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양각 패턴과 음각 패턴에 의한 다수의 에지들을 갖는 투명한 위상 마스크로서, 상기 에지들 중 적어도 하나의 에지는 다른 에지에서의 광투과도와 상이하도록 구성된 선택적 광투과도 조절형 위상 마스크를 제작하는 단계;기판 상에 감광제를 도포하는 단계;상기 기판 상에 상기 선택적 광투과도 조절형 위상 마스크를 위치시키고 포토리소그래피 공정을 수행하여, 상기 에지 영역에 대한 감광제 패턴을 형성하되, 상기 선택적 광투과도 조절형 위상 마스크에 의하여 에지 영역 별로 투과되는 광량을 조절하여, 상대적으로 큰 선폭의 제1패턴영역 및 상대적으로 작은 선폭의 제2패턴영역을 동시에 갖도록 감광제 패턴을 형성하는 단계; 상기 감광제 패턴이 형성된 기판을 이용하여, 상기 제1패턴영역에 대응되는 배선 전극 패턴 및 상기 제2패턴영역에 대응되는 감지 전극 패턴을 포함하는 터치패널용 투명 전극 패턴을 형성하는 단계;를 포함하며,상기 선택적 광투과도 조절형 위상 마스크를 제작하는 단계에서는,상기 제1패턴영역에서의 선폭이 상기 제2패턴영역에서의 선폭보다 크게 형성될 수 있도록 상기 선택적 광투과도 조절형 위상 마스크 상의 일부 영역에만 반투명층이 형성되며,상기 배선 전극 패턴 및 상기 감지 전극 패턴은 동시에 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 감광제 패턴 형성 단계에서는,상기 위상 마스크의 에지 영역에서만 감광제 패턴이 형성되도록 노광량을 조절하는 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 감광제 패턴을 형성하는 단계에서는,상기 반투명층에 의하여 투과되는 광량을 조절하여, 상기 반투명층이 위치한 영역의 위상 마스크 하부에는 상대적으로 큰 선폭의 제1패턴영역이 형성되고, 상기 반투명층이 위치하지 않은 영역의 위상 마스크 하부에는 상대적으로 작은 선폭의 제2패턴영역이 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 선택적 광투과도 조절형 위상 마스크를 제작하는 단계에서는,상기 배선 전극 패턴의 형상에 따라 반투명층의 형상을 결정하고, 결정된 형상의 반투명층을 상기 위상 마스크에 형성하도록 구성된 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 선택적 광투과도 조절형 위상 마스크를 제작하는 단계에서는,광투과도가 상이하도록 설정된 에지에서는, 양각 패턴과 음각 패턴에 의한 에지의 높이가 다른 에지와는 상이하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 위상 마스크는 유리, 석영, PDMS, PU 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 반투명층은 20 내지 90%의 투과도 범위에서 선택된 투과도를 갖는 반투명층인 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 터치패널용 투명 전극 패턴에 전극 물질을 충진하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널용 투명 전극 제조 방법
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