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복수의 나노갭이 형성된 기판 및 이의 제조방법(substrate which have multiple nano-gaps and fabricating method for the same)

  • 기술번호 : KST2016008491
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 복수의 나노갭이 형성된 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표면에 서로 이격되어 형성된 돌기형 구조체를 포함하는 기판; 상기 기판의 표면 및 상기 돌기형 구조체 상에 형성된 금속 함유 박막; 상기 금속 함유 박막 상에 형성된 절연막; 및 상기 절연막 상에 형성된 금속 함유 나노입자;을 포함하되, 상기 금속 함유 나노입자는 다른 금속 함유 나노입자 및 상기 금속 함유 박막과 나노갭을 형성하는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판에 관한 것으로, 높은 흡광 특성을 지니면서 광원의 파장범위를 광범위하게 조절할 수 있는 복수의 나노갭이 형성된 기판을 제공하는 효과가 있다.
Int. CL G01J 3/44 (2006.01)
CPC G01J 3/44(2013.01) G01J 3/44(2013.01)
출원번호/일자 1020140130612 (2014.09.29)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1639686-0000 (2016.07.08)
공개번호/일자 10-2016-0038207 (2016.04.07) 문서열기
공고번호/일자 (20160725) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.09.29)
심사청구항수 29

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박성규 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 권정대 대한민국 경상남도 창원시 성산구
3 김동호 대한민국 경상남도 창원시 마산회원구
4 윤정흠 대한민국 경상남도 김해시
5 조병진 대한민국 경상남도 창원시 성산구
6 문채원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이지 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***(가산동, KCC웰츠밸리) ***-***

