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양극산화알루미늄(AAO) 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층의 제조방법과 후면전극의 전반사막 제조방법 및 이를 포함하여 구성되는 박막 태양전지(Manufacturing methods of patterned stress relaxation layer and reflecting layer by AAO(Anodic Aluminum Oxide) template deposited on flexible substrate and solar cell using the same)

  • 기술번호 : KST2016005819
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층의 제조방법과 후면전극의 전반사막 제조방법 및 이를 포함하여 구성되는 박막 태양전지에 관한 것으로, 나노 사이즈 패터닝이 구조적으로 연성 기판의 응력을 완화하고, 광경로를 더욱 길게 연장하여 전체적인 광전효율을 크게 향상시키는 효과가 있다.
Int. CL H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/04 (2014.01) H01L 31/0749 (2012.01) H01L 31/046 (2014.01)
CPC H01L 31/03926(2013.01) H01L 31/03926(2013.01) H01L 31/03926(2013.01) H01L 31/03926(2013.01) H01L 31/03926(2013.01)
출원번호/일자 1020140083029 (2014.07.03)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1592468-0000 (2016.02.01)
공개번호/일자 10-2016-0004571 (2016.01.13) 문서열기
공고번호/일자 (20160218) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.07.03)
심사청구항수 35

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박주형 대한민국 대전 유성구
2 조준식 대한민국 대전 유성구
3 어영주 대한민국 대전 유성구
4 윤재호 대한민국 대전 중구
5 윤경훈 대한민국 대전 유성구
6 신기식 대한민국 대전 유성구
7 곽지혜 대한민국 대전 서구
8 안세진 대한민국 대전 유성구
9 안승규 대한민국 대전 서구
10 유진수 대한민국 서울 노원구
11 조아라 대한민국 서울 관악구
12 김기환 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한상수 대한민국 서울시 서초구 효령로**길 ** *층 (브릿지웰빌딩)(에이치앤피국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.07.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0628260-92
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.01.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.03.13 수리 (Accepted) 9-1-2015-0019190-64
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0568995-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.10.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0997378-69
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0997377-13
8 등록결정서
Decision to grant
2016.01.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0062763-41
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
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번호 청구항
1 1
양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법에 있어서,a-ⅰ) 연성 기판을 준비하는 단계;a-ⅱ) 상기 연성 기판 위에 단일 층 혹은 복수의 층으로 구성된 응력완화층을 증착시키는 단계;a-ⅲ) 상기 응력완화층 표면 위에 박막 형태의 알루미늄을 증착하는 단계;a-ⅳ) 상기 박막 형태의 알루미늄의 표면조도(表面粗度) 감소를 위해 전기화학적으로 연마(electrochemically polishing)하여 증류수(DI water)로 세척하는 단계;a-ⅴ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 1단계;a-ⅵ) 상기 박막 형태의 알루미늄으로부터 1단계 양극산화된 산화알루미늄층을 에칭하여 제거하는 단계;a-ⅶ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 2단계;a-ⅷ) 상기 2단계 양극산화된 산화알루미늄층의 미세공을 확장(pore widening)하여 양극산화알루미늄 템플레이트를 형성하는 단계;a-ⅸ) 패턴된 양극산화알루미늄 템플레이트를 마스크로 사용하여 상기 응력완화층을 습식 또는 건식 에칭하는 단계;를 포함하고,a-ⅱ)와 a-ⅲ) 단계 사이에,접착도 향상을 위해 10-50nm 두께의 티타늄층을 증착하는 단계;를 더 포함하며,a-ⅲ)와 a-ⅴ) 단계 사이에,상기 기판, 포일(foil) 또는 박막 형태의 알루미늄에 존재할 수 있는 기계적 스트레스를 제거하고 결정입계(結晶粒界: grain boundary)를 개선하기 위한 열처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
2 2
