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(i) 산화 그래핀, 리튬 및 극성 유기용매를 포함하는 산화 그래핀 조성물을 준비하는 단계; 및(ii) 상기 조성물 중에서 산화 그래핀과 리튬의 화학반응을 일으키는 단계를 포함하고, 상기 단계 (ii)의 화학반응은 중탕 초음파(Bath sonication), 팁 초음파(Tip sonication), 가열(Heating), 교반(Stirring) 및 이들의 조합으로부터 선택되는 방법에 의하여 상기 조성물에 에너지를 가하여 유도되는 것을 특징으로 하는 리튬이 도핑된 그래핀을 합성하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 조성물은 비페닐(biphenyl)계 화합물 또는 나프탈렌으로부터 선택되는 전자 공여체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 조성물 중 리튬의 투입량을 조절함에 따라 그래핀에의 리튬 도핑 양이 조절되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 조성물은 비페닐(biphenyl)계 화합물 또는 나프탈렌으로부터 선택되는 전자 공여체를 더 포함하는 것이고, 상기 전자 공여체의 투입량에 따라 리튬이 도핑되는 양이 조절되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (ii)는 밀봉된 아르곤 분위기 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
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제2항에 있어서, 상기 비페닐계 화합물은 DTBP(4,4’-Di-tert-butylbiphenyl), 3,3',5,5'테트라브로모-1,1'-비페닐, 염화 비페닐(chlorinatedbiphenyl), 4-(브로모메틸)비페닐, 메틸 비페닐(methyl biphenyl), 4,4'-디메틸-1,1'-비페닐, 비페닐-4-카르복시산, 비페닐-4,4'-디티올, 브롬화 비페닐, 2-시아노-4-브로모 메틸 비페닐, 디메틸 비페닐-4,4'-디카르복실레이트, 5-(4'-메틸-2-비페닐)테트라졸 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 극성 유기용매는 NMP(N-Methyl-2-pyrrolidone), THF(Tetrahydrofuran), DMF(Dimethylformamide), DMSO(Dimethyl sulfoxide), DCB(dichlorobenzene), 톨루엔, 클로로포름, 메틸 클로라이드 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 극성 유기용매는 NMP인 것을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 가열은 50 내지 100℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법
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