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하전입자 빔을 방출하는 하전입자 소스;상기 하전입자 소스로부터 방출되는 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일(r(t))을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 상기 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호()를 측정하는 응답신호 측정기; 및 상기 주사파형 발생기에서의 스캔 프로파일(r(t))과 상기 응답신호 측정기로부터의 응답신호()로부터, 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하고, 이를 내부에 구비되는 컨트롤러에 의해 선택적으로, a) 편향기로 입력시키고 이후의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t+1))는 직전의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))와 이로부터 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호xcoil(t+1)로부터 매번 새로이 산출하여 편향기에 입력시키거나, 또는 b) 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 저장될 수 있는 메모리에 저장하고 이를 편향기의 입력신호로서 반복적으로 사용하여 편향기에 입력시키는 주사 파형 제어부;를 포함하는 하전입자 빔 현미경
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제 1항에 있어서,상기 편향기는 2개로서 상단편향 코일과 하단 편향코일로 이루어지는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
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제 1항에 있어서,상기 하전입자 빔 현미경에 사용되는 하전입자 빔은 전자빔, 수소이온 빔, 헬륨이온 빔에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
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제 1항에 있어서,상기 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))는 주사파형 발생기에서의 스캔 프로파일(r(t))과 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호()의 차이(e(t) = r(t) - xcoil(t) )를 이용하여 얻어내는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
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제 1항에 있어서,상기 주사파형 제어부내부의 컨트롤러에 의해 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 편향기에 입력되는 경우에, 이후의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t+1))는 직전의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))와 이로부터 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호의 차이(e(t) = u(t) - xcoil(t+1))를 이용하여 매번 새로이 산출하여 편향기에 입력되는 것을 특징으로 하는, 하전입자 빔 현미경
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제 4항에 있어서,상기 보정된 스캔 프로파일 신호(U(t))는 의 식으로 부터 얻어내는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
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하전입자 빔을 방출하는 하전입자 소스;하전입자 소스쪽에 구비되는 중간 집속렌즈와 시료쪽에 구비되는 최종 집속렌즈인 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군; 상기 중간 집속렌즈와 대물렌즈 사이에 구비되며, 하전입자 소스로부터 방출되는 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일(r(t))을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 상기 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호()를 측정하는 응답신호 측정기; 상기 주사파형 발생기에서의 스캔 프로파일(r(t))과 상기 응답신호 측정기로부터의 응답신호()로부터, 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하고, 이를 내부에 구비되는 컨트롤러에 의해 선택적으로, a) 편향기로 입력시키고 이후의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t+1))는 직전의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))와 이로부터 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호xcoil(t+1)로부터 매번 새로이 산출하여 편향기에 입력시키거나, 또는 b) 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 저장될 수 있는 메모리에 저장하고 이를 편향기의 입력신호로서 반복적으로 사용하여 편향기에 입력시키는 주사 파형 제어부; 및대물렌즈 하단부에 위치하며 하전 입자빔이 조사되는 시료를 지지하고 이동할 수 있는 시료 스테이지;를 포함하는 하전입자 빔 현미경
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전자빔을 방출하는 전자빔 소스;상기 전자빔 소스쪽에 구비되는 중간 집속렌즈와 시료쪽에 구비되는 최종 집속렌즈인 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군; 상기 중간 집속렌즈와 대물렌즈 사이에 구비되며, 전자빔 소스로부터 방출되는 전자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 전자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일(r(t))을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 상기 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호()를 측정하는 응답신호 측정기; 상기 주사파형 발생기에서의 스캔 프로파일(r(t))과 상기 응답신호 측정기로부터의 응답신호()로부터, 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하고, 이를 내부에 구비되는 컨트롤러에 의해 선택적으로, a) 편향기로 입력시키고 이후의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t+1))는 직전의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))와 이로부터 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호xcoil(t+1)로부터 매번 새로이 산출하여 편향기에 입력시키거나, 또는 b) 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 저장될 수 있는 메모리에 저장하고 이를 편향기의 입력신호로서 반복적으로 사용하여 편향기에 입력시키는 주사 파형 제어부; 대물렌즈 하단부에 위치하며 상기 전자빔이 조사되는 시료를 지지하고 이동할 수 있는 시료 스테이지; 및시료로부터 방출되는 2차전자를 검출하는 2차전자 검출기;를 포함하는 주사전자현미경
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하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일(r(t))을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 상기 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호()를 측정하는 응답신호 측정기; 및 상기 주사파형 발생기에서의 스캔 프로파일(r(t))과 상기 응답신호 측정기로부터 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하여, 내부에 구비되는 컨트롤러에 의해 편향기 또는 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 저장될 수 있는 메모리에 선택적으로 입력시키는 주사 파형 제어부;를 포함하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호를 제어하는 방법으로서, 미리 설정된 스캔 프로파일(r(t))에 따라 상기 주사파형 발생기에서 하전입자 빔의 조사 방향을 제어할 수 있도록 스캔 프로파일 신호(r(t))를 발생시켜 편향기에 입력하는 단계; 상기 스캔 프로파일 신호에 따라 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호()을 측정하는 단계; 상기 주사파형 제어부에서 상기 스캔 프로파일 신호(r(t))와 편향기로부터 실제로 출력되는 응답신호()로부터, 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 얻어내는 단계; 및 상기 컨트롤러에 의해 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 편향기에 입력되는 경우에 이후의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t+1))는 직전의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))와 이로부터 편향기에서 실제로 출력되는 응답신호xcoil(t+1)로부터 매번 새로이 산출하여 편향기에 입력되도록 하며, 상기 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 메모리에 입력되는 경우에 이를 편향기의 입력신호로서 반복적으로 사용할 수 있도록 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 처리하는 단계;를 포함하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법
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제 9항에 있어서,상기 미리 설정된 스캔 프로파일(r(t))의 전류 파형은 톱니형, 삼각형, 사다리꼴형 중에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법
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