요약 | 본 발명은 침입형 도핑재 첨가에 의해 적층결함이 형성된 Te계 열전재료에 관한 것으로,A-B-A-C-A 원소가 5개층으로 적층되는 단위셀과, 상기 단위셀 말단의 A원소와 다른 단위셀 말단의 A원소는 상호간에 반데르 발스 결합에 의해 반복 적층되는 구조를 가지는 Te계 열전재료에 있어서, 상기 반복적층되는 A원소와 인접한 A원소 사이에 도핑재인 침입형 원소가 침입 위치되어, 반복 적층되는 단위셀의 적층결함이 발생되어 상기 단위셀과는 다른 복합결정구조가 형성됨과 동시에 쌍정이 형성되는 침입형 도핑재 첨가에 의해 복합결정구조가 형성된 Te계 열전재료를(여기서 A는 Te 또는 Se 중 하나이고, B는 Bi 또는 Sb중 하나이고, C는 Bi 또는 Sb중 하나이다.) 기술적 요지로 한다. 이에 따라, Te계 열전재료에 은(Ag) 등의 침입형 도핑재를 첨가함에 의해 도핑재가 침입형 자리에 위치되어 열전재료의 격자 쌓임을 파괴하고 쌍정과 함께 적층결함에 의한 새로운 복합결정 구조를 형성시켜 열전성능을 향상시키는 이점이 있다. |
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Int. CL | H01L 35/16 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020140077124 (2014.06.24) |
출원인 | 한국전기연구원 |
등록번호/일자 | 10-1631858-0000 (2016.06.14) |
공개번호/일자 | 10-2016-0000152 (2016.01.04) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20160620) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2014.06.24) |
심사청구항수 | 4 |