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그래핀 나노메쉬의 제조 방법(MANUFACTURING METHOD OF GRAPHENE NANOMESH)

  • 기술번호 : KST2016005667
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 그래핀 나노메쉬의 제조 방법은 도트 렌즈 마스크를 제조하는 단계, 기판 위에 그래핀 및 감광막을 차례로 형성하는 단계, 상기 도트 렌즈 마스크를 이용하여 상기 감광막을 노광시켜 상기 감광막에 도트 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광막의 도트 패턴을 이용하여 식각 공정을 진행하여 상기 그래핀에 나노메쉬를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
Int. CL C01B 31/04 (2006.01)
CPC C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01)
출원번호/일자 1020140083092 (2014.07.03)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1623580-0000 (2016.05.17)
공개번호/일자 10-2016-0004594 (2016.01.13) 문서열기
공고번호/일자 (20160523) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.07.03)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장원석 대한민국 대전광역시 서구
2 정소희 대한민국 대전광역시 유성구
3 김덕종 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.07.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0628634-64
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.02.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.04.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0023751-17
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.08.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0545861-23
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.10.06 수리 (Accepted) 1-1-2015-0967381-59
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.10.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0967382-05
7 등록결정서
Decision to grant
2016.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0132105-05
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
도트 렌즈 마스크를 제조하는 단계,기판 위에 그래핀 및 감광막을 차례로 형성하는 단계,상기 도트 렌즈 마스크를 이용하여 상기 감광막을 노광시켜 상기 감광막에 도트 패턴을 형성하는 단계,상기 감광막의 도트 패턴을 이용하여 식각 공정을 진행하여 상기 그래핀에 나노메쉬를 형성하는 단계를 포함하고,상기 도트 렌즈 마스크를 제조하는 단계는실리카 입자를 포함하는 실리카 용액을 마스크 기판 위에 스핀 코팅하는 단계,스핀 코팅된 상기 실리카 용액을 건조시켜 도트 렌즈를 형성하는 단계를 포함하는 그래핀 나노메쉬의 제조 방법
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삭제
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제1항에서,상기 실리카 입자의 직경은 상기 감광막을 노광시키는 광의 파장보다 큰 그래핀 나노메쉬의 제조 방법
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제1항에서,상기 실리카 입자의 직경은 500nm 내지 900nm인 그래핀 나노메쉬의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 기계연구원 주요사업-일반 나노소재 응용 고성능 유연소자 기술기반 구축사업 (2/5)
2 미래창조과학부 동국대학교 산학협력단 미래부-국가연구개발사업 소프트기판용 고해상 전극 레이저 패터닝 기술개발 (1/3)