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반도체 웨이퍼를 세정하는 초음파 시스템에 있어서,일측에는 양극부(2)가 증착되고, 타측에는 음극부(3)가 증착되는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와, 초음파가 직진성을 갖는 니어필드(11)와 상기 초음파가 확산되어 중첩되는 파필드(12)로 구성되어 초음파음장(40)의 음압편차를 감소시키는 확산층(13)으로 구성되되, 상기 음극부(2)와 니어필드(11)가 접합되어 있는 초음파 장치와;상기 확산층(13)의 파필드(12)에 접합되며, 내부에 세정수(20)를 함유하는 세정조(30)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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반도체 웨이퍼를 세정하는 초음파 시스템에 있어서,일측에는 양극부(2)가 증착되고, 타측에는 음극부(3)가 증착되는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와, 상기 다수개의 빔확산용 압전소자(10)에 일측이 접합되는 확산층(13)으로 이루어지는 초음파 장치와;상기 확산층(13)이 양측에 각각 접합되며, 내부에 세정수(20)를 함유하는 세정조(30)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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반도체 웨이퍼를 세정하는 초음파 시스템에 있어서,일측에는 양극부(2)가 증착되고, 타측에는 음극부(3)가 증착되는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와, 상기 다수개의 빔확산용 압전소자(10)에 일측이 접합되는 확산층(13)으로 이루어지는 초음파 장치와;상기 확산층(13)이 저면 중심을 향해 길이방향으로 하향경사진 경사면에 접합되되, 내부에 세정수(20)를 함유하는 세정조(30)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 양극부(2)는 일정간격 이격되어 형성되는 다수개의 양극편(1)으로 구성되어 전원이 유입되되, 상기 양극편(1) 또는 빔확산용 압전소자(10)의 너비가 작아질수록 확산각을 크게 하는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 빔확산용 압전소자(10)는 횡과 종으로 이격되어 형성되되, 상기 빔확산용 압전소자(10)의 수축팽창으로 초음파가 발생되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 빔확산용 압전소자(10)는 횡 또는 종으로 이격되어 다중배열되되, 상기 빔확산용 압전소자(10)의 수축팽창으로 초음파가 발생되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세정조(30)는 내부에 공기, 네온, 수소, 질소, 산소, 헬륨, 아르곤 중 어느 하나가 주입되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 확산층(13)은 석영, 스테인리스강, 테플론, 알루미늄, 스틸 중 어느 하나의 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 2항 또는 제 3항에 있어서,상기 확산층(13)은 일측면이 상기 음극부(3)에 접합되며 초음파가 직진성을 갖는 니어필드(11)와, 상기 초음파가 확산되어 중첩되는 파필드(12)로 구성되어 상기 초음파음장(40)의 음압편차를 감소시키는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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