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P형 반도체층과 N형 반도체층을 갖는 PN 반도체층;상기 PN 반도체층의 제1 면에 오믹 접합된 제1 전극;상기 PN 반도체층의 상기 제1 면과 반대방향을 향하는 제2 면에 쇼트키 접합된 쇼트키 접합층;상기 쇼트키 접합층과 접하도록 형성된 제2 전극; 및상기 쇼트키 접합층과 상기 PN 반도체층 사이에 배치되며 절연성을 갖는 물질로 이루어진 재결합 방지층;을 포함하는 태양 전지
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제1 항에 있어서,상기 재결합 방지층은 0
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제1 항에 있어서,상기 N형 반도체층이 상기 재결합 방지층과 접하도록 배치된 태양 전지
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제4 항에 있어서,상기 쇼트키 접합층은 상기 N형 반도체층 보다 더 큰 일함수를 갖는 태양 전지
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제1 항에 있어서,상기 P형 반도체층이 상기 재결합 방지층과 접하도록 배치된 태양 전지
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제6 항에 있어서,상기 쇼트키 접합층은 상기 P형 반도체층 보다 더 작은 일함수를 갖는 태양 전지
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8
제1 항에 있어서,상기 쇼트키 접합층은 금속으로 이루어진 태양 전지
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9
제1 항에 있어서,상기 쇼트키 접합층은 금속, ITO, ATO, IZO, AZO로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 물질로 이루어진 태양 전지
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10
제1 항에 있어서,상기 PN 반도체층은 웨이퍼로 이루어진 태양 전지
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11
제1 항에 있어서,상기 PN 반도체층은 유기물질로 이루어진 태양 전지
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12
제1 항에 있어서,상기 쇼트키 접합층 상에는 반사 방지막이 부착된 태양 전지
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13
제12 항에 있어서,상기 반사 방지막은 SiOx 또는 SiN으로 이루어진 태양 전지
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14
제12 항에 있어서,상기 반사 방지막은 0
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제1 항에 있어서,상기 제1 전극에는 광투과성 기판이 접하도록 배치되고,상기 PN 반도체층은 P형 반도체층과 N형 반도체층 및 상기 P형 반도체층과 상기 N형 반도체층 사이에 배치된 I(Intrinsic)형 반도체층을 갖는 박막 형태로 이루어진 태양 전지
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16
제1 항에 있어서,상기 PN 반도체층의 상기 제2 면에 오믹 접합되며, 상기 쇼트기 접합층에서 이격되어 상기 쇼트키 접합층과 나란하게 배치된 오믹 금속층을 더 포함하는 태양 전지
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17
제16 항에 있어서,상기 PN 반도체층의 제1 면에 쇼트키 접합되며, 상기 제1 전극과 나란하게 배치된 제2 쇼트키 접합층을 더 포함하는 태양 전지
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18
제17 항에 있어서,상기 제2 쇼트키 접합층은 상기 오믹 금속층과 상하 방향으로 대응되는 위치에 배치되고, 상기 쇼트키 접합층은 상기 제1 전극과 상하 방향으로 대응되는 위치에 배치된 태양 전지
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19
제16 항에 있어서,상기 쇼트키 접합층과 상기 제1 전극은 배선을 통해서 축전지에 전기적으로 연결되며, 상기 오믹 금속층과 상기 제1 전극은 배선을 통해서 전기적으로 연결된 태양 전지
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광투과성 기판;상기 광투과성 기판 상에 형성되며, P형 반도체층과 N형 반도체층을 포함하는 PN 반도체층;상기 PN 반도체층의 제1 면에 쇼트키 접합된 제1 쇼트키 접합층;상기 PN 반도체층의 상기 제1 면과 반대방향을 향하는 제2 면에 쇼트키 접합되며, 상기 광투과성 기판과 상기 PN 반도체층 사이에 배치된 제2 쇼트키 접합층;상기 제1 쇼트키 접합층 상에 형성된 전극; 및상기 제1 쇼트키 접합층과 상기 PN 반도체층 사이에 배치되며 절연성을 갖는 물질로 이루어진 제1 재결합 방지층과,상기 제2 쇼트키 접합층과 상기 PN 반도체층 사이에 배치되며 절연성을 갖는 물질로 이루어진 제2 재결합 방지층;을 포함하는 태양 전지
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제20 항에 있어서,상기 PN 반도체층은 상기 P형 반도체층과 상기 N형 반도체층 사이에 배치되며 진성 반도체로 이루어진 I형 반도체층을 포함하는 박막 형태로 이루어진 태양 전지
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제20 항에 있어서,상기 제1 쇼트키 접합층은 상기 N형 반도체층보다 일함수가 더 큰 물질로 이루어져서 상기 N형 반도체층에 쇼트키 접합되고, 상기 제2 쇼트키 접합층은 상기 P형 반도체층보다 일함수가 더 작은 물질로 이루어져서 상기 P형 반도체층에 쇼트키 접합된 태양 전지
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제20 항에 있어서,상기 제1 쇼트키 접합층은 상기 P형 반도체층보다 일함수가 더 작은 물질로 이루어져서 상기 P형 반도체층에 쇼트키 접합되고, 상기 제2 쇼트키 접합층은 상기 N형 반도체층보다 일함수가 더 큰 물질로 이루어져서 상기 N형 반도체층에 쇼트키 접합된 태양 전지
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P형 반도체층과 N형 반도체층을 갖는 PN 반도체층을 마련하는 PN 반도체층 준비 단계;상기 PN 반도체층 상에 절연성을 갖는 재결합 방지층을 형성하는 재결합 방지층 형성 단계;상기 PN 반도체층에 쇼트키 접합된 금속층을 형성하는 쇼트키 접합층 형성 단계; 및상기 쇼트키 접합층 상에 도전성을 갖는 전면 전극을 형성하는 전면 전극 형성 단계;를 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제25 항에 있어서,상기 PN 반도체층 형성 단계는 웨이퍼를 도핑하여 N형 반도체층을 형성하는 웨이퍼 도핑 단계와 PN 반도체층의 배면에 제1 전극을 형성하는 제1 전극 형성 단계를 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제25 항에 있어서,PN 반도체층 준비 단계는 N형 반도체층의 페르미 준위를 증가시키는 페르미 준위 조절 단계를 더 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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