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애노드;상기 애노드 상의 타깃;상기 타깃 및 상기 애노드와 이격하여 배치되고, 상기 타깃에 전자 빔을 제공하는 에미터를 갖는 캐소드; 및상기 캐소드와 상기 애노드 사이에 배치되고, 상기 타깃 및 상기 에미터를 주위를 둘러싸는 측벽을 포함하되,상기 측벽은 상기 전자 빔과 상기 타깃의 충돌로부터 발생되는 광을 상기 캐소드에 반사하고, 상기 캐소드와 상기 애노드 사이를 전기적으로 절연하는 엑스선 튜브
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제 1 항에 있어서,상기 측벽은 산화물을 포함하는 엑스선 튜브
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제 2 항에 있어서,상기 산화물은 알루미늄 산화물을 포함하는 엑스선 튜브
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제 2 항에 있어서,상기 산화물은 실리콘 산화물을 포함하는 엑스선 튜브
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제 1 항에 있어서,상기 측벽들의 내벽으로부터 돌출되어 상기 타깃에서 생성된 상기 광을 상기 에미터에 반사하는 반사 블록들을 더 포함하는 엑스선 튜브
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제 5 항에 있어서, 상기 반사 블록들은 상기 반사체는 상기 애노드에서 상기 캐소드의 방향으로 갈수록 상기 측벽들에 대해 기울기가 증가되는 제 1 반사면들을 갖는 엑스선 튜브
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제 5 항에 있어서, 상기 반사 블록들은 비늘 모양을 갖는 엑스선 튜브
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제 5 항에 있어서, 상기 반사 블록들은 금속 산화물 또는 절연 산화물을 포함하는 엑스선 튜브
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제 1 항에 있어서, 상기 측벽들의 내벽으로부터 상기 에미터에 상기 광을 집중하는 반사체를 더 포함하는 엑스선 튜브
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10
제 9 항에 있어서,상기 반사체는 상기 애노드에서 상기 캐소드의 방향으로 갈수록 반경이 줄어드는 제 2 반사면을 갖는 엑스선 튜브
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제 10 항에 있어서,상기 제 2 반사 면은 U자, 포물선, 종, 깔때기, 또는 나팔 모양을 갖는 엑스선 튜브
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제 9 항에 있어서,상기 반사체는 금속 산화물 또는 절연 산화물을 포함하는 엑스선 튜브
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제 1 항에 있어서,상기 애노드와 상기 캐소드 사이에 배치되고, 상기 애노드 및 상기 캐소드 사이의 전자 빔을 단속하는 게이트를 더 포함하되,상기 측벽은:상기 애노드와 상기 게이트 사이의 상부 측벽; 및상기 게이트와 상기 캐소드 사이의 하부 측벽을 포함하는 엑스선 튜브
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제 13 항에 있어서,상기 상부 측벽들의 내벽 상에 배치되고, 상기 타깃에서 생성된 상기 광을 상기 에미터에 반사하는 반사 블록들을 더 포함하는 엑스선 튜브
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제 14 항에 있어서, 상기 반사 블록들은 상기 반사체는 상기 애노드에서 상기 캐소드의 방향으로 갈수록 상기 측벽들에 대해 기울기가 증가되는 제 1 반사면들을 갖는 엑스선 튜브
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제 14 항에 있어서, 상기 반사 블록들은 비늘 모양을 갖는 엑스선 튜브
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제 14 항에 있어서, 상기 측벽은 원통 튜브 모양을 갖되,상기 반사 블록들은 상기 측벽의 내벽을 따라 형성된 링 모양을 갖는 엑스선 튜브
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제 13 항에 있어서, 상기 상부 측벽들의 내벽 상에 배치되고, 상기 에미터에 상기 광을 집중하는 반사체를 더 포함하는 엑스선 튜브
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제 18 항에 있어서,상기 반사체는 상기 애노드에서 상기 캐소드의 방향으로 갈수록 반경이 줄어드는 제 2 반사면을 갖는 엑스선 튜브
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제 19 항에 있어서,상기 제 2 반사 면은 U자, 포물선, 종, 깔때기, 또는 나팔 모양을 갖는 엑스선 튜브
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