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a) 제1전극 상부로 금속산화물 입자를 함유하는 슬러리를 도포하고 열처리하여 다공성 전자 전달층(electron transporting layer)을 형성하는 단계;b) 기공에 의한 표면을 포함한 상기 다공성 전자전달층의 표면에 무기 반도체를 형성하는 단계; c) 상기 무기 반도체가 형성된 다공성 전자 전달층에 하기 화학식 1인 유기 광전 물질(organic photovoltaic material)을 함유하는 용액을 함침하여 다공성 전자 전달층의 기공을 채우고 다공성 전자 전달층의 일 면을 덮는 정공 전달층(hole transporting layer)을 형성하는 단계; 및e) 상기 정공 전달층 상부로 제2전극을 형성하는 단계;를 포함하는 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,b) 단계의 상기 무기 반도체는 기공에 의한 표면을 포함한 상기 다공성 전자전달층의 표면에 접하여 형성된 나노입자인 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,a) 단계 전 제1전극 상부에 금속산화물 박막을 형성하는 단계가 더 수행되는 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,b) 단계는 화학적 용액성장법(CBD; chemical bath deposition method); 및 연속적인 화학적 반응법(SILAR; Successive Ionic Layer Adsorption and Reaction method);에서 하나 이상 선택된 방법으로 수행되는 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 무기 반도체는 기공에 의한 표면을 포함한 상기 전자 전달층의 표면을 덮는 막을 형성하는 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,a) 단계의 상기 도포는 금속산화물 입자를 함유한 슬러리를 이용하며, 스크린 프린팅(screen printing); 스핀코팅 (Spin coating); 바-코팅(Bar coating); 그라비아-코팅(Gravure coating); 블레이드 코팅(Blade coating); 및 롤-코팅(Roll coating);에서 하나 이상 선택된 방법으로 수행되는 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 유기 광전 물질은 P3HT[poly(3-hexylthiophene)], P3AT[poly(3-alkylthiophene)], P3OT[poly(3-octylthiophene] 및 PEDOT:PSS [Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate)]에서 하나 이상 선택된 물질인 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,c) 단계는 상기 함침에 의해, 상기 유기 광전 물질로 상기 다공성 전자 전달층의 기공이 채워지며 상기 유기 광전 물질과 상기 무기 반도체가 접하는 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 무기 반도체는 CdS, CdSe, CdTe, PbS, PbSe, Bi2S3, Bi2Se3, InP, InCuS2, In(CuGa)Se2, Sb2S3, Sb2Se3, SnSx(1≤x≤2), NiS, CoS, FeSy(1≤y≤2), In2S3, MoS, MoSe 및 이들의 합금에서 하나 이상 선택된 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 금속산화물 입자는 TiO2, SnO2, ZnO, WO3 및 Nb2O5에서 하나 이상 선택된 것인 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 무기 반도체의 평균 입자 직경은 0
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제 1항에 있어서,상기 다공성 전자 전달층의 비표면적은 10 내지 100 m2/g인 태양전지의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 다공성 전자 전달층의 두께는 0
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제 1항 내지 제13항에서 선택된 어느 한 항에 있어서,b) 단계 전, a2) 상기 금속 산화물 입자의 금속 원소를 함유하는 금속 전구체 용해액에 다공성 전자전달층을 함침한 후 열처리 하는 단계;를 더 포함하는 태양전지의 제조방법
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제 14항에 있어서,a) 단계의 상기 열처리 및 a2)단계의 상기 열처리는 각각 공기 중에서 200 내지 550 ℃로 수행되는 태양전지의 제조방법
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