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반도체 웨이퍼를 세정하는 초음파 시스템에 있어서,일측에는 양극부(2)가 증착되고, 타측에는 음극부(3)가 증착되는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와, 상기 다수개의 빔확산용 압전소자(10)에 일측이 접합되는 확산층(13)으로 이루어지는 초음파 장치와;상기 확산층(13) 일측면에 접합되며, 내부에 세정수(20)를 함유하는 세정조(30)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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반도체 웨이퍼를 세정하는 초음파 시스템에 있어서,일측에는 양극부(2)가 증착되고, 타측에는 음극부(3)가 증착되는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와, 상기 다수개의 빔확산용 압전소자(10)에 일측이 접합되는 확산층(13)으로 이루어지는 초음파 장치와;상기 확산층(13)이 양측에 각각 접합되며, 내부에 세정수(20)를 함유하는 세정조(30)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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반도체 웨이퍼를 세정하는 초음파 시스템에 있어서,일측에는 양극부(2)가 증착되고, 타측에는 음극부(3)가 증착되는 다수개의 빔확산용 압전소자(10)와, 상기 다수개의 빔확산용 압전소자(10)에 일측이 접합되는 확산층(13)으로 이루어지는 초음파 장치와;상기 확산층(13)이 저면 중심을 향해 길이방향으로 하향경사진 경사면에 접합되되, 내부에 세정수(20)를 함유하는 세정조(30)와;상기 빔확산용 압전소자(10)에 전원을 공급하는 전원선(31);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 양극부(2)는 일정간격 이격되어 형성되는 다수개의 양극편(1)으로 구성되어 전원이 유입되되, 상기 양극편(1) 또는 빔확산용 압전소자(10)의 너비가 작아질수록 확산각을 크게 하는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 빔확산용 압전소자(10)는 횡과 종으로 이격되어 형성되되, 상기 빔확산용 압전소자(10)의 수축팽창으로 초음파가 발생되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 빔확산용 압전소자(10)는 횡 또는 종으로 이격되어 다중배열되되, 상기 빔확산용 압전소자(10)의 수축팽창으로 초음파가 발생되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 세정조(30)는 내부에 공기, 네온, 수소, 질소, 산소, 헬륨, 아르곤 중 어느 하나가 주입되는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 확산층(13)은 석영, 스테인리스강, 테플론, 알루미늄, 스틸 중 어느 하나의 소재로 이루어지되, 일측이 상기 음극부(3)에 접합되며 초음파가 직진성을 갖는 니어필드(11)와, 상기 초음파가 확산되어 중첩되는 파필드(12)로 구성되어 상기 초음파음장(40)의 음압편차를 감소시키는 것을 특징으로 하는 세정용 초음파 장치를 이용한 초음파 세정시스템
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