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탄소 소스 및 피리딘을 포함하는 치환 소스를 별도의 기화기에서 각각 기화시키는 단계;기화된 상기 탄소 소스 및 치환 소스를 증착로 내부로 제공하는 단계;상기 탄소 소스를 열 분해하여 상기 증착로 내부에 배치된 기판 상에 탄소 단원자층을 증착함과 동시에 인시튜(in-situ)로, 상기 치환 소스를 열 분해하여 형성된 치환 원자를 이용하여 상기 탄소 단원자층을 이루는 탄소 원자들 중 일부 탄소 원자들의 공유 결합 부분에 인위적으로 결정 결함을 형성하고 결정 결함 부분을 상기 치환 원자로 치환하여 상기 탄소 단원자층을 관통하는 다수의 홀들이 형성된 다공성 그래핀 부재를 형성하는 단계; 및상기 기판으로부터 상기 다공성 그래핀 부재를 분리하는 단계를 포함하고,상기 탄소 소스와 상기 치환 소스의 비율을 조절함으로써 홀의 형성 밀도를 조절하는 것을 특징으로 하는 다공성 그래핀 부재의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 상기 탄소 단원자층을 형성할 때 열에 의한 형상 변형을 방지하고, 상기 다공성 그래핀 부재와 분리되는 구리판 및 구리 도금판 중 어느 하나를 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 탄소 소스 및 치환 소스를 상기 증착로 내부로 제공하는 단계에서는 기화된 상기 탄소 소스 및 치환 소스들은 캐리어 가스에 의하여 상기 증착로 내부로 운반되는 다공성 그래핀 부재의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 탄소 소스 및 상기 치환 소스를 상기 증착로 내부로 제공하는 단계에서,상기 탄소 소스 및 상기 치환 소스는 서로 다른 배관들을 통해 상기 증착로의 내부로 제공되는 다공성 그래핀 부재의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 탄소 소스 및 상기 치환 소스를 상기 증착로로 제공하는 단계에서,상기 탄소 소스 및 상기 치환 소스는 상기 증착로의 내부로 제공되기 이전에 상기 증착로와 연결된 공통 배관에서 혼합된 후 상기 증착로의 내부로 제공되는 다공성 그래핀 부재의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 탄소 소스는 메탄올(CH3OH), 에틸렌(C2H4), 에탄올(C2H5OH), 아세톤(CH3COCH3), 펜탄(CH3(CH2)3CH3), 펜텐(C5H10), 사이클로펜타디엔(C5H6), 헥산(C6H14), 시클로헥산(C6H12), 벤젠(C6H6), 톨루엔(C7H8) 및 자일렌(C6H4(CH3)2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나를 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 방법
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탄소 소스를 제공하는 제1 시료 공급 장치 및 피리딘을 포함하는 치환 소스를 제공하는 제2 시료 공급 장치를 포함하는 시료 공급 장치;상기 탄소 소스를 기화시키는 제1 기화기 및 상기 치환 소스를 기화시키는 제2 기화기를 포함하는 동시 기화기; 및상기 제1 기화기로부터 제공된 상기 탄소 소스의 분해 및 증착에 의하여 탄소 단원자층을 증착함과 동시에 인시튜(in-situ)로, 상기 제2 기화기로부터 제공된 상기 치환 소스를 이용하여 상기 탄소 단원자층의 탄소 원자들 중 일부 탄소 원자들의 공유 결합 부분에 인위적으로 결정 결함을 형성하고 상기 결정 결함이 발생된 부분을 상기 치환 소스의 치환 원자로 치환하여 다수의 홀이 형성된 다공성 그래핀 부재가 증착되는 기판이 장착된 증착로를 포함하고,상기 탄소 소스와 상기 치환 소스의 비율을 조절함으로써 홀의 형성 밀도를 조절하는 것을 특징으로 하는 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 증착로 내에 배치되는 기판은 상기 다공성 그래핀 부재를 분리할 수 있는 금속판을 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 제1 기화기 및 상기 증착로를 연결하는 제1 배관 및 상기 제2 기화기 및 상기 증착로를 연결하는 제2 배관을 포함하며,상기 제1 및 제2 배관에는 기화된 상기 탄소 소스 및 상기 치환 소스를 가열하는 히팅 유닛이 결합된 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 제1 기화기와 연결된 제1 배관, 상기 제2 기화기와 연결된 제2 배관 및 일측은 상기 제1 및 제2 배관들과 연결되며 타측은 상기 증착로에 연결된 공통 배관을 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 제1 시료 공급 장치로부터 제공되는 탄소 소스는 메탄올(CH3OH), 에틸렌(C2H4), 에탄올(C2H5OH), 아세톤(CH3COCH3), 펜탄(CH3(CH2)3CH3), 펜텐(C5H10), 사이클로펜타디엔(C5H6), 헥산(C6H14), 시클로헥산(C6H12), 벤젠(C6H6), 톨루엔(C7H8) 및 자일렌(C6H4(CH3)2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나를 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 제1 기화기 및 상기 제2 기화기에 연결되어 상기 제1 및 제2 기화기들로부터 기화된 상기 탄소 소스 및 치환 소스들을 상기 증착로로 운반하기 위한 캐리어 가스 공급부를 더 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 증착로는 상기 기판 상에 상기 탄소 단원자층을 형성하기 위한 원자층 증착(ALD) 장치를 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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제9항에 있어서,상기 제1 기화기는 상기 탄소 소스를 기화시키는 열을 제공하는 제1 가열로를 포함하며, 상기 제2 기화기는 상기 치환 소스를 기화시키기는 열을 제공하는 제2 가열로를 포함하는 다공성 그래핀 부재의 제조 장치
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