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액정 디스플레이 소자에 사용되는 고분자 액정 배향막의 제조 방법에 있어서, 액정 배향막 고분자와 용매를 혼합하는 제1혼합 단계;직경이 5~10 nm이고 길이가 500~2000 nm인 카본 나노튜브 입자를 용매에 혼합하는 제2혼합 단계;상기 제 1 혼합 단계와 제 2 혼합 단계에서 혼합된 액정 배향막 고분자 혼합물과 카본 나노튜브 입자 혼합물을 섞은 후, 교반 하는 혼합 단계;상기 혼합 단계를 거친 액정 배향막 고분자와 카본 나노튜브 입자 혼합물을 도전성 유리 기판에 도포하는 코팅 단계; 및상기 코팅된 도전성 유리 기판을 150 ~ 250 ℃의 온도 범위에서 0
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제1항에 있어서,상기 액정 배향막 고분자는, 폴리이미드, 폴리비닐알코올 및 폴리스타이렌 중에서 어느 하나 이상이고, 상기 폴리이미드는 도전성 유리 기판에 도포된 후 폴리이미드로 중합되는 폴리아믹산(Polyamic Acid)형 폴리이미드 또는 용매에 직접 용해 될 수 있는 가용성 폴리이미드(Soluble Polyimid)인 것을 특징으로 하는, 액정 디스플레이 소자에 사용되는 고분자 액정 배향막의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1혼합 단계와 제2혼합 단계에서 사용되는 용매는, 클로로벤젠, N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), N,N-디메틸이미다졸리디논(DMI), N,N-디프로필이미다졸리디논(DPI), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸술폭시드(DMSO), 시클로펜타논, 시클로헥사논, 디클로로에탄, 부틸셀루솔브, 감마부티로락톤 및 테트라히드로퓨란(THF)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 액정 디스플레이 소자에 사용되는 고분자 액정 배향막의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 코팅 단계에서 사용되는 도포 방법은, 테이프법, 스핀 코팅법, 옵셋 인쇄법 및 잉크젯 프린팅법 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 액정 디스플레이 소자에 사용되는 고분자 액정 배향막의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제2혼합 단계에서 사용되는 카본 나노튜브는, 단일벽 탄소나노튜브(Single-wall Nanotube, SWNT) 또는 다중벽 나노튜브(Multi-wall Nanotube,MWNT)인 것을 특징으로 하는, 액정 디스플레이 소자에 사용되는 고분자 액정 배향막의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 도전성 유리 기판은 ITO(Indium Tin Oxide)가 증착된 유기 기판인 것을 특징으로 하는, 액정 디스플레이 소자에 사용되는 고분자 액정 배향막의 제조 방법
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제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 고분자 액정 배향막의 제조 방법으로 제조된 고분자 액정 배향막
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제8항에 기재된 고분자 액정 배향막을 포함하는 액정 디스플레이 소자
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제8항에 기재된 고분자 액정 배향막을 사용함으로써, 고분자 액정의 완화시간(relaxation time)이 10 V 이하의 전압 조건에서 3 ~ 3
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