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오염 물질 제거용 플라즈마 반응기 및 이의 구동 방법

  • 기술번호 : KST2016002457
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 설치 비용과 유지 비용을 줄이면서도 오염 물질의 처리 효율을 높이고 장시간 안정적인 운전이 가능한 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기 및 이의 구동 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기는, 서로간 거리를 두고 위치하는 적어도 2개의 접지 전극과, 접지 전극들 사이에 고정되어 접지 전극들을 연결하는 유전체와, 유전체의 외면에 형성되며 접지 전극들과 거리를 두고 위치하고 교류 전원부와 연결되어 구동 전압을 인가받는 적어도 하나의 구동 전극을 포함한다. 플라즈마, 반응기, 발생기, 접지전극, 구동전극, 유전체, 벽전하, 벽전압, 교류, 바이폴라
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01) H01L 21/302 (2006.01)
CPC H01J 37/32853(2013.01) H01J 37/32853(2013.01)
출원번호/일자 1020090098892 (2009.10.16)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1065013-0000 (2011.09.07)
공개번호/일자 10-2011-0041874 (2011.04.22) 문서열기
공고번호/일자 (20110915) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.16)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허민 대한민국 대전 유성구
2 차민석 대한민국 대전 유성구
3 이재옥 대한민국 대전 유성구
4 송영훈 대한민국 대전 유성구
5 김관태 대한민국 대전 서구
6 이대훈 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0635928-84
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.05.24 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2010-0039217-94
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0168570-16
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0397769-52
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.05.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0397770-09
9 등록결정서
Decision to grant		 2011.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0488169-26
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
저압 공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며, 저압 플라즈마를 발생하여 상기 저압 공정 챔버에서 발생된 오염 물질을 처리하는 플라즈마 반응기에 있어서, 서로간 거리를 두고 위치하는 적어도 2개의 접지 전극; 상기 접지 전극들 사이에 고정되어 상기 접지 전극들을 연결하는 유전체; 및 상기 유전체의 외면에 형성되며, 상기 접지 전극들과 거리를 두고 위치하고, 교류 전원부와 연결되어 구동 전압을 인가받는 적어도 하나의 구동 전극 을 포함하고, 상기 접지 전극들과 상기 유전체는 고리 모양으로 형성되며, 한 방향으로 이어져 관을 형성하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 접지 전극들 중 어느 하나는 상기 저압 공정 챔버와 연결되고, 다른 하나는 상기 진공 펌프와 연결되어 상기 접지 전극들이 이음관으로 기능하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
4 4
제1항에 있어서, 상기 유전체는 세라믹 또는 쿼츠로 제조되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
5 5
제1항, 제3항, 및 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구동 전극은 상기 유전체의 폭보다 작은 폭을 가지며, 상기 접지 전극들과 간격을 유지하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
6 6
제1항, 제3항, 및 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유전체의 외면에서 상기 구동 전극과 거리를 두고 위치하는 적어도 하나의 보조 접지 전극을 더욱 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
7 7
제6항에 있어서, 상기 유전체의 길이 방향을 따라 상기 보조 접지 전극, 상기 구동 전극, 및 상기 보조 접지 전극의 순서로 배치되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
8 8
제6항에 있어서, 상기 유전체의 길이 방향을 따라 상기 구동 전극, 상기 보조 접지 전극, 및 상기 구동 전극의 순서로 배치되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
9 9
제6항에 있어서, 상기 유전체의 길이 방향을 따라 복수의 구동 전극과 복수의 보조 접지 전극이 하나씩 교대로 배치되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
10 10
서로간 거리를 두고 위치하는 적어도 2개의 접지 전극과, 상기 접지 전극들 사이에 고정되어 상기 접지 전극들을 연결하는 유전체, 및 상기 유전체의 외면에서 상기 접지 전극들과 거리를 두고 위치하는 적어도 하나의 구동 전극을 포함하는 플라즈마 반응기에 있어서, 상기 구동 전극에 1kHz 내지 999kHz의 주파수를 가지는 구동 전압을 인가하여 저압 플라즈마를 발생하며, 상기 구동 전압은 증가부와 유지부 및 소멸부를 가지며, 하나의 주기에서 양의 전압 값과 음의 전압 값이 주기적으로 바뀌는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기의 구동 방법
11 11
삭제
12 12
제10항에 있어서, 상기 구동 전극의 투입 전력을 조절하여 플라즈마의 온도와 밀도를 변화시키며, 상기 투입 전력의 증가는 구동 전압 상승, 구동 주파수 상승, 및 구동 전압의 기울기 상승 중 어느 하나의 방법으로 구현하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기의 구동 방법
13 13
서로간 거리를 두고 위치하는 적어도 2개의 접지 전극과, 상기 접지 전극들 사이에 고정되어 상기 접지 전극들을 연결하는 유전체와, 상기 유전체의 외면에서 서로간 거리를 두고 위치하는 적어도 하나의 구동 전극 및 적어도 하나의 보조 접지 전극들을 포함하는 플라즈마 반응기에 있어서, 상기 구동 전극에 1kHz 내지 999kHz의 주파수를 가지는 구동 전압을 인가하여 저압 플라즈마를 발생하며, 상기 구동 전압은 증가부와 유지부 및 소멸부를 가지며, 하나의 주기에서 양의 전압 값과 음의 전압 값이 주기적으로 바뀌는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기의 구동 방법
14 14
삭제
15 15
제13항에 있어서, 상기 구동 전극에 인가되는 투입 전력을 조절하여 플라즈마의 온도와 밀도를 변화시키며, 상기 투입 전력의 증가는 구동 전압 상승, 구동 주파수 상승, 및 구동 전압의 기울기 상승 중 어느 하나의 방법으로 구현하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기의 구동 방법
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1 CN102085470 CN 중국 FAMILY
2 EP02312612 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 EP02312612 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
4 EP02312612 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
5 JP05473001 JP 일본 FAMILY
6 JP23083770 JP 일본 FAMILY
7 KR101063515 KR 대한민국 FAMILY
8 US08852520 US 미국 FAMILY
9 US20110089017 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102085470 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN102085470 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 JP2011083770 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP5473001 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US2011089017 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US8852520 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국기계연구원 2009년 주요사업 플라즈마 가스화 기술 개발