양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법에 있어서,b-ⅰ) 연성 기판을 준비하는 단계;b-ⅱ) 상기 연성 기판 위에 박막 형태의 알루미늄을 증착하는 단계;b-ⅲ) 상기 박막 형태의 알루미늄의 표면조도(表面粗度) 감소를 위해 전기화학적으로 연마(electrochemically polishing)하여 증류수(DI water)로 세척하는 단계;b-ⅳ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 1단계;b-ⅴ) 상기 박막 형태의 알루미늄으로부터 1단계 양극산화된 산화알루미늄층을 에칭하여 제거하는 단계;b-ⅵ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 2단계;b-ⅶ) 상기 2단계 양극산화된 산화알루미늄층의 미세공을 확장하여 양극산화알루미늄 템플레이트를 형성하는 단계;b-ⅷ) 상기 양극산화알루미늄 템플레이트 위에 단일 층 혹은 복수의 층으로 구성된 응력완화층을 증착시키는 단계;를 포함하고,b-ⅰ)와 b-ⅱ) 단계 사이에,접착도 향상을 위해 10-50nm 두께의 티타늄층을 증착하는 단계;를 더 포함하며,b-ⅱ)와 b-ⅳ) 단계 사이에,상기 기판, 포일(foil) 또는 박막 형태의 알루미늄에 존재할 수 있는 기계적 스트레스를 제거하고 결정입계(結晶粒界: grain boundary)를 개선하기 위한 열처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
3 3
삭제
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삭제
5 5
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅰ) 또는 b-ⅰ) 단계의 상기 연성 기판은 스테인레스 연성기판, Ni-Fe계 연성기판, 고분자 재질로 이루어진 연성기판 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
6 6
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅲ) 또는 b-ⅱ) 단계의 알루미늄은 순도 99% 이상인 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
7 7
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅴ) 또는 b-ⅳ) 단계의 양극산화 제 2단계는,전해질 용액 환경에서, 알루미늄을 양극으로 사용하고 백금 또는 탄소를 음극으로 사용하여, 0-100℃ 범위 내의 온도조건에서 1-480분 동안 10-300V의 범위 내의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
8 8
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅷ) 또는 b-ⅶ) 단계의 미세공을 확장(pore widening)하는 방법은 2단계 양극산화 단계를 거친 기판, 포일(foil) 또는 박막 형태의 알루미늄을 1-30wt%의 인산(H3PO4) 용액에 0-100℃에서 1-60분간 침지하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
9 9
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅱ) 또는 b-ⅷ) 단계의 상기 응력완화층은 티타늄(Ti), 크로뮴(Cr), 스테인레스, Ni-Fe계, 고분자 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
10 10
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅱ) 또는 b-ⅷ) 단계의 상기 응력완화층은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법, 화학기상증착법, 원자층 증착법, 분자선증착법 중에서 적어도 어느 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
11 11
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅱ) 또는 b-ⅷ) 단계의 상기 응력완화층의 두께는 10-1000nm 범위로 형성하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
12 12
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅰ)와 a-ⅱ) 단계 사이, 또는 b-ⅰ)와 b-ⅱ) 단계 사이에,연성기판 표면을 클리닝하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
13 13
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅲ)와 a-ⅳ) 단계 사이, 또는 b-ⅱ)와 b-ⅲ) 단계 사이에,알루미늄 표면을 클리닝하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
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16 16
제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,a-ⅸ) 또는 b-ⅷ) 단계 이후에,잔존하는 양극산화알루미늄 템플레이트를 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 연성 기판의 응력완화층 제조방법
17 17
