요약 | 보호층이 구비된 반사 방지 기판 및 그 제조 방법이 개시된다. 빛의 투과가 가능한 베이스 기판을 준비하는 단계; 건식 에칭 방식을 이용하여 베이스 기판의 표면에 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계 및 무기물 입자의 증착에 의해 복수의 돌기형 구조체 각각에 빛의 반사를 방지할 수 있는 반사 방지 구조체를 형성하여, 베이스 기판 표면에 반사 방지층을 형성하는 단계를 포함하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 및 그 제조 방법이 제공된다. |
---|---|
Int. CL | B82Y 30/00 (2011.01) B82B 1/00 (2006.01) G02B 1/10 (2006.01) G02B 1/11 (2006.01) |
CPC | B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01) B82B 1/008(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020120027763 (2012.03.19) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-1244889-0000 (2013.03.12) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20130318) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2012.03.19) |
심사청구항수 | 29 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 윤정흠 | 대한민국 | 경남 김해시 월산로 ***-**, |
2 | 나종주 | 대한민국 | 경기 성남시 분당구 |
3 | 이건환 | 대한민국 | 경기도 평택시 |
4 | 권정대 | 대한민국 | 경남 창원시 성산구 |
5 | 이성훈 | 대한민국 | 경남 창원시 마산회원구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인이지 | 대한민국 | 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***(가산동, KCC웰츠밸리) ***-*** |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2012.03.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0220164-80 |
2 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2012.03.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0224796-18 |
3 | [우선심사신청]선행기술조사의뢰서 [Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search |
2012.03.26 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | [우선심사신청]선행기술조사보고서 [Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search |
2012.03.30 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0025286-20 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2013.01.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0065707-16 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2013.02.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0144880-25 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2013.02.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0144872-60 |
8 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.03.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0165456-63 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 빛의 투과가 가능한 베이스 기판을 준비하는 단계; 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 베이스 기판의 일면에 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계; 무기물 입자의 증착에 의해 상기 복수의 돌기형 구조체 각각에 빛의 반사를 방지할 수 있는 반사 방지 구조체를 형성하여, 상기 베이스 기판의 상기 일면에 반사 방지층을 형성하는 단계; 및상기 베이스 기판의 타면에 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 보호층을 형성하는 단계는, Si, Al, Zn, Ti의 산화물 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 상기 보호층을 형성하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
3 |
3 제2항에 있어서,상기 보호층은, 1㎚ 이상 100㎚ 이하의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
4 |
4 제1항에 있어서, 상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계는, 플라즈마 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 베이스 기판의 표면에 상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
5 |
5 제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 상기 무기물 입자를 플라즈마 박막 증착하여 상기 반사 방지 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
6 |
6 제1항에 있어서, 상기 반사 방지 구조체는 20nm 이상 200nm 이하의 간격으로 배열되며,상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계는, 상기 반사 방지 구조체가 20nm 이상 200nm 이하의 간격으로 배열될 수 있도록 상기 복수의 돌기형 구조체의 직경 및 배열 간격을 조절하기 위하여 에칭 노출 시간을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
7 |
7 제6항에 있어서, 상기 에칭 노출 시간을 제어하는 단계는,상기 에칭 노출 시간을 7분 미만으로 하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
8 |
8 제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,서로 인접하여 배치되는 상기 반사 방지 구조체로 이루어지는 상기 반사 방지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
9 |
9 제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,구 형상의 상기 반사 방지 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
10 |
10 제1항에 있어서, 상기 반사 방지층을 형성하는 단계 이후에, 상기 반사 방지층에 연속 박막층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
11 |
11 제10항에 있어서, 상기 연속 박막층을 형성하는 단계는, 상기 무기물 입자와 동일한 물질을 이용하여 상기 연속 박막층을 형성하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
12 |
12 제10항에 있어서, 상기 연속 박막층은, 5nm 이상 100nm 이하의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
13 |
13 제1항에 있어서, 상기 베이스 기판의 표면에는 강화 코팅층이 구비될 수 있는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
14 |
14 제1항에 있어서, 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 복수의 돌기형 구조체를 형성하는 단계는, Ar, O2, H2, He 및 N2에서 선택된 적어도 어느 하나의 기체를 포함하여 건식 에칭하는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
15 |
15 제1항에 있어서, 상기 무기물 입자는, 금속물질 (Al, Ba, Be, Ca, Cr, Cu, Cd, Dy, Ga, Ge, Hf, In, Lu, Mg, Mo, Ni, Rb, Sc, Si, Sn, Ta, Te, Ti, W, Zn, Zr, Yb etc) 의 산화물(oxide)과 질화물(nitride), 그리고 산화물-질화물의 화합물(oxynitride: AlON, SiON) 및 불화 마그네슘(Magnesium fluoride)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
