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플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 플라즈마 반응방법

  • 기술번호 : KST2016004279
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 플라즈마 반응방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 원료가 스월구조의 유입홀로 유입되도록 하여 유입되는 원료가 회전류를 형성면서 진행하게 되고, 이에 따라 상기 원료가 제한된 체적의 플라즈마 반응공간에서도 충분히 반응됨과 동시에 보다 빠른 고온 플라즈마 반응을 이룰 수 있으며, 또한, 반응로의 상부의 폭이 확장되어 형성된 광역챔버를 통해 플라즈마 반응대가 배출전 확장되도록 하고, 확장단에 전극과 일정 이격된 모서리가 형성되도록 하여 형성된 플라즈마가 팽창 및 정체됨에 따라 플라즈마 반응대의 불연속성을 배제시킬 수 있는 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 플라즈마 반응방법에 관한 것이다.플라즈마, 스월, 원추, 전극, 방전, 확장
Int. CL H05H 1/34 (2006.01)
CPC H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01) H01J 37/32458(2013.01)
출원번호/일자 1020050094929 (2005.10.10)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0586880-0000 (2006.05.29)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20060608) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.10.10)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김관태 대한민국 대전광역시 서구
2 송영훈 대한민국 대전광역시 유성구
3 이대훈 대한민국 대전 서구
4 이재옥 대한민국 대전광역시 유성구
5 차민석 대한민국 대전광역시 유성구
6 신완호 대한민국 충청북도 청주시 상당구
7 김석준 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 진용석 대한민국 대전광역시 서구 청사로 ***, 청사오피스텔 ***호 세빈 국제특허법률사무소 (둔산동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.10.10 수리 (Accepted) 1-1-2005-0571340-10
2 우선심사신청서
Request for Accelerated Examination		 2005.11.03 수리 (Accepted) 1-1-2005-0633819-10
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.02.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0071911-78
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.04.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0241144-17
5 의견서
Written Opinion		 2006.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2006-0241147-43
6 등록결정서
Decision to grant		 2006.05.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0305724-14
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
상단에 플라즈마 반응물을 배출시키기 위한 배출구(11)가 형성된 중공의 반응로(10)와;상기 반응로(10)의 내부로 플라즈마 반응을 위한 원료를 공급하기 위해 상기 반응로(10)의 하부에 연통되며, 상기 반응로(10)의 내부에 위치한 입구가 상기 반응로(10) 외주면의 법선방향과 일정 각도를 이루도록 경사지게 형성되어 공급되는 원료가 상기 반응로(10)의 내부에서 회전류를 형성하며 진행되도록 하는 원료유입관(20)과;상기 반응로(10)의 내부에 공급된 원료의 플라즈마 반응을 위한 방전전압을 생성시키기 위해 상기 반응로(10)의 저면으로 내입되며, 상기 반응로(10)의 내벽과는 일정간격 이격되는 전극(30);을 포함하여 구성되며, 상기 반응로(10)는 내부에 공급된 원료의 플라즈마 반응시 플라즈마 반응대를 확장시켜 일시 정체시키기 위한 광역챔버(17)가 형성되도록 상기 전극(30) 보다 상측에 위치한 구간의 폭이 확장됨을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 반응로(10)의 상기 전극(30) 보다 상측에 위치한 구간은 상기 반응로(10) 내부가 확장되는 시점에 모서리(19)가 형성되도록 직각 형태로 단을 지고 확장된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 전극(30)은 상부가 원추의 형상을 취하며 그 하부가 원기둥 형으로 연장된 형상을 가져 그 중앙 부위의 폭이 확장된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 반응로에는 상기 광역챔버(17)로 추가적인 원료가 공급되어 반응될 수 있도록 보조원료유입관(25)이 연통되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
5 5
플라즈마 반응방법에 있어서,상단에 플라즈마 반응물을 배출시키기 위한 배출구(11)가 형성된 중공의 반응로(10)에 원료유입관(20)을 연통시켜 상기 반응로(10)의 내부로 플라즈마 반응을 위한 원료를 공급시키되, 상기 원료유입관(20)은 상기 반응로(10)의 내부에 위치한 입구가 상기 반응로(10) 외주면의 법선방향과 일정 각도를 이루도록 경사지게 형성되어 공급되는 원료가 상기 반응로(10)의 내부에서 회전류를 형성하며 진행되도록 하고, 상기 반응로(10)의 저면으로는 상기 반응로(10)의 내벽과 일정간격 이격되는 전극(30)이 내입되어 공급되는 원료가 상기 반응로(10)의 내벽과 전극(30) 사이의 방전전압에 의해 플라즈마 반응되도록 하며, 상기 반응로(10)의 상기 전극(30) 보다 상측에 위치한 구간의 폭은 확장시켜 상기 반응로(10)의 내부에 광역챔버(17)가 형성되도록 하여, 상기 반응로(10)의 내부에 공급된 원료의 플라즈마 반응시 상기 광역챔버(17)에서 플라즈마 반응대가 확장되어 일시 정체되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치를 이용한 플라즈마 반응방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 반응로(10)의 상기 전극(30) 보다 상측에 위치한 구간은 상기 반응로(10)의 내부가 확장되는 시점에 모서리(19)가 형성되도록 직각 형태로 단을 지게 확장시킨 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치를 이용한 플라즈마 반응방법
7 7
제 5 항에 있어서,상기 전극(30)은 상부가 원추의 형상을 취하며 그 하부가 원기둥 형으로 연장된 형상을 가져 그 중앙 부위의 폭이 확장되도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치를 이용한 플라즈마 반응방법
8 8
제 5 항에 있어서,상기 반응로(10)에는 상기 광역챔버(17)로 추가적인 원료의 공급을 위한 보조원료유입관(25)을 연통시켜 상기 광역챔버(17) 상에서 추가되는 반응이 일어나도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치를 이용한 플라즈마 반응방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN101282782 CN 중국 FAMILY
2 CN101966423 CN 중국 FAMILY
3 CN101972621 CN 중국 FAMILY
4 EP01933975 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
5 EP01933975 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
6 EP02233196 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
7 EP02233203 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
8 EP02343114 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
9 EP02343114 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
10 JP04834736 JP 일본 FAMILY
11 JP05339220 JP 일본 FAMILY
12 JP21511247 JP 일본 FAMILY
13 JP24035260 JP 일본 FAMILY
14 KR100561199 KR 대한민국 FAMILY
15 KR100619237 KR 대한민국 FAMILY
16 KR100679868 KR 대한민국 FAMILY
17 US08524162 US 미국 FAMILY
18 US08568662 US 미국 FAMILY
19 US20100008831 US 미국 FAMILY
20 US20130039816 US 미국 FAMILY
21 WO2007043783 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN101282782 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN101282782 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 CN101966423 CN 중국 DOCDBFAMILY
4 CN101966423 CN 중국 DOCDBFAMILY
5 CN101972621 CN 중국 DOCDBFAMILY
6 CN101972621 CN 중국 DOCDBFAMILY
7 JP2009511247 JP 일본 DOCDBFAMILY
8 JP2012035260 JP 일본 DOCDBFAMILY
9 JP4834736 JP 일본 DOCDBFAMILY
10 JP5339220 JP 일본 DOCDBFAMILY
11 US2010008831 US 미국 DOCDBFAMILY
12 US8568662 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.