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내부에 증발 물질 수용 공간 및 상기 증발 물질 수용 공간의 위에 있는 플라즈마 발생 공간을 갖는 도가니;상기 증발 물질 수용 공간 내의 증발 물질;상기 증발 물질을 기화시키도록 구성된 가열 수단;상기 플라즈마 발생 공간에 위치하고, 상기 가열 수단에 의해 기화된 증발 물질의 플라즈마를 유도하도록 구성된 플라즈마 발생 수단;상기 도가니의 상면에 형성되어 있고, 상기 플라즈마화된 증발 물질을 상기 도가니 밖으로 안내하도록 구성된 방출부를 포함하는, 플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생 수단은, 두 개의 고리 타입 전극을 포함하고,상기 두 개의 고리 타입 전극은 상기 도가니의 종축 방향에 따라 서로 이격되어 상기 도가니의 외면의 둘레에 끼워져 있으며,상기 두 전극에 전압을 인가하여 상기 이격된 두 전극 사이에 용량성 결합 플라즈마(CCP)가 형성되는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생 수단은, 두 개의 플레이트 타입 전극을 포함하고,상기 두 개의 플레이트는 각각 하나 이상의 개구를 포함하며,상기 두 개의 플레이트 타입 전극의 플레이트 면이 상기 도가니의 횡단면에 평행하도록 상기 도가니 내에 위치하고, 상기 두 개의 플레이트 타입 전극은 상기 도가니의 종축 방향에 따라 서로 이격되어 있으며, 상기 두 전극에 전압을 인가하여 상기 이격된 두 전극 사이에 용량성 결합 플라즈마(CCP)가 형성되는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생 수단은, 유도 결합 플라즈마를 위한 코일을 포함하고,상기 코일은 상기 도가니의 종축 방향에 따라 상기 도가니의 외면의 둘레에 감겨져 있으며,상기 코일에 고주파를 인가하여 상기 코일 내에 유도 결합 플라즈마(ICP)가 형성되는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생 수단은, 두 개의 고리 타입 전극; 및 상기 두 개의 고리 타입 전극을 서로 통전하도록 종방향 연결하는 연결부재를 포함하며,상기 두 개의 고리 타입 전극은 상기 도가니의 종축 방향에 따라 서로 이격되어 상기 도가니의 외면의 둘레에 끼워져 있으며,상기 두 전극에 고주파를 인가하여 상기 이격된 두 전극 사이 내에 유도 결합 플라즈마(ICP)가 형성되는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 1항에 있어서,상기 방출부는 상기 도가니의 내부 빛이 상기 도가니의 외부로 보이지 않도록 구성됨을 특징으로 하는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 6항에 있어서,상기 방출부는 상기 도가니 종방향에 따라 서로 이격 설치된 두 개의 플레이트를 포함하고, 상기 두 플레이트는 각각 개구를 포함하며, 상기 두 플레이트에 형성된 각각의 개구를 잇는 종방향의 라인은 상기 도가니의 종축 방향과 평행하지 않은,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 7항에 있어서,상기 두 개의 플레이트는 도가니 외면에 해당하는 상면 플레이트 및 상기 상면 플레이트 아래에 위치하는 하면 플레이트를 포함하고,상기 상면 플레이트는 하나 이상의 제 1 개구를 포함하며,상기 하면 플레이트는 상기 제 1 개구 주위에 하나 이상의 제 2 개구를 포함하는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 1 항에 있어서,상기 가열수단은, 상기 도가니의 외부 둘레에 배치된 히터임을 특징으로 하는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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제 9 항에 있어서,상기 히터의 외부 둘레에 배치된 방열판을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,플라즈마 보조 물리 기상 증착원
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챔버;상기 챔버 내의 상부에 위치하고, 증발 물질이 증착될 기판; 및상기 기판 아래에 위치하는, 제 1항의 플라즈마 보조 물리 기상 증착원을 포함하는,물리 기상 증착 장치
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