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잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법

  • 기술번호 : KST2016003650
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 몰드를 이용하여 임프린팅하는 방법에 있어서, 잔류 이미지 감광막 제거 공정이 필요없이 임프린팅하는 방법을 제공하는 것이다. 또한, 인쇄 롤 표면에 미세 패턴을 형성하는 방법에 대한 것이다. LCD, PDP, OLED 등의 평판 또는 유연 디스플레이 분야, 태양전지, 트렌지스터, RFID등은 롤 인쇄방법에 의해 제조되고 있다. 이러한 롤 인쇄방법은 롤 몰드에 패턴을 형성하고, 패턴이 형성된 롤 몰드를 이용하여 제조하게 된다. 보다 상세하게 임프린팅하는 방법에 있어서, 광에 반응하지 않는 희생층을 기판에 코팅하는 단계; 희생층을 고정시키기 위해 소프트 베이킹하는 단계; 희생층 위에 광에 의해 경화되는 감광제를 코팅하여 이미지 감광막을 형성하는 단계; 희생층 및 이미지 감광막을 임프린팅 몰드로 가압하는 단계; 몰드로 가압하여 패턴모양을 형성한 상태에서 광을 주사하여 이미지 감광막을 경화시키는 단계; 현상액으로 외부에 노출된 희생층을 제거하는 현상 단계; 이미지 감광막 및 희생층을 정렬하기 위한 하드 베이킹하는 단계; 기판에 금속을 증착하는 단계; 기판에 증착된 금속을 고정시키기 위해 소프트 베이킹하는 단계;및 희생층을 제거하여 기판 위에 미세 금속배선을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 희생층을 먼저 코팅하여 잔류 이미지 감광막의 제거 공정이 없이 임프린팅하는 방법에 대한 것이다. 희생층, 임프린팅, 이미지 감광막, UV 레이저 빔, 미세패턴
Int. CL B29C 59/02 (2006.01) H05K 3/20 (2006.01)
CPC H05K 3/1275(2013.01) H05K 3/1275(2013.01) H05K 3/1275(2013.01) H05K 3/1275(2013.01) H05K 3/1275(2013.01) H05K 3/1275(2013.01)
출원번호/일자 1020080092290 (2008.09.19)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1016215-0000 (2011.02.14)
공개번호/일자 10-2010-0033222 (2010.03.29) 문서열기
공고번호/일자 (20110225) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.09.19)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 양민양 대한민국 대전 유성구
2 윤홍석 대한민국 충북 청주시 상당구
3 김성범 대한민국 대전 유성구
4 전강민 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김문종 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)
2 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2008-0661194-98
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.02.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.03.18 수리 (Accepted) 9-1-2010-0017496-00
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0225345-86
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.07.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0460749-72
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0460748-26
7 등록결정서
Decision to grant
2010.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0551108-85
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
임프린팅하는 방법에 있어서, 광에 반응하지 않는 희생층(110)을 기판(100)에 코팅하는 단계; 상기 희생층(110)을 고정시키기 위해 소프트 베이킹하는 단계; 상기 희생층(110) 위에 상기 광에 의해 경화되는 감광제를 코팅하여 이미지 감광막(120)을 형성하는 단계; 상기 희생층(110) 및 상기 이미지 감광막(120)을 미세 패턴(210)이 형성된 롤 몰드(200)로 가압하는 단계; 상기 롤 몰드(200)로 가압하여 상기 미세 패턴(210)을 형성한 상태에서 상기 광을 주사하여 상기 이미지 감광막(120)을 경화시키는 단계; 현상액으로 외부에 노출된 희생층(140)을 제거하는 현상 단계; 상기 이미지 감광막(120) 및 상기 희생층(110)을 정렬하기 위한 하드 베이킹하는 단계; 상기 기판(100)에 금속막(300)을 증착하는 단계; 상기 기판(100)에 증착된 금속막(300)을 고정시키기 위해 소프트 베이킹하는 단계;및 상기 희생층(110)을 제거하여 상기 기판(100) 위에 미세 금속배선을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 롤 몰드(200)는, UV 광에 의해 경화 또는 분해되는 감광제를 롤 표면에 코팅하여 감광막(620)을 형성하는 단계; 상기 감광막(620)을 고정시키기 위해 소프트 베이킹하는 단계; 상기 감광막(620)에 UV 레이저 빔(700)을 주사하는 단계; 상기 UV 레이저 빔(700)이 주사된 감광막(620)을 선택적으로 제거하는 현상단계;및 현상 후 감광막(620)을 정렬하게 하기 위해 하드 베이킹하는 단계;를 포함하여 UV 레이저를 이용한 인쇄 롤 표면에 상기 미세패턴(210)을 형성하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서, 상기 감광제는 UV광에 의해 경화되는 것이고, 상기 기판(100) 전체에 UV광(400)을 주사하며 상기 이미지 감광막(120)을 경화하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