양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법에 있어서,e-ⅰ) 후면전극층 위에 단일 층 혹은 복수의 층으로 구성된 전반사막을 증착하는 단계;e-ⅱ) 상기 전반사막 위에 박막 형태의 알루미늄을 증착하는 단계;e-ⅲ) 상기 박막 형태의 알루미늄의 표면조도(表面粗度) 감소를 위해 전기화학적으로 연마(electrochemically polishing)하여 증류수(DI water)로 세척하는 단계;e-ⅳ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 1단계;e-ⅴ) 상기 박막 형태의 알루미늄으로부터 1단계 양극산화된 산화알루미늄층을 에칭하여 제거하는 단계;e-ⅵ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 2단계;e-ⅶ) 상기 2단계 양극산화된 산화알루미늄층의 미세공을 확장(pore widening)하여 양극산화알루미늄 템플레이트를 형성하는 단계;e-ⅷ) 패턴된 양극산화알루미늄 템플레이트를 마스크로 사용하여 상기 전반사막을 습식 또는 건식 에칭하는 단계;를 포함하고,e-ⅰ)와 e-ⅱ) 단계 사이에,접착도 향상을 위해 10-50nm 두께의 티타늄층을 증착하는 단계;를 더 포함하며,e-ⅱ)와 e-ⅳ) 단계 사이에,기판, 포일(foil) 또는 박막 형태의 알루미늄에 존재할 수 있는 기계적 스트레스를 제거하고 결정입계(結晶粒界: grain boundary)를 개선하기 위한 열처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
18 18
양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법에 있어서,f-ⅰ) 후면전극층 위에 박막 형태의 알루미늄을 증착하는 단계;f-ⅱ) 상기 박막 형태의 알루미늄의 표면조도(表面粗度) 감소를 위해 전기화학적으로 연마(electrochemically polishing)하여 증류수(DI water)로 세척하는 단계;f-ⅲ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 1단계;f-ⅳ) 상기 박막 형태의 알루미늄으로부터 1단계 양극산화된 산화알루미늄층을 에칭하여 제거하는 단계;f-ⅴ) 상기 박막 형태의 알루미늄 양극산화 제 2단계;f-ⅵ) 상기 2단계 양극산화된 산화알루미늄층의 미세공을 확장(pore widening)하여 양극산화알루미늄 템플레이트를 형성하는 단계;f-ⅶ) 상기 양극산화알루미늄 템플레이트 위에 단일 층 혹은 복수의 층으로 구성된 전반사막을 증착시키는 단계;를 포함하고,f-ⅰ) 단계 이전에,접착도 향상을 위해 10-50nm 두께의 티타늄층을 증착하는 단계;를 더 포함하며,f-ⅰ) 와 f-ⅲ) 단계 사이에,기판, 포일(foil) 또는 박막 형태의 알루미늄에 존재할 수 있는 기계적 스트레스를 제거하고 결정입계(結晶粒界: grain boundary)를 개선하기 위한 열처리단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
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21 21
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅱ) 또는 f-ⅰ) 단계의 알루미늄은 순도 99% 이상인 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
22 22
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅳ) 또는 f-ⅲ) 단계의 양극산화 제 1단계 및 e-ⅵ) 또는 f-ⅴ) 단계의 양극산화 제 2단계는,전해질 용액 환경에서, 알루미늄을 양극으로 사용하고 백금 또는 탄소를 음극으로 사용하여, 0-100℃ 범위 내의 온도조건에서 1-480분 동안 10-300V의 범위 내의 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
23 23
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅶ) 또는 f-ⅵ) 단계의 미세공을 확장(pore widening)하는 방법은 2단계 양극산화 단계를 거친 기판, 포일(foil) 또는 박막 형태의 알루미늄을 1-30wt%의 인산(H3PO4) 용액에 0-100℃에서 1-60분간 침지하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
24 24
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅰ) 또는 f-ⅶ) 단계의 상기 전반사막은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, ZrN, 갈륨질화물, 알루미늄 질화물, 아연황화물, ITO(In2O3:Sn)(Indium Tin Oxide), FTO(SnO2:F), ZnO, In-Ga-Zn-O, Zr, In2O3, 백금, 금, 산화아연, 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화납, 산화구리, 산화티탄 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
25 25
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅰ) 또는 f-ⅶ) 단계의 상기 전반사막은 RF 마그네트론 스퍼터링, DC 마그네트론 스퍼터링, MF 마그네트론 스퍼터링, 열증발법, 전자빔증발법, 열분무법, 화학기상증착법, 원자층 증착법, 분자선증착법 중에서 적어도 어느 하나의 방법을 선택하여 증착되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
26 26
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅰ) 또는 f-ⅶ) 단계의 상기 전반사막의 두께는 10-1000nm인 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
27 27
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅱ)와 e-ⅲ) 단계 사이, 또는 f-ⅰ)와 f-ⅱ) 단계 사이에,알루미늄 표면을 클리닝하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
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29 29
