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전자소자 봉지층 형성방법 및 이로부터 제조된 전자소자용 봉지층(Encapsulating layer of Electronic device and method of forming the same)

  • 기술번호 : KST2016007942
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전자소자의 봉지층을 형성하는 데 있어서, 전자소자에 유기물 박막 및 산화물 박막을 차례대로 형성하되, 상기 산화물 박막은 용액상태의 산화물 프리커서를 코팅한 후에 UV를 이용하여 경화시켜 형성하는 것을 특징으로 하는 전자소자 봉지층 형성방법을 제공한다.
Int. CL H01L 27/32 (2006.01) H01L 51/52 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01)
CPC H01L 51/5256(2013.01) H01L 51/5256(2013.01)
출원번호/일자 1020140121245 (2014.09.12)
출원인 동국대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0031646 (2016.03.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.09.12)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 동국대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 중구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노용영 대한민국 대전광역시 유성구
2 류기성 대한민국 부산광역시 사하구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 강일신 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***, *층 혜산빌딩(양재동)(시공특허법률사무소)
2 백두진 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***, *층(양재동, 혜산빌딩)(시공특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0867184-14
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.01.07 수리 (Accepted) 1-1-2015-0012419-63
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0405095-70
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.05.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0044029-18
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0856141-85
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.02.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0120545-08
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0120571-85
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0273929-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.16 수리 (Accepted) 4-1-2019-5163486-33
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전자소자의 봉지층을 형성하는 데 있어서,전자소자에 유기물 박막 및 산화물 박막을 차례대로 형성하되,상기 산화물 박막은 용액상태의 산화물 프리커서를 코팅 또는 인쇄한 후에 UV를 이용하여 경화시켜 형성하는 것을 특징으로 하는 전자소자 봉지층 형성방법
2 2
제1항에 있어서,상기 산화물 프리커서는 나이트나이드(nitrate)계열, 하이드라이드(hydrate)계열, 크로라이드(Chloride)계열, 아세테이트(acetate)계열의 작용기 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 전자소자 봉지층 형성방법
3 3
제1항에 있어서,유기물 박막은 폴리비닐알콜(PVA), 폴리비닐페놀(PVP), 폴리스탈린(PS), 폴리메타아크릴레이트(PMMA), 폴리아크릴(PA), 폴리아믹산(PAA), 폴리비닐아세테이트(PVAC), 폴리에틸렌나트탈레이트(PEN), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌술폰(PES), 폴리이미드(PI), 폴리아릴레이트(PAR), 폴리싸이클릭올레핀(PCO), 가교형 에폭시, 가교형 우레탄으로 이루어진 군에서 1이상 선택되는 것을 특징으로 하는 전자소자 봉지층 형성방법
4 4
제1항에 있어서,상기 산화물은 실리콘 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈 산화물, 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물, 알루미늄 산화물로 이루어진 군에서 1이상 선택되는 것을 특징으로 하는 전자소자 봉지층 형성방법
5 5
제1항에 있어서,상기 유기물 박막 및 산화물 박막은 코팅 또는 인쇄공정으로 형성되는 것을 특징으로 하는 전자소자 봉지층 형성방법
6 6
제1항에 있어서,상기 유기물 박막 및 산화물 박막은 1 내지 5개의 층으로 차례대로 적층하되, 최상층은 산화물 박막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전자소자 봉지층 형성방법
7 7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 전자소자 봉지층 형성방법으로 제조된 전자소자용 봉지층
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한밭대학교 산학협력단 2012년 특구기술사업화 (국제공동기술사업화) 플렉서블 OLED용 핵심 소재, 공정 및 장비 개발