1 |
1
측정될 시료 그리드가 수용되며, 외부에 구비된 액체질소 탱크로부터 내부로 시편 그리드를 냉각시키기 위한 액체질소가 공급되는 유입공과, 공급된 액체질소가 외부로 배출되는 배출공이 형성된 그리드 수용부; 및내부에 액체질소를 저장할 수 있는 냉각기와, 상기 냉각기로부터 일측으로 연장되어 액체질소를 공급하는 연장관과, 상기 연장관의 연장된 선단에 형성되어 시료 그리드를 안착시킬 수 있도록 그리드 안착홈이 구비된 안착 헤드를 구비하여, 상기 그리드 수용부로 슬라이딩 가능하게 결합되는 시편 장착 홀더를 포함하는 워크 스테이션을 이용하여,1) 상기 시료 그리드를 광학현미경으로 이미징하는 단계;2) 상기 단계 1)에서 얻은 광학현미경 이미지로부터 상기 시료 그리드 상의 전자 현미경 관찰을 위한 표적 위치를 선별하는 단계;3) 상기 단계 2)에서 선별된 시료 그리드 상의 표적 위치를 초저온 전자현미경 관찰법으로 이미징하는 단계를 포함하고,상기 워크 스테이션의 상기 유입공을 통해 냉각제를 주입하면서 상기 시료 그리드를 광학현미경으로 관찰하며, 관찰 후 상기 시편 장착 홀더를 슬라이딩 이동시켜 상기 그리드 수용부로부터 분리하고, 전자현미경으로 투입하여 측정이 완료될 때까지 상기 시편 장착 홀더는 상기 냉각기에 의해 액체질소가 지속적으로 공급되어 상기 시료 그리드의 상태를 초저온상으로 유지시키는 것을 특징으로 하는 시료 관찰 방법
|
2 |
2
제 1항에 있어서, 상기 단계 1)의 시료 그리드는 급속 냉각된 것인 시료 관찰 방법
|
3 |
3
제 1항에 있어서, 상기 시료 그리드는 화면지표로 사용되는 물질이 가해진 것인 시료 관찰 방법
|
4 |
4
제 1항에 있어서, 상기 시료 관찰 방법은 생체 시료, 바이러스 입자, 미세소포, 또는 나노입자 관찰을 위한 것인 시료 관찰 방법
|
5 |
5
외부에 구비된 액체질소 탱크로부터 내부로 시편 그리드를 냉각시키기 위한 액체질소가 공급되는 유입공과, 공급된 액체질소가 외부로 배출되는 배출공과, 공급된 냉각제가 수용되는 냉각제 수용부와, 상기 냉각제 수용부와 분리되어 형성되고 측정될 시료 그리드가 위치될 수 있는 그리드 수용홈, 및 상기 그리드 수용홈의 하부에 삽입되어 상기 시편 그리드를 측정할 수 있는 측정 렌즈가 삽입되는 렌즈홈이 구비된 그리드 수용부; 내부에 액체질소를 저장할 수 있는 냉각기와, 상기 냉각기로부터 일측으로 연장되어 액체질소를 공급하는 연장관과, 상기 연장관의 연장된 선단에 형성되어 시료 그리드를 안착시킬 수 있도록 그리드 안착홈이 구비된 안착 헤드를 포함하는 시편 장착 홀더; 및베이스 플레이트에 마련되어 상기 시편 장착 홀더를 지지하며 상기 시편 장착 홀더를 상기 그리드 수용부로부터 탈착 시킬 수 있도록 슬라이딩시키는 슬라이딩 가이드를 포함하여,상기 연장관이 상기 그리드 수용부에 연결되어 시료 그리드의 전처리가 수행된 후에 상기 연장관이 분리되어 상기 시편 장착 홀더가 연계 측정을 위한 전자 현미경의 측정부에 삽입되는 것을 특징으로 하는 워크 스테이션
|
6 |
6
제 5항에 있어서,상기 그리드 수용부는,상기 시편 그리드를 다수 고정하는 그리드 홀더를 삽입하여 냉각제에 잠겨진 상태를 유지시키는 냉각부홈; 및상기 냉각부홈으로부터 상기 그리드 홀더를 건져내서 상기 그리드 수용홈의 일측에 안착시키는 홀더 안착홈을 포함하는 것을 특징으로 하는 워크 스테이션
|
7 |
7
제 5항에 있어서, 상기 그리드 수용부가 형성되는 박스부;상기 박스부의 상부를 덮되, 상기 그리드 수용부의 일부를 노출시키는 개구부가 형성된 상부 플레이트;상기 상부 플레이트를 수직 방향으로 지지하는 지지부; 및상기 지지부의 하단을 지지하는 베이스 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크 스테이션
|
8 |
8
삭제
|
9 |
9
제 5항에 있어서, 상기 그리드 수용홈의 내부에 온도를 측정할 수 있도록 하는 온도감지 센서가 더 포함된 것을 특징으로 하는 워크 스테이션
|
10 |
10
제 5항에 있어서, 상기 시편 장착 홀더의 연장관의 선단에는 직경이 점차 작아지는 적어도 하나의 단차가 형성된 것을 특징으로 하는 워크 스테이션
|
11 |
11
제 5항에 있어서, 상기 슬라이딩 가이드는,상기 시편 장착 홀더를 상기 그리드 수용부로부터 분리되는 방향으로 슬라이딩시, 상기 시편 장착 홀더가 상기 그리드 수용부로 삽입되는 깊이를 제한하는 스토퍼가 구비된 것을 특징으로 하는 워크 스테이션
|
12 |
12
제 7항에 있어서, 상기 베이스 플레이트의 하부면을 받쳐 상기 워크 스테이션의 상하 높이를 조절하는 높이조절장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크 스테이션
|
13 |
13
삭제
|
14 |
14
삭제
|