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가스 센서 장치(GAS SENSOR APPRATUS)

  • 기술번호 : KST2016008435
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 가스 센서 장치는 제 1 센서부, 제 2 센서부 및 신호 처리부를 포함한다. 제 1 센서부는 기체 내 여기자(donor) 분자에 선택적으로 반응하도록, 채널 영역이 n-type으로 도핑된다. 제 2 센서부는 기체 내 수용자(acceptor) 분자에 선택적으로 반응하도록, 채널 영역이 p-type으로 도핑된다. 신호 처리부는 제 1 센서부로부터 여기자 분자의 감지 신호를 수신하고, 제 2 센서부로부터 상기 수용자 분자의 감지 신호를 수신하며, 수신된 상기 감지 신호들을 처리하여 감지 처리 결과 데이터를 생성한다. 따라서, 가스 센서 장치는 여기자 기체 및 수용자 기체를 선택적으로 감지할 수 있다.
Int. CL G01N 27/407 (2006.01)
CPC G01N 27/4073(2013.01)
출원번호/일자 1020150054601 (2015.04.17)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0037725 (2016.04.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020140129500   |   2014.09.26
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유영준 대한민국 대전광역시 서구
2 최진식 대한민국 대전광역시 유성구
3 최춘기 대한민국 대전광역시 유성구
4 최홍규 대한민국 부산광역시 부산진구
5 김진수 대한민국 서울특별시 동대문구
6 김진태 대한민국 대전광역시 유성구
7 정광효 대한민국 대전광역시 유성구
8 최종호 대한민국 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 문용호 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 ** 디타워 D* **층(법무법인세종)
2 이용우 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 ** 디타워 D* **층(법무법인세종)
3 강신섭 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 ** 디타워 D* **층(법무법인세종)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0377380-86
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번호 청구항
1 1
기체 내 여기자(donor) 분자에 선택적으로 반응하도록, 채널 영역이 n-type으로 도핑된 제 1 센서부;상기 기체 내 수용자(acceptor) 분자에 선택적으로 반응하도록, 채널 영역이 p-type으로 도핑된 제 2 센서부; 및상기 제 1 센서부로부터 상기 여기자 분자의 감지 신호를 수신하고, 상기 제 2 센서부로부터 상기 수용자 분자의 감지 신호를 수신하며, 수신된 상기 감지 신호들을 처리하여 감지 처리 결과 데이터를 생성하는 신호 처리부를 포함하는, 가스 센서 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 신호 처리부로부터 상기 감지 처리 결과 데이터를 수신하여 출력하는 출력부를 더 포함하는, 가스 센서 장치
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 센서부는:기판 상에 형성되어 채널 영역을 형성하는 제 1 그래핀 층;상기 기판 상에서 상기 제 1 그래핀 층의 일측면에 형성된 제 1 전극층; 및상기 기판 상에서 상기 제 1 그래핀 층의 타측면에 형성된 제 2 전극층을 포함하고,상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층은 그래핀의 초기 일함수보다 작은 일함수를 갖는 물질을 포함하여 형성되며,상기 그래핀의 초기 일함수보다 작은 일함수를 갖는 물질에 의해, 상기 제 1 그래핀 층이 n-type으로 도핑되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 제 2 센서부는:상기 기판 상에 형성되어 채널 영역을 형성하는 제 2 그래핀 층;상기 기판 상에서 상기 제 2 그래핀 층의 일측면에 형성된 제 3 전극층; 및상기 기판 상에서 상기 제 2 그래핀 층의 타측면에 형성된 제 4 전극층을 포함하고,상기 제 3 전극층 및 상기 제 4 전극층은 그래핀의 초기 일함수보다 큰 일함수를 갖는 물질을 포함하여 형성되며,상기 그래핀의 초기 일함수보다 큰 일함수를 갖는 물질에 의해, 상기 제 2 그래핀 층이 p-type으로 도핑되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
5 5
제 3 항에 있어서, 상기 제 1 전극층 및 제 2 전극층은 티타늄(Ti) 및 알루미늄(Al) 중 적어도 하나의 물질을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
6 6
제 4 항에 있어서, 상기 제 3 전극층 및 제 4 전극층은 금(Au), 철(Fe) 및 구리(Cu) 중 적어도 하나의 물질을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 센서부는,기판 상에 형성되어 상기 채널 영역을 형성하는 제 1 그래핀 층;상기 기판 상에서 상기 제 1 그래핀 층의 일측면에 형성된 제 1 전극층; 및상기 기판 상에서 상기 제 1 그래핀 층의 타측면에 형성된 제 2 전극층을 포함하고,상기 제 1 그래핀 층에는, 그래핀의 초기 일함수보다 작은 일함수를 갖는 물질로 형성되는 제 1 입자들이 주사되며, 상기 제 1 입자들에 의해 상기 제 1 그래핀 층이 n-type으로 도핑되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 제 2 센서부는,상기 기판 상에 형성되어 상기 채널 영역을 형성하는 제 2 그래핀 층;상기 기판 상에서 상기 제 2 그래핀 층의 일측면에 형성된 제 3 전극층; 및상기 기판 상에서 상기 제 2 그래핀 층의 타측면에 형성된 제 4 전극층을 포함하고,상기 제 2 그래핀 층에는, 그래핀의 초기 일함수보다 큰 일함수를 갖는 물질로 형성되는 제 2 입자들이 주사되며, 상기 제 2 입자들에 의해 상기 제 2 그래핀 층이 p-type으로 도핑되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
9 9
제 8 항에 있어서,상기 제 1 전극층, 제 2 전극층, 제 3 전극층 및 제 4 전극층은 그래핀과 동일한 일함수를 갖는 물질을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 제 1 전극층, 제 2 전극층, 제 3 전극층 및 제 4 전극층은 텅스턴(Tu)을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는, 가스 센서 장치
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1 US20160091447 US 미국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국전자통신연구원 한국전자통신연구원연구운영비지원 ETRI 창의연구실 사업