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질화붕소 입자;상기 질화붕소 입자의 표면에 결합되고 말단에 방향족기를 함유하는 제1 표면 개질제; 및상기 질화붕소 입자의 표면에 결합되고 말단에 아민기 또는 에폭시기를 함유하는 제2 표면 개질제를 포함하는 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 표면 개질제들은 실란화합물들이고, 상기 질화붕소 입자의 표면에 실록산 결합에 의해 결합된 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 질화붕소 입자는 판상형의 육방정계 질화붕소인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 제1 표면 개질제의 방향족기는 페닐기(phenyl group), 아닐리닐기(anilinyl group), 벤조일기(benzoyl group), 페녹시기(phenoxy group), 바이페닐기(biphenyl group), 또는 나프탈렌기(naphthalenyl group)인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제4항에 있어서,상기 제1 표면 개질제는 트리메톡시페닐실란, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]아닐린, 알릴페닐디클로로실란, 아미노페닐트리메톡시실란, t-부틸페닐디클로로실란 , p-(t-부틸)페네틸트리클로로실란, 3,5-디메톡시페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐메틸에톡시실란 , 3-(p-메톡시페닐)프로필트리클로로실란, p-메톡시페닐트리메톡시실란, 페네틸메틸디클로로실란 , 페네틸트리메톡시실란, 3-페녹시프로필디메틸클로로실란, 3-페녹시프로필메틸디클로로실란 , 3-페녹시프로필트리클로로실란, 페닐디메틸클로로실란, 페닐디메틸에톡시실란, 페닐에틸디클로로실란, 페닐메틸디클로로실란, 1-페닐-1-(메틸디클로로실릴)부탄, 페닐메틸디메톡시실란, 페닐메틸디에톡시실란, (3-페닐프로필)트리클로로실란, 페닐트리클로로실란, 페닐트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 트리페닐클로로실란, 트리페닐에톡시실란, (트리페닐메틸)메틸디클로로실란, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 제1 표면 개질제는 말단에 아닐리닐기를 구비하는 N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]아닐린인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 제2 표면 개질제의 아민기는 1차 아민기, 2차 아민기, 3차 아민기, 또는 디아민기인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제7항에 있어서,상기 제2 표면 개질제는 3-[2-(2-아미노에틸아미노)에틸아미노]프로필트리메톡시실란, N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민, (3-아미노프로필)트리메톡시실란, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 제2 표면 개질제은 말단에 디아민기를 구비하는 N-[3-(트리메톡시실릴)프로필]에틸렌디아민인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 제2 표면 개질제의 에폭시는 에폭사이드기, 글리시딜기, 또는 글리시딜옥시기인 다중 표면 개질된 질화붕소
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11
제10항에 있어서,상기 제2 표면 개질제은 3-에폭시프로필트리메톡시실란, 3-에폭시프로필트리에톡시실란, 4-에폭시부틸트리메톡시실란, 4-에폭시부틸트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제11항에 있어서,상기 제2 표면 개질제는 말단에 글리시딜옥시기를 구비하는 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란인 다중 표면 개질된 질화붕소
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제1항에 있어서,상기 질화붕소 입자의 표면에 결합되고 말단에 알킬기를 함유하는 제3 표면 개질제를 더 포함하는 다중 표면 개질된 질화붕소
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고분자 전구체(polymer precursor) 100 중량부, 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 다중 표면 개질된 질화붕소 1 내지 80 중량부, 및 잔부의 용매를 포함하는 코팅용 조성물
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제14항에 있어서,상기 고분자 전구체는 폴리에스테르, 폴리에스테르이미드, 폴리에스테르아미드, 폴리에스테르아미드이미드, (트리(2-하이드록시 에틸)이소시아누에이트 트리아크릴레이트)-폴리에스테르이미드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리비닐포르말, 에폭시 수지, 페놀 수지, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것인 코팅용 조성물
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전도성 와이어; 및상기 전도성 와이어 상에 형성되고 고분자 매트릭스 및 상기 고분자 매트릭스 내에 분산된 다중 표면 개질된 질화붕소를 함유하는 열전도성막을 포함하고,상기 다중 표면 개질된 질화붕소는 질화붕소 입자; 상기 질화붕소 입자의 표면에 결합되고 말단에 방향족기를 함유하는 제1 표면 개질제; 및 상기 질화붕소 입자의 표면에 결합되고 말단에 아민기 또는 에폭시기를 함유하는 제2 표면 개질제를 포함하는, 와이어
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제16항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 폴리에스테르, 폴리에스테르이미드, 폴리에스테르아미드, 폴리에스테르아미드이미드, (트리(2-하이드록시 에틸)이소시아누에이트 트리아크릴레이트)-폴리에스테르이미드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리비닐포르말, 에폭시 수지 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것인 와이어
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제16항에 있어서,상기 전도성 와이어와 상기 열전도성막 사이에,유기 절연 고분자를 포함하는 내부분방전성층을 더 포함하는 와이어
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제18항에 있어서,상기 내부분방전성층은 상기 유기 절연 고분자 내에 분산된 무기 나노필러를 더 포함하는 와이어
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제19항에 있어서,상기 무기 나노필러는 실리카, 티타니아, 알루미나, 지르코니아, 이트리아, 산화크롬, 산화 아연, 산화철, 클레이, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 와이어
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제16항에 있어서,상기 질화붕소 입자는 판상형의 입자이고,상기 질화붕소 입자의 판상면은 상기 전도성 와이어를 바라보는 와이어
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제21항에 있어서,상기 질화붕소 입자의 판상면과 상기 전도성 와이어의 표면은 평행한 와이어
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제21항에 있어서,상기 질화붕소 입자의 판상면이 상기 전도성 와이어의 표면과 이루는 각은 상기 질화붕소 입자의 판상면이 상기 전도성 와이어의 표면에 수직한 수선과 이루는 각에 비해 작은 와이어
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