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실크를 이용한 감광제 조성물 및 이를 이용한 포토리소그래피 방법(Photoresist compositions comprising silk and photolithography method using this)

  • 기술번호 : KST2016006644
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 생체 친화 물질인 실크를 이용한 포토리소그래피에 사용되는 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 포토레지스트 조성물은 기존에 사용되던 유독 물질을 물로 대체하여 친환경적이며, 물이 세척과 현상을 동시에 수행함으로써 공정을 간결하게 할 수 있다.
Int. CL G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/038 (2006.01) G03F 7/42 (2006.01) G03F 7/32 (2006.01) G03F 7/11 (2006.01)
CPC G03F 7/004(2013.01) G03F 7/004(2013.01) G03F 7/004(2013.01) G03F 7/004(2013.01) G03F 7/004(2013.01)
출원번호/일자 1020140099704 (2014.08.04)
출원인 아주대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1688171-0000 (2016.12.14)
공개번호/일자 10-2016-0017295 (2016.02.16) 문서열기
공고번호/일자 (20161221) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.08.04)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 아주대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김성환 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 태웅 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, *동***호(양재동,양재역환승주차장)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 아주대학교산학협력단 경기도 수원시 영통구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0735197-90
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.01.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.02.05 수리 (Accepted) 9-1-2016-0006748-71
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.03.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0200048-18
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.05.17 수리 (Accepted) 1-1-2016-0469017-42
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.06.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0582978-66
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2016-0582972-93
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.10.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0736414-08
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.11.14 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-1110500-09
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.11.14 수리 (Accepted) 1-1-2016-1110501-44
11 등록결정서
Decision to Grant Registration
2016.12.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0894672-21
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번호 청구항
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실크 피브로인 수용액을 제조하는 단계;상기 제조된 실크 피브로인 수용액으로 이루어진 감광제 조성물을 기판 상에 코팅시켜 수용성의 감광막을 형성하는 도포 단계; 상기 감광막이 형성된 기판을 유기용매로 처리하여 상기 감광막을 수불용성 처리하는 전처리단계; 금속으로 패터닝된 마스크를 통하여 상기 전처리된 기판 상에 180nm 내지 200nm 파장의 ArF 엑시머 레이저 또는 오존램프를 이용하여 빛을 조사하는 노광단계; 및물을 사용하여 상기 노광단계에서 노광된 부분의 감광막을 선택적으로 제거하는 포지티브(Positive) 현상단계;를 포함하는 포토리소그래피 방법으로서, 상기 실크 피브로인 수용액을 제조하는 단계는 실크 섬유에 물과 탄산나트륨을 첨가하여 180 내지 210℃에서 50 내지 70분 동안 가열하고 건조한 후, 브롬화리튬 용액을 사용하여 50 내지 70℃에서 3
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제4항에 있어서,상기 실크 피브로인 수용액은 수용액 100 중량부에 대하여 3 내지 7 중량부의 실크 피브로인을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법
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제4항에 있어서,상기 도포 단계의 상기 실크 피브로인 수용액은 실크로부터 세리신을 제거하여 분리되는 피브로인을 포함하는 수용액인 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법
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제4항에 있어서,상기 전처리 단계의 유기용매 처리 후의 감광막은 크로스 링킹을 형성하여 수불용성인 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법
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제4항에 있어서,상기 현상 단계는 물을 사용하여 노광된 부분의 감광막은 제거하고, 노광되지 않은 부분의 감광막만을 남겨 패턴을 현상하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법
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제4항 내지 제6항, 제9항 및 제11항 중 어느 하나의 포토리소그래피 방법에 의해 제조된 반도체 디바이스
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.