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압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계;질소(N2) 및 수소(H2)를 1 : 0
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압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계;질소(N2), 수소(H2), 및 질소와 이산화탄소(CO2)의 혼합가스를 1 : 0
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 플라즈마 이온질화처리는 20 ~ 30 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 압출금형은 SUS(Steel use Stainless), SACM(Steel Aluminium Chromium Molybdenum), SCM(Steel Chromium Molybdenum), SKD(Steel Aluminium Tool Dise) 또는 SNCM(Steel Nichel Chromium Molybdenum)을 포함하는 합금공구강인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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제4항에 있어서, 상기 압출금형은 SUS440C, SUS304, SACM645, SCM415, SCM430, SCM435, SCM440, SKD1, SKD2, SKD6, SKD11, SKD12, SKD61, SNCM 8 또는 SNCM21인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법
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제5항의 표면처리방법으로 표면처리하여 질탄화층을 형성시킨 압출금형으로서, 상기 압출금형은 SKD61이고, 질탄화층의 평균두께는 250㎛ ~ 350㎛이며,KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0
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7
제6항에 있어서, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0
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8
제6항에 있어서, 상기 압출금형의 평균표면조도(Rt)가 2
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제8항의 압출금형으로 압출공정을 수행하되, 압출공정 전에 압출금형을 예열시키는 전처리공정을 수행하지 않는 것을 특징으로 하는 압출공정시스템
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