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표면 처리된 파릴렌 박막으로서;상기 파릴렌 박막은 표면이 자외선에 의하여 표면 개질되어 파릴렌 박막 표면의 적어도 일부는 C-O, C=O 및 O-C=O 결합 중 적어도 하나의 결합을 갖는 것을 특징으로 하는 표면 처리된 파릴렌 박막
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청구항 1에 있어서, 상기 파릴렌 박막은 파릴렌 N 박막인 것을 특징으로 하는 표면 처리된 파릴렌 박막
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청구항 1에 있어서, 상기 파릴렌 박막은 파릴렌 A, 파릴렌 F, 파릴렌 C, 파릴렌 H 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 표면 처리된 파릴렌 박막
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청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 자외선은 260nm 이하의 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 표면 처리된 파릴렌 박막
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파릴렌 박막을 형성하는 단계 및 상기 증착된 파릴렌 박막에 자외선을 조사하여 파릴렌 박막 표면의 적어도 일부가 C-O, C=O 및 O-C=O 결합 중 적어도 하나의 결합을 갖도록 파릴렌 박막의 표면을 개질하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 파릴렌 박막의 제조방법
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청구항 5에 있어서, 상기 파릴렌 박막을 형성하는 단계는: 파릴렌 다이머를 파릴렌을 기화시키는 단계, 상기 기화된 파릴레 다이머를 열분해하여 중간 생성물을 형성하는 단계, 및 상기 중간생성물을 증착 챔버 내부로 도입하여, 상기 증착 챔버 내부에 형성된 기판 위에 파릴렌 박막을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 파릴렌 박막의 제조방법
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7
청구항 6에 있어서, 상기 파릴렌 박막을 형성하는 단계는 상기 파릴렌 박막에 -CHO, -Cl, -NH2 및 -F중 적어도 하나의 기능기를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파릴렌 박막의 제조방법
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청구항 6 또는 청구항 7에 있어서, 상기 자외선은 260nm 이하의 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 파릴렌 박막의 제조방법
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기재와, 상기 기재상에 형성되며 1 내지 100nm의 두께로 코팅되는 파릴렌 코팅막을 포함하는 바이오 센서로서, 상기 파릴렌 코팅막은 표면이 자외선에 의하여 표면 개질되어 파릴렌 박막 표면의 적어도 일부는 C-O, C=O 및 O-C=O 결합 중 적어도 하나의 결합을 갖는 것을 특징으로 하는 바이오 센서
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청구항 9에 있어서, 상기 파릴렌 박막은 파릴렌 N 박막인 것을 특징으로 하는 바이오 센서
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청구항 9에 있어서, 상기 파릴렌 박막은 파릴렌 A, 파릴렌 F, 파릴렌 C, 파릴렌 H 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 바이오 센서
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청구항 9 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 자외선은 260nm 이하의 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 바이오 센서
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