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극저밀도 3차원 박막 구조체 제조용 리소그래피 장치

  • 기술번호 : KST2016004423
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 극저밀도 3차원 박막 구조체 제조용 리소그래피 장치에 관한 것이다. 상기 장치는, 판형 베이스; 상기 베이스의 상부에 위치하는 광 조사 유닛; 상기 광 조사 유닛을 베이스에 연결하는 서포트 유닛; 및 상기 베이스 상면에 설치되며, 감광성 수지 저장 용기가 장착된 리시버 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하며, 리소그래피 공정을 간단하면서도 정밀하게 수행함으로써 3차원 박막 구조체의 제조 효율성 및 안정성을 도모할 수 있다.
Int. CL G03F 7/20 (2006.01)
CPC G03F 7/20(2013.01) G03F 7/20(2013.01)
출원번호/일자 1020140032162 (2014.03.19)
출원인 전남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1576942-0000 (2015.12.07)
공개번호/일자 10-2015-0109521 (2015.10.02) 문서열기
공고번호/일자 (20151222) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.03.19)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전남대학교산학협력단 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강기주 대한민국 전라남도 담양군
2 한승철 대한민국 광주시 서구
3 이정우 대한민국 광주광역시 광산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인명인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층(역삼동, 두원빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전남대학교산학협력단 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2014-0263846-20
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.09.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.10.14 수리 (Accepted) 9-1-2014-0081430-81
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.03.13 수리 (Accepted) 1-1-2015-0249664-23
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0362031-63
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2015-5076218-57
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-0736194-66
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.08.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0770584-56
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.08.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0770583-11
10 등록결정서
Decision to grant
2015.11.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0823019-50
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.07.07 수리 (Accepted) 4-1-2016-5093177-51
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.03.30 수리 (Accepted) 4-1-2018-5056463-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
판형 베이스; 상기 베이스의 상부에 위치하는 광 조사 유닛; 상기 광 조사 유닛을 베이스에 연결하는 서포트 유닛; 및 상기 베이스 상면에 설치되며, 감광성 수지 저장 용기가 장착된 리시버 유닛을 포함하고,상기 광 조사 유닛은 제1 집광 렌즈, 핀홀 및 제2 집광 렌즈를 포함하는 평행광 전환부를 포함하는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 구조체 제조용 리소그래피 장치
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 핀홀의 직경은 2 mm인 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 구조체 제조용 리소그래피 장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 베이스 면을 XY 평면으로 할 때,상기 서포트 유닛은 상기 광 조사 유닛에 대한 Y,Z 변위 조절부와 수직 각도 조절부 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 구조체 제조용 리소그래피 장치
6 6
제 1 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 베이스 면을 XY 평면으로 할 때, 상기 리시버 유닛은 상기 감광성 수지 저장 용기에 대한 X,Y 변위 조절부와 수평 각도 조절부 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 구조체 제조용 리소그래피 장치
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 저장 용기 상면에는 보호판이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 극저밀도 3차원 박막 구조체 제조용 리소그래피 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 전남대학교 산학협력단 중견연구자지원사업(도전) 멀티스케일 초경량 금속의 제조법