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투명 기판;상기 투명 기판 상에 배치되고, 광의 위상을 변화시키는 위상 시프트 패턴;상기 위상 시프트 패턴이 배치된 상기 투명 기판 상에 배치되는 유전체층; 및상기 유전체층 상에 배치되는 음굴절율 메타물질층을 포함하는 노광용 마스크
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제1항에 있어서, 상기 위상 시프트 패턴은 제2 폭을 갖고, 제1 폭을 갖는 개구를 형성하고,상기 제1 폭 및 제2 폭의 합은 피치로 정의되고, 상기 피치는 4ㅅm(마이크로미터) 이하인 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제2항에 있어서, 상기 피치는 1ㅅm(마이크로미터) 이하인 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제1항에 있어서, 상기 위상 시프트 패턴은 크롬옥사이드(CrOx), 크롬옥사이드나이트라이드(CrOxNy) 또는 몰리브데늄실리사이드옥사이드나이트라이드(MoSiOxNy) 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제4항에 있어서,상기 위상 시프트 패턴의 두께는 약 130nm(나노미터)인 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제1항에 있어서,상기 유전체층은 폴리 메틸 메타크릴레이트(PMMA)를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제6항에 있어서,상기 유전체층은 약 40nm(나노미터)의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제1항에 있어서,상기 음굴절율 메타물질층은 표면 플라즈몬 공명 또는 음향 양자 공명을 발생시켜 전자기파의 진행거리에 따라 지수 함수적으로 소명하는 소산파를 복원하여 노광에 사용될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제8항에 있어서,상기 음굴절율 메타물질층은 약 35nm 의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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제1항에 있어서,상기 음굴절율 메타물질층 상에 배치되는 제2 유전체층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크
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투명 기판 상에 위상 시프트 패턴을 형성하는 단계;상기 위상 시프트 패턴이 형성된 상기 투명 기판 상에 유전체층을 형성하는 단계; 및 상기 유전체층 상에 음굴절율 메타물질층을 형성하는 단계를 포함하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 위상 시프트 패턴은 제2 폭을 갖고, 제1 폭을 갖는 개구를 형성하고,상기 제1 폭 및 제2 폭의 합은 피치로 정의되고, 상기 피치는 4ㅅm(마이크로미터) 이하인 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 위상 시프트 패턴은 크롬옥사이드(CrOx), 크롬옥사이드나이트라이드(CrOxNy) 또는 몰리브데늄실리사이드옥사이드나이트라이드(MoSiOxNy) 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 위상 시프트 패턴의 상면에 대해 플라즈마 친수 처리를 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제14항에 있어서,상기 유전체층을 애슁(ashing)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제15항에 있어서, 상기 유전체층은 약 40nm(나노미터)의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 음굴절율 메타물질층 물질은 은, 금, 알루미늄 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제17항에 있어서, 상기 음굴절율 메타물질층은 약 35nm 의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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제18항에 있어서, 상기 음굴절율 메타물질층 상에 제2 유전체층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광용 마스크의 제조 방법
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투명 기판, 상기 투명 기판 상에 배치되고 광의 위상을 변화시키는 위상 시프트 패턴, 상기 위상 시프트 패턴이 배치된 상기 투명 기판 상에 배치되는 유전체층, 및 상기 유전체층 상에 배치되는 음굴절율 메타물질층을 포함하는 노광용 마스크를 이용하여,포토 레지스트 층이 형성된 기판 상에 상기 노광용 마스크를 상기 기판과 마주보도록 위치시키는 단계;상기 노광용 마스크를 통해 상기 포토레지스트 층에 광이 전달되며, 상기 유전체층 및 상기 음굴절율 메타물질층으로 인하여 발생되는 플라즈모닉 공명 또는 음향양자 공명으로 인하여 상기 광의 소산파가 소멸하지 않고 상기 포토 레지스트층로 전달되는 단계; 및현상액을 이용하여 상기 포토 레지스트 층을 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 기판을 제조하는 방법
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