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.09.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-0930029-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.07.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.09.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0076117-83
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0670926-02
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.11.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-1094553-07
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.11.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-1094618-76
7 등록결정서
Decision to grant		 2016.04.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0291417-74
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
표면에 서로 이격되어 형성된 돌기형 구조체를 포함하는 기판;상기 기판의 표면 및 상기 돌기형 구조체 상에 형성된 금속 함유 박막;상기 금속 함유 박막 상에 형성된 절연막; 및상기 절연막 상에 형성된 금속 함유 나노입자;를 포함하되,상기 금속 함유 나노입자는 다른 금속 함유 나노입자 및 상기 금속 함유 박막과 나노갭을 형성하며;상기 절연막의 두께는 0
2 2
제1항에 있어서,상기 금속 함유 박막은 라만활성물질을 진공증착시켜 형성된 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
3 3
제2항에 있어서,상기 라만활성물질은 초기에는 상기 기판의 표면 및 상기 돌기형 구조체에 균일하게 증착되나 증착이 진행됨에 따라 상기 돌기형 구조체의 상부에 집중적으로 증착되는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
4 4
제1항에 있어서,상기 기판은 고분자 기판인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
5 5
제1항에 있어서,상기 돌기형 구조체는 플라즈마 식각, 소프트 리소그라피(soft lithography), 엠보싱(embossing), 나노임프린트 리소그라피(nanoimprint lithography), 포토 리소그라피 (photolithography), 및 홀로그래픽 리소그라피 (holographic lithography) 중 어느 하나의 공정으로 형성된 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
6 6
제5항에 있어서,상기 플라즈마 식각은 아르곤, 산소, 수소, 헬륨 및 질소 기체로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 기체를 사용하는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
7 7
제1항에 있어서,상기 금속 함유 나노입자는 라만활성물질을 진공증착시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
8 8
제7항에 있어서,상기 진공증착은 스퍼터링(sputtering), 기화(evaporation) 및 화학 증기 증착(chemical vapor deposition) 중 어느 하나를 이용한 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
9 9
제2항 및 제7항 중 어느 한 항에 있어서,상기 라만활성물질은 Au, Ag, Cu, Pt, Pd 및 이의 합금 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
10 10
제1항에 있어서,상기 절연막은 진공증착 및 용액공정 중 어느 하나를 이용한 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
11 11
제10항에 있어서,상기 진공증착은 원자층증착, 화학기상증착, 스퍼터링 및 열증착법 중 어느 하나를 이용한 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
12 12
제10항에 있어서,상기 용액공정은 스핀코팅, 딥 코팅 및 드랍핑 공정 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
13 13
제1항에 있어서,상기 절연막은 알루미나, 금속산화물, 금속황화물, 금속 할로겐화물, 실리카, 산화지르코늄 및 산화철 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
14 14
삭제
15 15
제1항에 있어서,특정 파장에 대해 국소 플라즈몬 공명 파장이 광원의 파장과 측정하고자 하는 분석 대상 분자의 라만파장 사이에 위치하도록 상기 절연막의 두께 및 금속나노입자의 크기 중 적어도 어느 하나가 조절되는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판
16 16
광원; 표면증강 라만 분광용으로 사용하는 제1항 내지 제8항 및 제10항 내지 제13항 및 제15항 중 어느 한 항에 기재된 기판; 및 라만분광을 검출하는 검출기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 라만분광 장치
17 17
제16항에 있어서,상기 광원은 레이저인 것을 특징으로 하는 라만분광 장치
18 18
기판의 표면에 서로 이격된 돌기형 구조체를 형성하는 단계;상기 기판의 표면 및 상기 돌기형 구조체 상에 금속 함유 박막을 형성하는 단계;상기 금속 함유 박막 상에 절연막을 형성하는 단계; 및상기 절연막 상에 금속 함유 나노입자들을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 금속 함유 나노입자는 다른 금속 함유 나노입자 및 상기 금속 함유 박막과 나노갭을 형성하며;상기 절연막의 두께는 0
19 19
제18항에 있어서,상기 금속 함유 박막은 라만활성물질을 진공증착시켜 형성되며,상기 라만활성물질은 초기에는 상기 기판 표면 및 상기 돌기형 구조체에 균일하게 증착되나 증착이 진행됨에 따라 상기 돌기형 구조체의 상부에 집중적으로 증착되는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
20 20
제18항에 있어서,상기 기판은 고분자 기판인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
21 21
제18항에 있어서,상기 돌기형 구조체는 플라즈마 식각, 소프트 리소그라피(soft lithography), 엠보싱(embossing), 나노임프린트 리소그라피(nanoimprint lithography), 포토 리소그라피 (photolithography), 및 홀로그래픽 리소그라피 (holographic lithography) 중 어느 하나의 공정으로 형성된 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
22 22
제21항에 있어서,상기 플라즈마 식각은 아르곤, 산소, 수소, 헬륨 및 질소 기체로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 기체를 사용하는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
23 23
제18항에 있어서,상기 금속 함유 나노입자는 라만활성물질을 진공증착시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
24 24
제23항에 있어서,상기 진공증착은 스퍼터링(sputtering), 기화(evaporation) 및 화학 증기 증착(chemical vapor deposition) 중 어느 하나를 이용한 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
25 25
제19항 및 제23항 중 어느 한 항에 있어서,상기 라만활성물질은 Au, Ag, Cu, Pt, Pd 및 이의 합금 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
26 26
제18항에 있어서,상기 절연막은 진공증착 및 용액공정 중 어느 하나를 이용한 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
27 27
제26항에 있어서,상기 진공증착은 원자층증착, 화학기상증착, 스퍼터링 및 열증착법 중 어느 하나를 이용한 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
28 28
제26항에 있어서,상기 용액공정은 스핀코팅, 딥 코팅 및 드랍핑 공정 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
29 29
제18항에 있어서,상기 절연막은 알루미나, 금속산화물, 금속황화물, 금속 할로겐화물, 실리카, 산화지르코늄 및 산화철 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
30 30
삭제
31 31
제18항에 있어서,특정 파장에 대해 국소 플라즈몬 공명 파장이 광원의 파장과 측정하고자 하는 분석 대상 분자의 라만파장 사이에 위치하도록 상기 절연막의 두께 및 금속나노입자의 크기 중 적어도 어느 하나가 조절되는 것을 특징으로 하는 복수의 나노갭이 형성된 기판의 제조방법
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1 미래창조과학부 한국기계연구원부설재료연구소 주요사업 인지니어링 감지소재 기술개발(분자감지용 초고감도 라만증강소재 기술개발)(1/5)