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배면전극 및 CIGS 광흡수층을 구비하는 기판을 준비하는 단계; 및상기 CIGS 광흡수층 상에 CBD(Chemical Bath Deposition) 방법으로 카드뮴(Cd) 및 황(S)을 포함하는 버퍼층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 버퍼층을 형성하는 단계는, 상기 CIGS 광흡수층과 상기 버퍼층의 접합 계면의 전도띠 오프셋(Conduction Band Offset)이 0
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배면전극 및 CIGS 광흡수층을 구비하는 기판을 준비하는 단계; 및상기 CIGS 광흡수층 상에 CBD(Chemical Bath Deposition) 방법으로 카드뮴(Cd) 및 황(S)을 포함하는 버퍼층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 버퍼층을 형성하는 단계는, 상기 CIGS 광흡수층과 상기 버퍼층의 접합 계면의 전도띠 오프셋(Conduction Band Offset)이 0
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배면전극 및 CIGS 광흡수층을 구비하는 기판을 준비하는 단계; 및상기 CIGS 광흡수층 상에 CBD(Chemical Bath Deposition) 방법으로 카드뮴(Cd) 및 황(S)을 포함하는 버퍼층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 버퍼층을 형성하는 단계는, 상기 CIGS 광흡수층과 상기 버퍼층의 접합 계면의 전도띠 오프셋(Conduction Band Offset)이 0
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 버퍼층을 형성하는 단계에서, 상기 카드뮴 소스의 농도가 상기 황 소스의 농도보다 증가될수록 상기 전도띠 오프셋 값이 증가될 수 있는, 태양전지의 제조방법
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 버퍼층을 형성하는 단계에서, 상기 황 소스의 농도가 상기 카드뮴 소스의 농도보다 감소될수록 상기 전도띠 오프셋 값이 증가될 수 있는, 태양전지의 제조방법
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 CIGS 광흡수층은 구리, 인듐 및 갈륨을 포함하는 예비광흡수층 상에 셀렌화(selenization) 및 황화(sulfurization)를 수행함으로써 형성된, 태양전지의 제조방법
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항의 태양전지의 제조방법을 이용하여 형성한 태양전지로서, 상기 태양전지는, 기판;상기 기판 상에 형성된 배면전극층;상기 배면전극층 상에 형성된 CIGS 광흡수층; 및상기 CIGS 광흡수층 상에 CBD(Chemical Bath Deposition) 방법으로 형성된 카드뮴(Cd) 및 황(S)을 포함하는 버퍼층;을 포함하고,상기 CIGS 광흡수층과 상기 버퍼층의 접합 계면의 전도띠 오프셋(Conduction Band Offset)이 0
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제 7 항에 있어서,상기 버퍼층은 전류-전압 곡선 중 개방전압보다 높은 전압구간에서 상기 전압의 증가폭과 상기 전류의 증가폭의 비가 점점 감소되는 롤-오버(roll-over) 특성을 갖는, 태양전지
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제 7 항에 있어서,상기 버퍼층과 접합되는 상기 CIGS 광흡수층의 표면부는 황(S) 성분이 갈륨(Ga) 성분보다 더 많은, 태양전지
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