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3차원 나노 구조를 구비한 기판; 및상기 3차원 나노 구조 상에 형성되고, 희토류 금속 산화물을 포함하는 코팅층을 포함하며,상기 코팅층은 탄소의 원소 비율이 1% 미만으로 이루어지는 초소수성 코팅 부재
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제1 항에 있어서,물과의 접촉각이 150°를 초과하는 초소수성 코팅 부재
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제1 항에 있어서,500℃ 온도에서 2시간 동안 열처리한 이후에도 초소수성 특성이 유지되는 초소수성 코팅 부재
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제1 항에 있어서,상기 코팅층은 Y2O3, Dy2O3, La2O3, CeO2 및 Er2O3 중 적어도 하나의 희토류 금속 산화물을 포함하는 초소수성 코팅 부재
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제1 항에 있어서,상기 3차원 나노 구조는 일 방향으로 배열된 다수의 3차원 나노 와이어를 포함하는 초소수성 코팅 부재
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3차원 나노 구조를 구비한 기판을 준비하는 단계; 및상기 기판상에 희토류 금속을 포함하는 전구체와, 산화제를 순차적으로 공급하여 상기 3차원 나노 구조 상에 희토류 금속 산화물을 포함하는 코팅층을 형성하는 단계를 포함하며,상기 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 코팅층 중의 탄소의 원소 비율이 1% 미만이 되도록 상기 기판의 온도를 조절함으로써, 초소수성을 갖는 코팅층을 형성하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는,(a) 상기 기판상에 희토류 금속을 포함하는 전구체를 공급하는 단계;(b) 상기 기판상에 희토류 금속이 결합한 후 남은 전구체의 불순물을 퍼징(purging)하는 단계;(c) 상기 기판상에 산화제를 공급하는 단계; 및(d) 상기 기판상에 희토류 금속 산화물을 포함하는 코팅층이 형성된 후 남은 불순물을 퍼징하는 단계를 포함하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 (a) 내지 (d) 단계를 반복하여 초소수성의 특성을 갖는 코팅층을 형성하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 산화제는 H2O 및 플라즈마 O2 중 적어도 하나를 포함하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 희토류 금속은 이트륨(yttrium)을 포함하고,상기 코팅층을 형성하는 단계는, 초소수성을 갖는 코팅층을 형성하기 위해, 상기 코팅층 중의 탄소의 원소 비율이 1% 미만이 되도록 상기 기판의 온도를 160 ~ 200 ℃ 로 조절하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 희토류 금속은 디스프로슘(dysprosium)을 포함하고,상기 코팅층을 형성하는 단계는, 초소수성을 갖는 코팅층을 형성하기 위해, 상기 코팅층 중의 탄소의 원소 비율이 1% 미만이 되도록 상기 기판의 온도를 145 ~ 230 ℃ 로 조절하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 희토류 금속은 에르븀(erbium)을 포함하고,상기 코팅층을 형성하는 단계는, 초소수성을 갖는 코팅층을 형성하기 위해, 상기 코팅층 중의 탄소의 원소 비율이 1% 미만이 되도록 상기 기판의 온도를 180 ~ 250 ℃ 로 조절하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 희토류 금속은 란타넘(lanthanum)을 포함하고,상기 코팅층을 형성하는 단계는, 초소수성을 갖는 코팅층을 형성하기 위해, 상기 코팅층 중의 탄소의 원소 비율이 1% 미만이 되도록 상기 기판의 온도를 250 ~ 350 ℃ 로 조절하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 희토류 금속은 세륨(cerium)을 포함하고,상기 코팅층을 형성하는 단계는, 초소수성을 갖는 코팅층을 형성하기 위해, 상기 코팅층 중의 탄소의 원소 비율이 1% 미만이 되도록 상기 기판의 온도를 200 ~ 300 ℃ 로 조절하는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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제7 항에 있어서,상기 코팅층과 물 간의 접촉각은 150°를 초과하며, 상기 코팅층은 500℃ 온도에서 2시간 동안 열처리한 이후에도 초소수성 특성이 유지되는 초소수성 코팅 부재의 제조 방법
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