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레이저 간섭 노광 방법에 의해 노광 재료 코팅층 상에 정의되는(defined) 주기적인 선형 나노패턴을 포함하고 두께가 10 nm 내지 800 ㎛인 플렉서블 도광판으로서, 상기 주기적인 선형 나노패턴은 1 nm 내지 1000 nm의 피치(pitch)를 가지며, 상기 패턴의 피치:패턴의 높이의 비율이 1:0
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제1항에 있어서, 상기 피치는 1 nm 내지 800 nm의 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 도광판
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제1항에 있어서, 상기 선형 패턴은 직선형, 파형, 곡선형, 원 형태의 선형, 삼각형 형태의 선형, 사각형 형태의 선형, 또는 육각형 형태의 선형 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 도광판
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제1항에 있어서, 상기 도광판의 재료는 폴리메틸메타크릴레이트(poly methyl methacrylate, PMMA), 폴리카보네이트(poly carbonate, PC), 아크릴수지, 시클로 올레핀 수지(cyclo olefin polymer, COP), 폴리비닐알코올(polyvinyl alcohol, PVA) 및 폴리염화비닐(polyvinyl chloride, PVC)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 도광판
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하기 단계를 포함하는 제1항의 도광판 제조용 몰드의 제조 방법:1) 기판의 상부에 노광 재료를 코팅시키는 단계(단계 1);2) 상기 노광 재료를 열처리하는 단계(단계 2); 및3) 상기 열처리된 노광 재료 표면에 레이저 간섭 노광 방법으로 1 nm 내지 1000 nm 피치(pitch)를 가지며 패턴의 피치:패턴의 높이의 비율이 1:0
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제9항에 있어서, 상기 기판 재료는 실리콘 및 유리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 방법
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제9항에 있어서, 상기 노광 재료는 페놀수지, 우레탄 아크릴레이트 및 에폭시수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 방법
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하기 단계를 포함하는 제1항의 도광판의 제조 방법:1) 기판의 상부에 노광 재료를 코팅시키는 단계(단계 1);2) 상기 노광 재료를 열처리하는 단계(단계 2);3) 상기 열처리된 노광 재료 표면에 레이저 간섭 노광 방법으로 1 nm 내지 1000 nm의 피치(pitch)를 가지며 패턴의 피치:패턴의 높이의 비율이 1:0
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제12항에 있어서, 상기 도광판의 재료는 폴리메틸메타크릴레이트(poly methyl methacrylate, PMMA), 폴리카보네이트(poly carbonate, PC), 아크릴수지, 시클로 올레핀 수지(cyclo olefin polymer, COP), 폴리비닐알코올(polyvinyl alcohol, PVA) 및 폴리염화비닐(polyvinyl chloride, PVC)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 방법
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엣지 라이트식 광원; 및 주기적인 선형 나노패턴을 포함하는 도광판으로서, 상기 주기적인 선형 나노패턴은 1 nm 내지 1000 nm의 피치(pitch)를 가지며, 상기 패턴의 피치:패턴의 높이의 비율이 1:0
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제14항에 있어서, 상기 엣지 라이트식 광원은 상기 주기적인 선형 나노패턴에 대하여 수직 방향으로 빛을 공급하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 백라이트 유닛
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제14항에 있어서, 테블릿 PC, 휴대폰, LED 또는 LCD에 사용되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 백라이트 유닛
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