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후판 또는 강판용 다중 분사형 냉각 시스템

  • 기술번호 : KST2016002478
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 후판 또는 강판용 다중 분사형 냉각 시스템에 관한 것이며, 본 발명의 후판 또는 강판용 다중 분사형 냉각 시스템은 후판 또는 강판을 냉각하기 위한 냉각 시스템에 있어서, 상기 후판 또는 상기 강판을 이송하는 이송부; 상기 후판 또는 상기 강판 측으로 냉각수를 분사하는 복수개의 냉각수 분사부; 상기 복수개의 냉각수 분사부 각각을 둘러싸도록 배치되며, 상기 후판 또는 상기 강판 상에 잔류하는 냉각수가 제거되도록 상기 후판 또는 상기 강판 측으로 압축공기를 분사하는 공기 분사부;를 포함하고, 상기 공기 분사부는 상기 냉각수 분사부의 외주면으로부터 이격된 위치에 방사형으로 복수개가 마련되는 것을 특징으로 한다.따라서, 본 발명에 의하면, 후판 또는 강판 등의 냉각대상에 냉각수가 체류하는 현상을 방지하여 냉각수가 후판 또는 강판 등의 냉각대상에 직접적으로 접촉하도록 함으로써 냉각성능 및 냉각효율을 향상시킬 수 있는 후판 또는 강판용 다중 분사형 냉각 시스템이 제공된다.
Int. CL B21B 45/02 (2006.01)
CPC B21B 45/0218(2013.01) B21B 45/0218(2013.01) B21B 45/0218(2013.01)
출원번호/일자 1020120012045 (2012.02.06)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1167621-0000 (2012.07.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20120723) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.02.06)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정호 대한민국 대전 유성구
2 오동욱 대한민국 대전 유성구
3 도규형 대한민국 대전 유성구
4 김태훈 대한민국 경기도 안산시 상록구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.02.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0097061-22
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2012-0198006-12
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.04.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.04.24 수리 (Accepted) 9-1-2012-0034077-06
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0267661-41
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.06.01 수리 (Accepted) 1-1-2012-0441818-14
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.06.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0441870-78
8 등록결정서
Decision to grant
2012.07.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0385273-74
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
후판 또는 강판을 냉각하기 위한 냉각 시스템에 있어서,상기 후판 또는 상기 강판을 이송하는 이송부;상기 후판 또는 상기 강판 측으로 냉각수를 분사하는 복수개의 냉각수 분사부;상기 복수개의 냉각수 분사부 각각을 둘러싸도록 배치되며, 상기 후판 또는 상기 강판 상에 잔류하는 냉각수가 제거되도록 상기 후판 또는 상기 강판 측으로 압축공기를 분사하는 공기 분사부;를 포함하고,상기 공기 분사부는 상기 냉각수 분사부의 외주면으로부터 이격된 위치에 방사형으로 복수개가 마련되는 것을 특징으로 하는 후판 또는 강판용 다중 분사형 냉각 시스템
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제1항에 있어서,상기 공기 분사부는 슬릿(slit)형으로 구성되는 것을 특징으로 하는 후판 또는 강판용 다중 분사형 냉각 시스템
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 공기 분사부와 연결되어 분사되는 공기의 분사속도를 상기 각 공기분사 별로 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 후판 또는 강판용 다중 분사형 냉각 시스템
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5 5
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국기계연구원 지경부-국가연구개발사업(II) 고효율 무교정 후판 가속냉각 제어기술(1/3)