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히드록시기 및 아민기 중 적어도 하나의 작용기를 포함하는 폴리이미드; 상기 폴리이미드를 포함하는 공중합체; 및 상기 폴리이미드 또는 공중합체로부터 열처리를 통해 유도된 열전환계 고분자로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 고분자를 포함하는 기체 분리막이며, 상기 기체 분리막은 불소로 표면 처리된 것인, 산소 및 질소의 기체 분리막
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제1항에 있어서, 상기 열전환계 고분자는 폴리피롤론, 폴리벤조옥사졸, 폴리벤조옥사졸-피롤론 공중합체, 폴리피롤론-이미드 공중합체 및 폴리벤조옥사졸-이미드 공중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상인, 산소 및 질소의 기체 분리막
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제1항에 있어서, 상기 산소 및 질소의 기체 분리막의 불소화도는 1 내지 100%인, 산소 및 질소의 기체 분리막
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제1항에 있어서, 상기 산소 및 질소의 기체 분리막의 산소(O2)/질소(N2) 선택도는 5
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히드록시기 및 아민기 중 적어도 하나의 작용기를 포함하는 폴리이미드; 상기 폴리이미드를 포함하는 공중합체; 및 상기 폴리이미드 또는 공중합체로부터 열처리를 통해 유도된 열전환계 고분자 중 적어도 하나의 고분자를 포함하는 기체 분리막을 준비하는 단계; 및 준비된 기체 분리막을 불소 가스를 이용하여 표면 처리하는 단계를 포함하는 산소 및 질소의 기체 분리막의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 표면 처리는 1ppm 내지 1부피%의 불소가스를 포함하는 혼합가스를 사용한 직접 불소화법에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 불소 처리된 고분자 기체 분리막의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 혼합가스는 불소가스와, 질소, 아르곤 또는 헬륨의 희석가스를 포함하는 불소 처리된 고분자 기체 분리막의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 표면 처리는 1분 내지 24시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 불소 처리된 고분자 기체 분리막의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 표면 처리는 제조되는 산소 및 질소의 기체 분리막이 1 내지 100%의 불소화도를 갖도록 수행되는, 산소 및 질소의 기체 분리막의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 기체 분리막을 준비하는 단계는,히드록시기 및 아민기 중 적어도 하나의 작용기를 포함하는 폴리이미드 또는 상기 폴리이미드를 포함하는 공중합체를 제조하는 단계; 및제조된 고분자를 비활성 가스 분위기 하에서 300 내지 450℃에서 30분 내지 12시간 동안 열처리하여 열전환계 고분자를 제조하는 단계를 포함하는, 산소 및 질소의 기체 분리막의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 열처리는 1℃/분 이상 20℃/분 미만의 승온 속도로 가열하며 수행되는, 산소 및 질소의 기체 분리막의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 열전환계 고분자는 폴리피롤론, 폴리벤조옥사졸, 폴리벤조옥사졸-피롤론 공중합체, 폴리피롤론-이미드 공중합체 및 폴리벤조옥사졸-이미드 공중합체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상인, 산소 및 질소의 기체 분리막의 제조방법
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