4 4
제 3항에 있어서, 상기 이미지 감광막을 경화하는 단계에서, 상기 UV 광의 광원은 상기 기판 하부에 위치하여 상기 UV 광을 주사하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 현상액은 상기 희생층(110)과는 반응하나 상기 경화된 이미지 감광막(130)과는 반응하지 않는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 희생층(110) 또는 상기 이미지 감광막(120)을 코팅하는 단계는 슬릿코팅, 스프레이 코팅, 아닐록스 롤을 이용한 코팅 또는 롤투룰 인쇄코팅인 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
7 7
삭제
8 8
제 1항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔(700)은, 3축 초정밀 스테이지 이송이 가능한 UV 레이저 주사장치를 통해 주사하여 미세패턴(210)을 형성하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
9 9
제 1항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔(700)이 주사된 감광막(620)을 선택적으로 제거하는 현상단계에서, 상기 UV 레이저에 의해 분해되는 감광막(620)의 경우는 상기 UV 레이저 빔(700)이 주사된 부분이 현상액에 의해 제거되며, 상기 현상액은 분해되지 않은 상기 감광막(620)과는 반응하지 않으나, 분해된 상기 감광막(620)과는 반응하는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
10 10
제 1항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔(700)이 주사된 감광막(620)을 선택적으로 제거하는 현상단계에서, 상기 UV 레이저 의해 경화되는 감광막(620)의 경우는 상기 UV 레이저 빔(700)을 주사하지 않은 부분이 현상액에 의해 제거되며, 상기 현상액은 경화된 감광막(620)에는 반응하지 않은 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
11 11
제 1항에 있어서, 상기 롤 표면(510)에 형성된 상기 미세패턴(210)의 폭(220)은 0
12 12
제 1항에 있어서, 상기 롤 표면(510)에 상기 미세패턴(210)이 형성된 면은 상기 미세패턴(210)이 형성되지 않은 면에 비해 상대적으로 넓은 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
13 13
제 8항에 있어서, 상기 UV 레이저 주사장치는, 상기 인쇄 롤(500)을 상기 롤(500)의 축선(880)을 기준으로 회전시키는 회전 수단; 상기 롤 표면(510)과 일정한 간격을 두고 상기 축선(880)과 평행하게 구비된 축(870); 상기 축(870)을 따라 이동하여 상기 롤 표면(510)에 상기 UV 레이저 빔(700)을 주사하는 UV 레이저 빔 형성수단(800);을 포함하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
14 14
제 13항에 있어서, 상기 회전 수단은, 속도 조절이 가능한 구동모터(820);와 상기 구동모터(820)와 연결되고 상기 축선(880)방향으로 설치되는 기어 축(840);과 상기 기어 축(840)을 지지하는 베어링(850)을 구비한 지지대(860);를 포함하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
15 15
제 13항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔 형성수단(800)은 UV 광을 발생하는 UV 레이저 다이오드(720);와 상기 UV 광이 투과되면서 초점(750)을 형성하는 렌즈(740);를 포함하여 상기 UV 광(730)을 상기 렌즈(740)에 투사하여 상기 초점으로 모아지는 UV 레이저 빔(700)을 형성하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
16 16
제 15항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔(700)의 직경(710)은 상기 UV 레이저 다이오드(720)의 파장 및 상기 렌즈(740)의 초점(750)과의 거리에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
17 17
제 16항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔(700)의 직경(710)은 0
18 18
제 13항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔 형성 수단(800)은 상기 축선(880)과 평행하게 1차원 운동을 하게 하고, 상기 롤(500)은 회전운동을 하여 상기 UV 레이저 빔(700)에 의해 2차원의 상기 미세패턴(210)을 형성하는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
19 19
제 18항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔 형성 수단(800)은 정밀도가 100㎚이하의 1축 초정밀 스테이지인 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
20 20
제 13항에 있어서, 상기 UV 레이저 빔 형성수단(800)은 롤(500)의 축선(880)과 수직인 방향으로 움직이는 것을 특징으로 하는 잔류 감광막이 없는 임프린팅 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.