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1
압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계;질소(N2) 및 수소(H2)를 1 : 0
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압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계;질소(N2) 및 수소(H2)를 1 : 0
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3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 3단계의 플라즈마 이온질화처리는 5 ~ 15 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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4
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 5단계의 플라즈마 이온질화처리는 10 ~ 15 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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5
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 3단계의 질화층은 평균두께가 평균두께는 50㎛ ~ 150㎛인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 5단계의 질탄화층은 평균두께가 평균두께는 100㎛ ~ 300㎛인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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7
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 압출금형은 SACM, SCM, SKD 또는 SNCM을 포함하는 합금공구강인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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8
제7항에 있어서, 상기 압출금형은 SUS440C, SUS304, SACM645, SCM415, SCM430, SCM435, SCM440, SKD1, SKD2, SKD6, SKD11, SKD12, SKD61, SNCM 8 또는 SNCM21인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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9
질화층 및 질탄화층이 차례대로 형성된 코팅층이 표면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 압출금형
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10
제9항에 있어서, 질화층은 평균두께가 평균두께는 50㎛ ~ 150㎛이고, 질탄화층은 평균두께가 평균두께는 100㎛ ~ 300㎛인 것을 특징으로 하는 압출금형
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11
제9항에 있어서, 상기 상기 압출금형은 SKD61이고, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0
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12
제9항에 있어서, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0
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13
제9항에 있어서, 상기 압출금형의 평균표면조도(Rt)가 1
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14
제9항에 있어서, 상기 압출금형은 SUS(Steel use Stainless), SACM(Steel Aluminium Chromium Molybdenum), SCM(Steel Chromium Molybdenum), SKD(Steel Aluminium Tool Dise) 또는 SNCM(Steel Nichel Chromium Molybdenum)을 포함하는 합금공구강인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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15
제1항의 표면처리방법으로 제조한 것을 특징으로 하는 압출금형
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16
제2항의 표면처리방법으로 제조한 것을 특징으로 하는 압출금형
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17
제15항 또는 제16항의 압출금형으로 압출공정을 수행하되, 압출공정 전에 압출금형을 예열시키는 전처리공정을 수행하지 않는 것을 특징으로 하는 압출공정시스템
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