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(a) 열 유도 상분리법(TIPS)에 의해 PVDF 중공사막 전구체를 제조하는 단계;(b) 상기 PVDF 중공사막 전구체를 연신하는 단계; 및(c) 상기 연신된 PVDF 중공사막 전구체를 어닐링하는 단계를 포함하는 스택 라멜라(stack lamellae) 구조 PVDF 중공사막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b)에서 연신은 30℃ 내지 80℃의 온도에서 수행되는 PVDF 중공사막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b)에서 연신은 50℃ 내지 70℃의 온도에서 수행되는 PVDF 중공사막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b)에서 연신은 4 mm/sec 내지 60 mm/sec 의 속도로 수행되는 PVDF 중공사막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b)에서 연신비는 100 % 내지 200 %인 PVDF 중공사막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (c)에서 어닐링은 120℃ 내지 140℃의 온도에서 수행되는 PVDF 중공사막의 제조방법
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제1항에 따른 방법에 의해 제조된 스택 라멜라(stack lamellae) 구조 PVDF 중공사막
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제7항에 있어서,상기 PVDF 중공사막 내 라멜라(stack lamellae) 구조층 사이에 미세기공이 형성된PVDF 중공사막
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제7항에 있어서,XRD 분석 결과, 결정화도 값은 30% 내지 70%인 PVDF 중공사막
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제7항에 있어서,수투과도는 530 MLH 이상인 PVDF 중공사막
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제7항에 있어서,인장강도는 7 MPa 이상인 PVDF 중공사막
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