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플라즈마를 이용한 수처리 장치로서,피처리수가 흐를 수 있는 면으로서 중력 작용 방향에 평행하게 위치하는 유체공급면을 갖는 제1 전극체;상기 유체공급면과 일정 거리 이격되게 위치하는 제2 전극체; 및상기 제1 전극체 및 상기 제2 전극체에 전기적으로 연결되는 전원공급장치를 포함하고,상기 제1 전극체 및 상기 제2 전극체 사이로 방전가스가 주입되고,상기 피처리수는 상기 유체공급면에 공급되되 수표면이 상기 제2 전극체와 이격될 수 있는 얇은 층으로 공급되고,상기 전원공급장치는 상기 제2 전극체에 고전압을 인가하여 상기 유체공급면 및 상기 제2 전극체 사이에서 상기 피처리수의 수표면 위로 플라즈마 영역을 형성하는,플라즈마를 이용한 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 제2 전극체는 2개 이상 적층되고,적층된 각각의 제2 전극체의 사이에는 절연체가 위치하고,적층된 각각의 제2 전극체는 상기 전원공급장치에 일대일로 연결되는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 수처리 장치
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제2항에 있어서,상기 장치는,상기 적층된 각각의 제2 전극체를 상기 전원공급장치와 일대일로 연결하는 금속와이어들을 포함하고,상기 적층된 각각의 제2 전극체는 절연영역을 포함하고,상기 금속와이어들의 개수는 상기 적층된 제2 전극체의 개수와 같고,각각의 금속와이어가 상기 적층된 각각의 대응 제2 전극체를 상기 전원공급장치와 연결할 때, 각각의 금속와이어는 상기 대응 제2전극체 이외의 제2 전극체들의 적층 방향을 따라 상기 절연영역을 통과하여 각각의 대응 제2 전극체들의 전원연결 가능한 부분에 일대일로 연결되는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 수처리 장치
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제3항에 있어서,상기 제2 전극체는, 상기 적층 방향에 평행하게 연장된 제1 냉각수통로를 포함하고,상기 절연체는, 상기 적층 방향에 평행하게 연장되고 상기 제1 냉각수통로와 유체 소통 가능하게 연결된 제2 냉각수통로를 포함하는,플라즈마를 이용한 수처리 장치
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제4항에 있어서,상기 장치는,상기 각각의 적층된 제2 전극체 및 상기 절연체 사이에 개재되는 오링을 더 포함하고,상기 제1 냉각수통로 및 제2 냉각수통로는 상기 오링의 내측에 위치하는,플라즈마를 이용한 수처리 장치
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제1항에 있어서,상기 제1 전극체는 원통형 실린더 형태이고,상기 유체공급면은 상기 원통형 실린더의 내면이고,상기 제2 전극체는 상기 원통형 실린더 내에 삽입되고,상기 전원공급장치는 상기 원통형 실린더의 외부에 위치하여 상기 제1 전극체 및 제2 전극체에 전기적으로 연결되어 있고,상기 원통형 실린더에는, 상기 원통형 실린더 내로 상기 방전가스를 공급하는 방전가스 주입관 및 상기 유체공급면을 향해 피처리수를 공급하는 피처리수 주입관이 설치되는,플라즈마를 이용한 수처리 장치
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제6항에 있어서,상기 피처리수 주입관은 상기 원통형 실린더의 내면의 접선 방향으로 설치되는,플라즈마를 이용한 수처리 장치
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