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30 30
제 17항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서,e-ⅷ) 또는 f-ⅶ) 단계 이후에,잔존하는 양극산화알루미늄 템플레이트를 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 박막 태양전지 후면전극의 전반사막 제조방법
31 31
연성 기판;상기 연성 기판 상면에 증착되는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층;상기 응력완화층 상면에 증착되는 후면전극층;상기 후면전극층 상면에 증착되는 광흡수층;상기 광흡수층 상면에 증착되는 버퍼층; 및상기 버퍼층 상면에 증착되는 투명전극층;을 포함하여 구성되는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지에 있어서,상기 응력완화층은 제 1항 내지 제 2항 중 어느 하나의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지
32 32
제 31항에 있어서,상기 연성 기판은 스테인레스, Ni-Fe계, 고분자 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지
33 33
제 31항에 있어서,상기 응력완화층은 티타늄(Ti), 크로뮴(Cr), 스테인레스, Ni-Fe계 고분자 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지
34 34
제 31항에 있어서,상기 후면전극층은 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu) 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지
35 35
제 31항에 있어서,상기 광흡수층은 구리(Cu), 인듐(In), 갈륨(Ga), 셀레늄(Se) 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지
36 36
제 31항에 있어서,상기 버퍼층은 CdS, CdZnS, ZnS, Zn(S,O), Zn(OH,S), ZnS(O,OH), ZnSe, ZnInS, ZnInSe, ZnMgO, Zn(Se,OH), ZnSnO, ZnO, InSe, InOH, In(OH,S), In(OOH,S), In(S,O) 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지
37 37
제 31항에 있어서,상기 투명전극층은 AZO(Al doped Zinc Oxide), BZO(B doped Zinc Oxide), GZO(Ga doped Zinc Oxide), ZnO, ITO(Indium Tin Oxide), In2O3, FTO(F doped Tin Oxide), 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화철, 이산화주석 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 응력완화층을 포함하는 박막 태양전지
38 38
연성 기판;상기 연성 기판 상면에 증착되는 후면전극층;상기 후면전극층 상면에 증착되는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막;상기 전반사막 상면에 증착되는 광흡수층;상기 광흡수층 상면에 증착되는 버퍼층; 및상기 버퍼층 상면에 증착되는 투명전극층;을 포함하여 구성되는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막을 포함하는 박막 태양전지에 있어서,상기 전반사막은 제 17항 내지 제 18항 중 어느 하나의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막을 포함하는 박막 태양전지
39 39
제 38항에 있어서,상기 연성 기판은 스테인레스, Ni-Fe계, 고분자 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막을 포함하는 박막 태양전지
40 40
제 38항에 있어서,상기 후면전극층은 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 구리(Cu) 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막을 포함하는 박막 태양전지
41 41
제 38항에 있어서,상기 광흡수층은 구리(Cu), 인듐(In), 갈륨(Ga), 셀레늄(Se) 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막을 포함하는 박막 태양전지
42 42
제 38항에 있어서,상기 버퍼층은 CdS, CdZnS, ZnS, Zn(S,O), Zn(OH,S), ZnS(O,OH), ZnSe, ZnInS, ZnInSe, ZnMgO, Zn(Se,OH), ZnSnO, ZnO, InSe, InOH, In(OH,S), In(OOH,S), In(S,O) 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막을 포함하는 박막 태양전지
43 43
제 38항에 있어서,상기 투명전극층은 AZO(Al doped Zinc Oxide), BZO(B doped Zinc Oxide), GZO(Ga doped Zinc Oxide), ZnO, ITO(Indium Tin Oxide), In2O3, FTO(F doped Tin Oxide), 산화갈륨, 산화알루미늄, 산화납, 산화구리, 산화티탄, 산화철, 이산화주석 중에서 적어도 어느 하나 이상을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 양극산화알루미늄 나노패턴이 형성된 전반사막을 포함하는 박막 태양전지
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1 미래창조과학부 한국에너지기술연구원 한국에너지기술원 주요사업 플렉서블 박막 태양전지 고효율화 기술개발