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반응기 내 준비된 기판에, 촉매금속층을 형성하는 제1 공정 및 상기 반응기 내에 탄소소스를 공급하고, 물리적 기상증착법 또는 원자층 증착법으로 상기 촉매금속층 상에 탄소박막층을 증착하는 제2 공정을 교대로 반복 수행하여, 상기 촉매금속층 및 상기 탄소박막층이 교대로 반복 적층된 다층 박막층을 형성하는 단계; 상기 다층 박막층을 열처리하여 상기 다층 박막층에 포함된 상기 탄소박막층을 그래핀층으로 합성하는 단계; 및상기 다층 박막층에 포함된 상기 촉매금속층을 선택적으로 제거하는 단계를 포함하며,상기 탄소소스는 아세틸렌, 사이클로펜타디엔, 사이클로헥산, 벤젠 및 톨루엔으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나이고,상기 다층 박막층을 열처리하는 것은 상기 탄소소스의 종류에 따라 상온 내지 400℃의 온도범위에서 수행하는 것을 특징으로 하는 다층 그래핀의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 공정 및 제2 공정을 교대로 반복 수행하는 횟수를 조절하여 상기 그래핀층의 층수를 제어하는 것을 특징으로 하는 다층 그래핀의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 촉매금속층은,구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 백금(Pt), 알루미늄(Al), 코발트(Co), 루테늄(Ru), 파라듐(Pd), 크롬(Cr), 망간(Mn), 금(Au), 은(Ag), 몰리브덴(Mo), 로듐(Rh), 탄탈륨(Ta), 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 우라늄(U), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 및 이리듐(Ir)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 그래핀의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 촉매금속층은 패턴화된 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 다층 그래핀의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 다층 박막층을 열처리하기 위해 공급되는 열원은,마이크로파(microwave), 자외선(ultraviolet), 플라즈마(plasma), 레이저(laser), 및 가열기(heater) 중에서 선택되는 적어도 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 다층 그래핀의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 촉매금속층을 선택적으로 제거하는 단계는, 증발법 또는 습식식각을 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 다층 그래핀의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 촉매금속층을 선택적으로 제거하는 단계는 습식식각을 수행하는 것으로,산(acid), 불화수소(HF), 염화철(FeCl3), 질산철(Fe(NO3)3), 염화동(CuCl2), 암모늄퍼설페이트((NH4)2S2O8), 소듐퍼설페이트(Na2S2O8), 및 버퍼 산화 식각액(buffered oxide etchant, BOE) 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 식각용액을 사용하는 것을 특징으로 하는 다층 그래핀의 제조방법
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