맞춤기술찾기

이전대상기술

미세 입자 분리용 플레이트 및 이의 제조 방법(PLATE FOR SEPARATING PARTICLES AND MANUFACTURING METHOD THEREOF)

  • 기술번호 : KST2016004843
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 입자 분리를 위하여 사용될 수 있는 미세 입자 분리용 플레이트 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 공정에 의하여 2차원적으로 평판 타입으로 제조되어 미세 입자 표면에 부착능이 우수할 뿐만 아니라, 구성하는 층의 종류에 따라 원하는 물성을 부여함으로써 미세 입자에 대한 분리능이 우수한 새로운 구조의 미세 입자 분리용 플레이트 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL A61K 49/08 (2006.01) A61K 49/12 (2006.01) A61K 49/06 (2006.01)
CPC A61K 49/186(2013.01) A61K 49/186(2013.01) A61K 49/186(2013.01) A61K 49/186(2013.01)
출원번호/일자 1020140074062 (2014.06.18)
출원인 인제대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1625005-0000 (2016.05.23)
공개번호/일자 10-2015-0144959 (2015.12.29) 문서열기
공고번호/일자 (20160527) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.06.18)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인제대학교 산학협력단 대한민국 경남 김해시 인제로 *

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한기호 대한민국 부산광역시 동래구
2 한송이 대한민국 경상남도 김해시 인제
3 김진호 대한민국 부산광역시 해운대구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 하나 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 *, *층(역삼동, 삼흥역삼빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인제대학교 산학협력단 경남 김해시 인제로 *
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.06.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-0567331-71
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.02.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.04.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0023145-69
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.11.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0774075-68
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.01.11 수리 (Accepted) 1-1-2016-0026961-05
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2016-0126482-59
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2016-0227376-19
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0346198-91
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2016-0346180-70
10 등록결정서
Decision to grant
2016.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0366603-07
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.06.26 수리 (Accepted) 4-1-2017-5100061-64
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2017-5214791-60
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5082225-25
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149036-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1 또는 2 이상의 자성물질층; 상기 자성물질층의 일면 또는 양면에 형성되는 표면층; 및상기 표면층에 결합된 생체 분자를 포함하고, 상기 자성물질은 Co, Mn, Fe, Ni, 및 Gd으로 이루어진 군으로부터 하나 이상을 포함하고, 상기 표면층은 폴리포스파젠, 폴리락티드, 폴리락티드-코-글리콜라이드, 폴리카프로락톤, 폴리안하이드라이드, 폴리말릭산, 폴리알킬시아노아크릴레이트, 폴리하이드로옥시부틸레이트, 폴리카보네이트 및 폴리오르소에스테르, 폴리프로필렌글리콜(PPG), 폴리옥시프로필렌(PPO) 폴리-L-라이신, 폴리글리콜라이드, 폴리 알킬(메타)아크릴레이트, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜, 폴리옥시에틸렌(PEO), 폴레에테르이미드(PEI), 폴리비닐피롤리돈(PVP) 및 N-이소프로필아크릴아미드(NIPAM)로 이루어진 그룹 중에서 선택된 고분자를 포함하고, 상기 생체 분자는 항원, 항체, 핵산, 합텐(hapten), 아비딘(avidin), 스트렙타비딘(streptavidin), 뉴트라비딘(neutravidin), 프로테인 A, 프로테인 G, 렉틴(lectin), 셀렉틴(selectin), 방사선 동위원소 표지성분 및 종양 마커와 특이적으로 결합할 수 있는 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상이고, 두께에 대한 직경의 비가 10 이상 100 이하이고, 곡률 반경이 무한대인 플레이트
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 플레이트의 직경이 30 내지 3000 nm 인 플레이트
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 표면층은 2개 이상인 것인 플레이트
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
제1항, 제2항 및 제7항 중 어느 한 항에 따른 플레이트의 제조 방법으로, 상기 방법은:기판을 준비하는 제 1 단계;상기 기판 상부에 분리층을 증착시키는 제 2 단계; 상기 분리층 상부에 자성물질층을 증착시키는 제 3 단계; 상기 자성물질층 상부에 플레이트 형성을 위한 포토레지스트 패턴을 형성하는 제 4 단계; 상기 포토레지스트 패턴이 형성되지 않은 부분을 선택적으로 에칭하는 제 5 단계; 상기 분리층을 에칭시키는 제 6 단계; 및기판으로부터 플레이트를 분리시키는 제 7 단계; 를 포함하는 것인, 플레이트의 제조 방법
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 분리층 상부에 제 1 표면층을 증착시키는 단계를 더 포함하는 플레이트의 제조 방법
13 13
제 11 항에 있어서, 상기 자성 물질층 상부에 제 2 표면층을 증착시키는 단계를 더 포함하는 플레이트의 제조 방법
14 14
제 11 항에 있어서, 상기 제 1 단계와 제 2 단계 사이에 기판 상부에 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플레이트의 제조 방법
15 15
제 11 항에 있어서, 상기 제 3 단계 및 제 4 단계를 반복 수행하는 것을 특징으로 하는 플레이트의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.