응공간부(111)와 연통되어 상기 메탄을 상기 반응공간부(111)의 내부로 주입하는 메탄공급관(112)이 형성되며, 측부 둘레에는 상기 반응공간부(111)와 연통되어 상기 이산화탄소를 상기 반응공간부(111)의 내부로 주입하는 이산화탄소 공급관(113)이 형성되는 몸체부(110);상기 몸체부(110)의 반응공간부(111) 내에 안착되며, 마이크로웨이브를 공급받아 상기 반응공간부(111) 내에서 플라즈마를 생성하는 방전관(120);상기 방전관(120)과 연결되도록 상기 몸체부(110)에 체결되며, 기 설정된 주파수의 마이크로웨이브를 전달받아 상기 방전관(120)에 인가하는 도파관(130); 및상기 반응공간부(111)의 내부로 탄화수소체를 주입하는 탄화수소체 공급관(140);을 포함하고, 상기 이산화탄소 공급관(113)은, 이산화탄소와 공기 또는 이산화탄소와 스팀이 상호 혼합된 혼합물을 상기 반응공간부(111)의 내부로 주입하거나,상기 방전관(120) 또는 몸체부(110)의 둘레에는, 공기 또는 스팀을 상기 반응공간부(111)의 내부로 주입하는 공급관이 별도로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서,상기 이산화탄소 공급관(113)은,상기 몸체부(110)의 둘레를 따라 간격으로 이격되어 복수 개가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
4 4
제 3항에 있어서,상기 이산화탄소 공급관(113)은,상기 몸체부(110)의 둘레면에 대하여 접선(Tangent Line)된 형태로 형성되어, 외부로부터 공급되는 이산화탄소가 상기 몸체부(110)의 내벽면(115)에 의해 안내되어 와류를 형성하며 상기 반응공간부(111)으로 유입되면서 상기 플라즈마 및 메탄과 상호 혼합되며 반응하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
5 5
제 4항에 있어서,상기 이산화탄소 공급관(113)은,상기 몸체부(110)의 수평중심선(L)에 대하여 상부방향으로 일정각도로 기울어진 상태로 배치되어 상기 반응공간부(111)의 내부에 상향하면서 와류되는 이산화탄소를 주입하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
6 6
제 5항에 있어서,상기 탄화수소체 공급관(140)은,상기 방전관(120) 또는 몸체부(110)의 둘레를 따라 간격으로 이격되어 복수 개가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
7 7
제 6항에 있어서,상기 탄화수소체 공급관(140)은,상기 방전관(120) 또는 몸체부(110)의 둘레면에 대하여 접선(Tangent Line)된 형태로 형성되어, 외부로부터 공급되는 탄화수소체가 상기 방전관(120) 또는 몸체부(110)의 내벽면(115)에 의해 안내되어 와류를 형성하며 상기 반응공간부(111)로 유입되면서 상기 플라즈마 및 이산화탄소와 상호 혼합되며 반응하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
8 8
제 7항에 있어서,상기 탄화수소체 공급관(140)은,상기 방전관(120) 또는 몸체부(110)의 수평중심선(L)에 대하여 하부방향으로 일정각도로 기울어진 상태로 배치되어 상기 반응공간부(111)의 내부에 하향하면서 와류되는 이산화탄소를 주입하는 것을 특징으로 하는 건식 개질장치
9 9
제 1항에 있어서,상기 탄화수소체 공급관(140)로 공급되는 탄화수소체는, 메탄인 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
10 10
제 1항에 있어서,상기 탄화수소체 공급관(140)으로 공급되는 탄화수소체는,기체상태의 에탄, 프로판, 에틸렌, 부탄 또는, 액체상태의 DME, 가솔린, 경유, 등유, 벙커 C유, 정제된 폐유 또는 고체상태의 석탄, 바이오매스 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
11 11
제 10항에 있어서,상기 탄화수소체 공급관(140)은,상기 탄화수소체와 메탄이 상호 혼합된 혼합물을 상기 반응공간부(111)의 내부로 주입하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
12 12
제 1항에 있어서,상기 이산화탄소 공급관(113)에는,이산화탄소와 메탄이 상호 혼합된 혼합가스를 상기 반응공간부(111)의 내부로 주입하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
13 13
삭제
14 14
