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폴리에틸렌 옥사이드, 폴리글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 구연산, 옥살산, 말레산, 살리실산, 아스파르트산, 벤조산, 글리신, 글루콘산, 글루탐산, 히스티딘, 히드록실아민, 이소프로판올아민, 이소프로필히드록실아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 분산제 0
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제 1 항에 있어서,상기 부식억제제는 벤조트리아졸인 것을 특징으로 하는 제트 스크러빙 공정 후 동박 표면에 잔류하는 알루미나 분말 제거 및 동박 표면의 산화 방지용 세정 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 pH 조절제를 사용하여 pH 8~13로 조정되는 것을 특징으로 하는 제트 스크러빙 공정 후 동박 표면에 잔류하는 알루미나 분말 제거 및 동박 표면의 산화 방지용 세정 조성물
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인쇄회로기판의 제조방법으로서,제트 스크러빙 공정을 수행한 후 동박 표면을 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 구연산, 옥살산, 말레산, 살리실산, 아스파르트산, 벤조산, 글리신, 글루콘산, 글루탐산, 히스티딘, 히드록실아민, 이소프로판올아민, 이소프로필히드록실아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 분산제 0
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제 7 항에 있어서,상기 부식억제제는 벤조트리아졸인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 pH 조절제를 사용하여 pH 8~13로 조정되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법
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