16 |
16 제1항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 불소계 투명 폴리머 필름, 아크릴계 투명 폴리머필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계열 투명 폴리머 필름, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리시클로올레핀, CR39 및 폴리우레탄(polyiourethane)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 제조 방법 |
17 |
17 빛의 투과가 가능한 베이스 기판; 상기 베이스 기판의 일면에 형성되는 복수의 돌기형 구조체; 상기 복수의 돌기형 구조체에 형성되며, 무기물 입자의 증착에 의하여 형성되는 반사 방지 구조체로 이루어지며, 상기 베이스 기판의 표면에 형성되는 반사 방지층; 및상기 반사 방지층의 타면에 형성되는 보호층을 포함하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
18 |
18 제17항에 있어서, 상기 보호층은, Si, Al, Zn, Ti의 산화물 중 적어도 어느 하나를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
19 |
19 제17항에 있어서, 상기 복수의 돌기형 구조체는, 플라즈마 건식 에칭 방식을 이용하여 상기 베이스 기판의 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
20 |
20 제17항에 있어서, 상기 반사 방지층은, 상기 무기물 입자를 플라즈마 박막 증착하여 형성되는 상기 반사 방지 구조체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
21 |
21 제17항에 있어서, 상기 반사 방지 구조체는,20nm 이상 200nm 이하의 간격으로 배열되는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
22 |
22 제17항에 있어서, 상기 반사 방지층은, 서로 인접하여 배치되는 상기 반사 방지 구조체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
23 |
23 제17항에 있어서, 상기 반사 방지 구조체는, 구 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
24 |
24 제17항에 있어서, 상기 반사 방지층에 형성되는 연속 박막층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 기판 |
25 |
25 제24항에 있어서, 상기 연속 박막층은, 상기 무기물 입자와 동일한 물질을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 기판 |
26 |
26 제25항에 있어서, 상기 연속 박막층은, 5nm 이상 100nm 이하의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 반사 방지 기판 |
27 |
27 제17항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 상기 베이스 기판의 표면에는 강화 코팅층이 구비될 수 있는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
28 |
28 제17항에 있어서, 상기 무기물 입자는, 금속물질 (Al, Ba, Be, Ca, Cr, Cu, Cd, Dy, Ga, Ge, Hf, In, Lu, Mg, Mo, Ni, Rb, Sc, Si, Sn, Ta, Te, Ti, W, Zn, Zr, Yb etc) 의 산화물(oxide)과 질화물(nitride), 그리고 산화물-질화물의 화합물(oxynitride: AlON, SiON) 및 불화 마그네슘(Magnesium fluoride)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
29 |
29 제17항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 불소계 투명 폴리머 필름, 아크릴계 투명 폴리머필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계열 투명 폴리머 필름, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에테르설폰, 폴리시클로올레핀, CR39 및 폴리우레탄(polyiourethane)에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비된 반사 방지 기판 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | KR101244879 | KR | 대한민국 | FAMILY |
2 | KR101244882 | KR | 대한민국 | FAMILY |
3 | KR101244883 | KR | 대한민국 | FAMILY |
4 | WO2013141442 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
DOCDB 패밀리 정보가 없습니다 |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-1244889-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20120319 출원 번호 : 1020120027763 공고 연월일 : 20130318 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130311 청구범위의 항수 : 29 유별 : G02B 1/11 발명의 명칭 : 보호층이 구비된 반사 방지 기판 및 그 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 588,000 원 | 2013년 03월 13일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 678,000 원 | 2015년 12월 09일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 678,000 원 | 2016년 12월 07일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 474,600 원 | 2017년 12월 18일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 601,000 원 | 2018년 12월 11일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 601,000 원 | 2019년 12월 10일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2012.03.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0220164-80 |
2 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 | 2012.03.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0224796-18 |
3 | [우선심사신청]선행기술조사의뢰서 | 2012.03.26 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
4 | [우선심사신청]선행기술조사보고서 | 2012.03.30 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0025286-20 |
5 | 의견제출통지서 | 2013.01.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0065707-16 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2013.02.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0144880-25 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2013.02.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0144872-60 |
8 | 등록결정서 | 2013.03.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0165456-63 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1711008495 |
---|---|
세부과제번호 | PNK3220 |
연구과제명 | 저투습저반사 산화물 보호막 제조 기술 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201201~201412 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1415125710 |
---|---|
세부과제번호 | PNK3070 |
연구과제명 | 저투습저반사 산화물 보호막 제조기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 산업기술연구회 |
연구주관기관명 | 재료연구소 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201201~201212 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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