제 1항에 있어서,상기 플라즈마 개질기(200)는,내부에는 플라즈마가 생성되는 중공형태의 제1반응공간부(211)가 형성된 리액터부(210);상기 리액터부(210)의 상부에 배치되고, 상기 제1반응공간부(211)와 연통되는 중공형태의 제2반응공간부(221)가 형성되며, 양전하를 인가받는 애노드부(220);상기 애노드부(220)의 상부에서 애노드부(220)와 인접된 위치에 배치되며, 음전하를 인가받는 캐소드부(230); 및상기 애노드부(220)와 캐소드부(230)에 고전압을 인가하는 전원공급부(240);를 포함하되,상기 전원공급부(240)에 의해 고전압이 인가되면 상기 애노드부(220)와 캐소드부(230)의 전위차에 의해 아크가 발생하면서 플라즈마가 생성되어 상기 플라즈마를 통해 내부로 주입된 이산화탄소 또는 이산화탄소와 메탄의 혼합가스를 개질하여 상기 합성가스를 생성하는 아크 토치 플라즈마 건식 개질기인 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
15 15
제 14항에 있어서,상기 플라즈마 개질기(200)는,상기 리액터부(210)와 애노드부(220)의 간극을 통해 상기 이산화탄소 또는 이산화탄소와 메탄의 혼합가스를 주입하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
16 16
제 15항에 있어서,상기 플라즈마 개질기(200)는,상기 리액터부(210)의 상부에 복수 개의 애노드부(220)가 연속 배치되며,상기 복수 개의 애노드부(220)의 간극을 통해 상기 이산화탄소 또는 이산화탄소와 메탄의 혼합가스를 주입하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
17 17
제 1항 또는 제 14항에 있어서,상기 플라즈마 개질기(100,200)의 후단에 배치되어 상기 플라즈마 개질기(200)로부터 생성된 상기 합성가스를 공급받으며, 상기 합성가스에 포함된 이산화탄소를 흡수하는 CO2 흡수공정부(300);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
18 18
제 17항에 있어서,상기 CO2 흡수공정부(300)는,흡수한 이산화탄소를 상기 플라즈마 개질기(100,200)와 연결된 피드백라인(310)을 통해 상기 플라즈마 개질기(100,200)의 이산화탄소 공급루트로 피드백하여 공급하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
19 19
제 17항에 있어서,상기 CO2 흡수공정부(300)의 후단에 배치되어 이산화탄소가 제거된 합성가스를 공급받으며, 상기 합성가스에 포함된 수소와 일산화탄소를 이용하여 디메틸 에테르(DiMethyl Ether)를 합성하는 DME 제조공정부(400);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
20 20
제 17항에 있어서,상기 CO2 흡수공정부(300)의 후단에 배치되어 이산화탄소가 제거된 합성가스를 공급받으며, 상기 합성가스로부터 수소와 일산화탄소를 상호 분리하는 극저온 증류탑부(500);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
21 21
제 17항에 있어서,상기 CO2 흡수공정부(300)의 후단에 배치되어 이산화탄소가 제거된 합성가스를 공급받으며, 상기 합성가스를 연료로 하여 소정의 전기를 생성하는 발전부(600);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
22 22
제 21항에 있어서,상기 발전부(600)는,가스엔진, 가스터빈, 스팀터빈 또는 연료전지 중 어느 하나의 전기 생성장치인 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
23 23
제 1항 또는 제 14항에 있어서,상기 플라즈마 개질기(100,200)의 내벽 또는 내부에는 광촉매가 채워진 촉매반응공간이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 건식 개질장치
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US09731268 US 미국 FAMILY
2 US20150246337 US 미국 FAMILY
3 WO2014038907 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2015246337 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9731268 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2014038907 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.