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은 나노와이어 패턴층 및 그래핀층을 포함하는 투명전극 및 그 제조방법(Transparant electrode containing silver nanowire-patterned layer and graphene layer, and manufacturing method thereof)

  • 기술번호 : KST2016005842
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 투명전극은 기판, 상기 기판 상에 형성된 그래핀(graphene)층 및 상기 그래핀층 상에 형성된 은(Ag)나노와이어 패턴층을 포함하며, 본 발명에 따른 투명전극의 제조방법은, (a) 기판 상에 그래핀층을 형성시키는 단계, (b) 상기 기판 상에 형성된 그래핀층의 표면에 포토레지스트 패턴을 형성시키는 단계, (c) 상기 포토레지스트 패턴이 형성된 그래핀층 상에 은 나노와이어 용액을 코팅하여 은 나노와이어 패턴층을 형성시키는 단계 및 (d) 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함한다.본 발명에 따른 투명전극은, 그래핀 옥사이드의 환원에 의해 형성되며 안정한 sp2 혼성탄소 구조로 이루어져 있어 전기적, 열적 및 기계적 특성이 뛰어난 그래핀층 및 은 나노와이어 패턴층을 포함함으로써, 기존의 ITO나 FTO 등의 투명 금속 산화물 전극을 대체할 수 있을 정도로 우수한 전기전도성 및 투과성을 가질 뿐만 아니라, 투명전극 전면에 걸쳐 고른 투과율을 확보할 수 있고, 개구율을 임의로 제어할 수 있으며, 또한, 본 발명의 투명전극 제조방법은 전체 공정의 용액화를 통해 저온, 상압 상태에서 투명전극을 제조할 수 있으므로, 제조 원가의 절감, 제조 공정의 단순화, 대면적화의 용이성 등의 장점 외에도, 플라스틱 기판 등과 같은 유연성 기판 상에 전술한 우수한 특성을 가지는 투명전극을 형성할 수 있기 때문에 각종 유연성 소자의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
Int. CL H01B 1/02 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01) H01B 1/04 (2006.01)
CPC H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01)
출원번호/일자 1020140083938 (2014.07.04)
출원인 국민대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1682501-0000 (2016.11.29)
공개번호/일자 10-2016-0004846 (2016.01.13) 문서열기
공고번호/일자 (20161205) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.07.04)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 국민대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이미정 대한민국 서울특별시 은평구
2 조용진 대한민국 경기도 부천시 원미구
3 김채원 대한민국 서울특별시 은평구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김정수 대한민국 서울시 송파구 올림픽로 ***(방이동) *층(이수국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 국민대학교산학협력단 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0633760-26
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.04.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0039291-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.01.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0064223-55
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.03.14 수리 (Accepted) 4-1-2016-5032192-73
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.03.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0295674-37
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0398793-00
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2016-0398778-14
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.09.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0665951-50
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2016-1133541-43
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.11.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-1133571-13
12 등록결정서
Decision to grant
2016.11.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0848063-13
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번호 청구항
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(a) 기판 상에 그래핀층을 형성시키는 단계;(b) 상기 기판 상에 형성된 그래핀층의 표면에 포토레지스트 패턴을 형성시키는 단계;(c) 상기 포토레지스트 패턴이 형성된 그래핀층 상에 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta) 또는 이들의 합금을 포함하는 금속층을 형성시키는 단계;(d) 상기 그래핀층에 형성된 금속층 상에 은 나노와이어 용액을 코팅하여 은 나노와이어 패턴층을 형성시키는 단계; 및(e) 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계;를 포함하는 투명전극 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 단계 (a)는, 스핀코팅(spin coating), 딥코팅(dip coating) 및 존캐스팅(zone casting) 중에서 선택되는 1종의 방법을 이용하여 상기 기판상에 상기 그래핀 옥사이드 용액을 균일하게 코팅하고, 환원제 용액을 도포하여 그래핀 옥사이드를 환원시키는 것을 특징으로 하는 투명전극 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 환원제 용액은 히드라진(hydrazine), 히드라진 모노하이드라이트(hydrazine monohydrite), 하이드로 퀴논(hydroquinone), 디메틸히드라진(dimethylhydrazine), 페닐히드라진(phenylhydrazine), 에틸렌다이아민(ethylenediamine), 염화티오닐(thionylchloride) 또는 나트륨붕수소화물(sodiumborohydride)에서 선택되는 1종 이상의 환원제를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전극 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 단계 (d)는, 스핀코팅(spin coating), 딥코팅(dip coating) 또는 존캐스팅(zone casting) 중에서 선택되는 1종의 방법을 이용하여 상기 은 나노와이어 용액을 코팅하는 것을 특징으로 하는 투명전극 제조방법
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제 5항의 방법을 이용하여 제조된 투명전극을 포함하는 디스플레이 소자
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제 5항의 방법을 이용하여 제조된 투명전극을 포함하는 광기전 (photovoltaic) 소자
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2 미래창조과학부 국민대학교 산학협력단 이공분야기초연구사업 지능형 전자 옷감용 그래핀 기반 정보 저장 소자 개발
3 미래창조과학부 국민대학교 산학협력단 해외우수연구기관유치사업 국민대-텍사스 주립대 국제 미래재료혁신 연구소