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이온 빔 공급 장치 및 이를 포함하는 고진공 정전기 제거 시스템

  • 기술번호 : KST2016004819
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  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 이온 빔 공급 장치는 플라즈마를 발생시키거나 발생된 플라즈마를 수용하는 플라즈마 수용부, 플라즈마 수용부로 플라즈마를 주입하거나 플라즈마 소스 가스를 주입하는 주입부, 플라즈마 수용부와 연결되어 플라즈마를 외부로 배출하는 차동펌프 및 플라즈마 수용부의 플라즈마 내의 이온을 진공계로 가이드하는 이온 방출부를 포함한다.
Int. CL H01J 27/02 (2006.01) H05F 3/00 (2006.01)
CPC H01J 27/02(2013.01) H01J 27/02(2013.01) H01J 27/02(2013.01)
출원번호/일자 1020140072677 (2014.06.16)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1622320-0000 (2016.05.12)
공개번호/일자 10-2015-0144054 (2015.12.24) 문서열기
공고번호/일자 (20160518) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.06.16)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이강일 대한민국 전라북도 군산시
2 최용섭 대한민국 전라북도 군산시
3 정용호 대한민국 서울특별시 광진구
4 김영우 대한민국 경기도 화성
5 박종배 대한민국 전라북도 군산시 백토로 *** *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.06.16 수리 (Accepted) 1-1-2014-0557429-67
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.04.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.06.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0046186-75
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0395395-28
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.08.12 수리 (Accepted) 1-1-2015-0780649-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.08.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0780648-69
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0908757-42
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.01.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0014712-17
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.02.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0137381-40
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0368960-81
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0368951-70
12 등록결정서
Decision to grant
2016.05.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0340901-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공계 챔버; 및상기 진공계 챔버와 연결되고, 플라즈마를 발생시키거나 발생된 플라즈마를 수용하는 플라즈마 수용부, 상기 플라즈마 수용부로 플라즈마를 주입하거나 플라즈마 소스 가스를 주입하는 주입부, 상기 플라즈마 수용부와 연결되어 플라즈마를 외부로 배출하는 차동펌프 및 상기 플라즈마 수용부의 플라즈마 내의 이온을 진공계로 가이드하는 이온 방출부를 포함하는 이온 빔 공급 장치를 포함하고,상기 이온 방출부는 하나 이상의 분사구들이 형성된 적어도 1개 이상의 노즐 기판을 포함하고,상기 이온 방출부는 상기 진공계 챔버 내에 배치되고,상기 주입부는 플라즈마 또는 플라즈마 소스 가스를 상기 진공계 챔버의 외부로부터 상기 플라즈마 수용부로 제공하고,상기 차동펌프는 상기 플라즈마 수용부 내의 플라즈마에 컨덕턴스를 형성하도록 상기 진공계 챔버의 외부로 차동 펌핑하며,상기 진공계 챔버가 상기 플라즈마 수용부보다 상대적으로 고진공인 것을 특징으로 하는,고진공 정전기 제거 시스템
2 2
제1항에 있어서,상기 이온 방출부가 2개 이상의 노즐 기판들을 포함하는 경우에는 상기 플라즈마 수용부 상에 순차적으로 서로 이격되어 배치된 것을 특징으로 하는,고진공 정전기 제거 시스템
3 3
제2항에 있어서,상기 이온 방출부는진공계와 접하는 노즐 기판의 가장 자리를 따라 형성된 둘레 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는,고진공 정전기 제거 시스템
4 4
제3항에 있어서,상기 둘레 전극은 교류 전압을 인가 받는 것을 특징으로 하는,고진공 정전기 제거 시스템
5 5
제1항에 있어서,상기 이온 방출부는 상기 플라즈마 수용부로부터 전자 및 양이온 방출을 위한 펄스 전압을 인가받는 것을 특징으로 하는,고진공 정전기 제거 시스템
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서,상기 진공계 챔버에서 롤투롤(Roll to Roll) 공정이 수행되는 것을 특징으로 하는,고진공 정전기 제거 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.