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나노 임프린트 공정에서 스템프(Mask)에 가공된 패턴을 기판(Wafer)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로, 상기 기판이 놓여지는 진공척에 구비되는 회전테이블과, 상기 스템프의 패턴을 상기 기판에 적층할 때 X, Y축 방향으로 정렬하기 위해 이동하는 X, Y축 스테이지와, 상기 회전테이블과 상기 X, Y축 스테이지를 구동시켜주기 위해 상기 오차검출시스템에서 산출된 오차에 따라 상기 스템프와 상기 기판을 정렬시키기 위한 구동제어부, 및 상기 오차검출시스템에서 산출되는 오차를 입력받아 상기 구동제어부로 신호를 인가하는 장치제어부로 이루어지는 나노 임프린트 공정의 기판 정렬장치에 있어서,상기 오차검출시스템은 상기 스템프와 기판 각각에 지름이 다른 복수 개의 원이 일정 피치를 가지고 동심원 형태로 배열되는 격자를 적어도 2개 이상 형성하고, 이 스템프 격자와 기판 격자가 중첩되어 발생하는 모아레 무늬를 영상으로 획득한 후 수학적 알고리즘을 통해 해석하여 오차값을 산출하는 특징으로 하는 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치
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제 1항에 있어서, 상기 오차검출시스템은,상기 스템프 격자와 기판 격자가 중첩되었을 때 발생하는 모아레 무늬를 복수개의 광학계를 통해 각각 촬영하는 복수개의 CCD 카메라;상기 CCD 카메라로부터 획득한 모아레 무늬를 저장하는 영상저장부;상기 CCD 카메라로부터 획득한 모아레 무늬를 수학적 알고리즘으로 해석하는 모아레 해석부;상기 모아레 해석부에서 해석한 모아레 무늬를 통해 오차를 산출하여 상기 장치제어부로 전송하는 오차산출부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치
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제 1항에 있어서, 상기 구동제어부는,복수개의 위치에서 측정된 오차값을 가지고 X, Y축 스테이지와 회전테이블의 최종적인 구동량을 계산하는 구동량계산부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치
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제 1항에 있어서, 상기 스템프 격자와 기판 격자는,피치간격이 서로 다른 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 공정에서의 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치
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제 1항에 있어서, 상기 스템프 격자는,상기 기판 격자와 반경은 동일하되 격자가 하나 더 많은 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 공정에서의 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치
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나노 임프린트 공정에서 스템프(Mask)에 가공된 패턴을 기판(Wafer)에 적층시킬 때 상기 스템프와 상기 기판간의 위치오차를 산출하는 오차검출시스템에 의해 위치를 정렬시켜주는 것으로 상기 기판과 스템프를 정렬시키는 구동부와, 상기 구동부를 구동시키는 제어부에 있어서,상기 오차검출시스템은 스템프 격자의 중심을 기준으로 기판 격자 중심이 벗어난 오차량(각도)과 오차방향을 산출하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판 정렬장치
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