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테라헤르츠파를 생성하여 출력하는 테라헤르츠 생성부;제1 도파관을 구비하며, 샘플 기체를 수용하는 제1 챔버;제2 도파관을 구비하며, 기준 기체를 수용하는 제2 챔버;적어도 상기 제1 챔버의 내부의 분위기를 배기하는 배기부;적어도 상기 제1 챔버에 상기 샘플 기체를 공급하는 기체 공급부;상기 테라헤르츠파를 제1 테라헤르츠파 및 제2 테라헤르츠파로 분리하여 상기 제1 챔버 및 상기 제2 챔버로 각각 진행시키는 빔 분리부;상기 제1 테라헤르츠파가 상기 제1 챔버의 상기 제1 도파관을 통과한 후 출력되는 것인 샘플파를 검출하는 제1 검출부와, 상기 제2 테라헤르츠파가 상기 제2 챔버의 상기 제2 도파관을 통과한 후 출력되는 것인 기준파를 검출하는 제2 검출부와, 상기 샘플파와 상기 기준파를 비교하는 분석부를 포함하는 테라헤르츠 분석부;상기 샘플파를 반사하여 상기 제1 검출부로 진행시키는 제3 빔 반사부; 및상기 기준파를 반사하여 상기 제2 검출부로 진행시키는 제4 빔 반사부를 포함하는 것이고,상기 제3 빔 반사부 및 상기 제4 빔 반사부 중 어느 하나는 양면에서 반사를 수행하여 상기 샘플파 및 상기 기준파를 각각 상기 제1 검출부 및 상기 제2 검출부로 진행시키는 양면 반사부를 포함하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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2
제1항에 있어서,상기 테라헤르츠 생성부에서 출력되는 상기 테라헤르츠파를 반사하여 상기 빔 분리부로 진행시키는 제1 빔 반사부;를 더 포함하는 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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3
제1항에 있어서,상기 제1 테라헤르츠파를 반사하여 상기 제1 챔버로 진행시키거나 상기 제2 테라헤르츠파를 반사하여 상기 제2 챔버로 진행시키는 제2 빔 반사부;를 더 포함하는 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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4
제1항에 있어서,상기 제1 챔버는 상기 제1 테라헤르츠파가 상기 제1 챔버로 입사하는 부분에 형성되는 제1 렌즈부 및 상기 샘플파가 상기 제1 챔버로부터 출사하는 부분에 형성되는 제2 렌즈부를 포함하는 것이고,상기 제2 챔버는 상기 제2 테라헤르츠파가 상기 제2 챔버로 입사하는 부분에 형성되는 제3 렌즈부 및 상기 기준파가 상기 제2 챔버로부터 출사하는 부분에 형성되는 제4 렌즈부를 포함하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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5
제4항에 있어서,상기 제1 렌즈부 내지 제4 렌즈부는 실리콘 렌즈인 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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삭제
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7
삭제
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8
삭제
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제1항에 있어서,상기 양면 반사부는 양면에 금이 코팅된 미러를 포함하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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10
제1항에 있어서,상기 배기부는 상기 제1 챔버의 내부가 진공이 되도록 상기 제1 챔버의 내부의 분위기를 배기하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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11
제1항에 있어서,상기 배기부는상기 제1 챔버의 내부의 분위기를 배기하는 제1 배기부; 및상기 제2 챔버의 내부의 분위기를 배기하는 제2 배기부;를 포함하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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12
제11항에 있어서,상기 제1 배기부는 상기 제1 챔버의 내부가 진공이 되도록 상기 제1 챔버의 내부의 분위기를 배기하는 것이고, 상기 제2 배기부는 상기 제2 챔버의 내부가 진공이 되도록 상기 제2 챔버의 내부의 분위기를 배기하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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13
제11항에 있어서,상기 기체 공급부는상기 제1 챔버에 상기 샘플 기체를 공급하는 제1 기체 공급부; 및상기 제2 챔버에 상기 기준 기체를 공급하는 제2 기체 공급부;를 포함하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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14
제1항에 있어서,상기 제1 도파관은 상기 제1 테라헤르츠파가 진행되는 경로 상에 배치되고,상기 제2 도파관은 상기 제2 테라헤르츠파가 진행되는 경로 상에 배치되는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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15
제14항에 있어서,상기 제1 도파관은 상기 제1 챔버에 고정 지지되고, 상기 제2 도파관은 상기 제2 챔버에 고정 지지되는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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16
제1항에 있어서,상기 제1 도파관 및 상기 제2 도파관 중 적어도 하나는 가스 흡착 필터가 그 내부에 부착되는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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17
제16항에 있어서,상기 가스 흡착 필터는 다공성 흡착 필터를 포함하는 것인 기체 분석용 테라헤르츠 분광기
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