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아미노기를 가진 화합물, 이소시아네이트기를 가진 화합물, 및 용매를 포함하는 유기졸을 준비하는 단계;상기 유기졸에 무기 산화물 전구체를 첨가하여 혼합용액을 형성하는 단계; 및상기 혼합용액을 열처리하여 상기 유기졸이 겔화된 유기분자망 구조체 및 상기 유기분자망 구조체의 표면을 따라 위치하는 무기분자망 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리에 의해 상기 아미노기를 가진 화합물의 아미노기의 일부 및 상기 이소시아네이트기를 가진 화합물의 이소시아네이트기의 일부가 결합된 상기 유기졸이 겔화되며, 3차원적 나노다공성 미세구조의 상기 유기분자망 구조체가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 무기 산화물 전구체는 알콕시기를 가진 것으로, 상기 열처리에 의해 상기 유기분자망 구조체에 포함된 아미노기와 상기 무기 산화물 전구체의 알콕시기가 결합되어 상기 무기분자망 구조체가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 무기 산화물 전구체는,실리콘 알콕사이드 또는 금속 알콕사이드를 포함하며,상기 금속 알콕사이드는 크롬(Cr), 바나듐(V), 철(Fe), 니켈(Ni), 코발트(Co), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 망간(Mn), 이트륨(Y), 세륨(Ce) 또는 란탄늄(La)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합용액에 첨가하는 상기 무기 산화물 전구체의 함량을 조절하여 상기 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 기공부피를 제어하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 무기 산화물 전구체는,상기 유기졸에 대하여 10wt% 내지 90wt%의 함량으로 첨가하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 무기 산화물 전구체는,상기 유기졸의 용매보다 끓는점이 높은 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합용액을 열처리하는 단계 이전에,상기 혼합용액을 기판에 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합용액을 열처리하는 단계는,50℃ 내지 200℃의 온도범위 안에서 수행하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름의 제조방법
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된, 3차원적 나노다공성 미세구조의 유기분자망 구조체; 및 상기 유기분자망 구조체의 내부 및 외부표면을 따라 위치된 3차원적 나노다공성 미세구조의 무기분자망 구조체를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름
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제10항에 있어서,상기 유기분자망 구조체의 내부 및 외부표면을 따라 위치된 3차원적 나노다공성 미세구조의 무기분자망 구조체는,기공 직경이 1nm 내지 100nm 크기이고, 비표면적이 1m2/g 내지 300m2/g인 것을 특징으로 하는 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름
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제10항에 따른 나노다공성 유-무기 하이브리드 필름을 채용한 나노다공성 분리막
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제12항에 있어서,상기 나노다공성 분리막은,10L/m2h 내지 2000L/m2h의 물 투과도를 갖는 것을 특징으로 하는 나노다공성 분리막
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제12항에 있어서,상기 나노다공성 분리막은,5nm 이상의 크기를 가진 용질을 제거하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 분리막
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