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기판을 지지하는 스테이지;상기 기판 상에 제 1 광을 제공하는 제 1 광학계들;상기 제 1 광학계들을 지지하여 상기 스테이지 상에서 이동시키는 지지대; 및상기 지지대와 상기 스테이지 사이에 배치되고, 상기 지지대의 이동에 따른 상기 제 1 광학계들의 변위를 검출하는 제 2 광학계들을 포함하되,상기 제 2 광학계들의 각각은:상기 제 1 광과 다른 제 2 광을 생성하는 빔 소스; 및상기 제 1 광학계들에 제공되는 상기 제 2 광을 감지하여 상기 제 1 광학계들의 변위를 검출하는 센서 어레이들을 포함하는 광학 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 광학계들의 각각은:상기 제 1 광학계들에 인접하는 상기 지지대에 연결되고, 상기 지지대와 평행한 방향으로 제공되는 상기 제 2 광으로부터 상기 제 1 광학계들과 평행한 방향으로 조준 빔을 분리하는 빔 스플리터들; 및상기 스테이지와 상기 지지대 사이의 상기 제 1 광학계들의 말단에 배치되고, 상기 조준 빔으로부터 유도되는 반사 빔을 상기 센서 어레이들에 제공하는 빔 리플렉터들을 더 포함하는 광학 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 제 1 광학계들은 마스크리스 노광 장치를 포함하되,상기 마스크리스 노광 장치는:상기 제 1 광을 제공하는 노광 소스;상기 노광 소스로부터 제공되는 상기 제 1 광을 제어하는 처핑 리플렉터;상기 제 1 광을 상기 기판에 포커싱하는 오브젝티브 렌즈; 및상기 오브젝티브 렌즈와 상기 처핑 리플렉터 사이에 배치되고, 상기 지지대를 관통하는 광학 실린더를 포함하되,상기 빔 리플렉터들은 상기 오브젝티브 렌즈에 인접하는 상기 광학 실린더의 말단에 배치되는 광학 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 제 1 광학계들은 검사 장치들을 포함하되,상기 검사 장치들의 각각은:상기 기판의 표면을 확대하는 오브젝티브 렌즈;상기 오브젝티브 렌즈 상의 오큘라 렌즈;상기 오큘라 렌즈와 상기 오브젝티브 렌즈를 연결하고, 상기 지지대를 관통하는 경통; 및상기 오큘라 렌즈 상에 배치되어 상기 기판의 표면 이미지를 획득하는 이미지 센서를 포함하되,상기 빔 리플렉터들은 상기 오브젝티브 렌즈에 인접하는 상기 경통의 말단에 배치되는 광학 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 빔 리플렉터들은 상기 조준 빔에 평행한 상기 반사 빔을 제공하는 리트로 리플렉터를 포함하되,상기 리트로 리플렉터는 V자 모양으로 마주보며 기울어진 복수개의 거울 면들을 포함하되, 상기 센서 어레이들은 상기 조준 빔과 상기 반사 빔 사이의 거리에 대응하여 상기 제 1 광학계들의 상기 변위를 검출하는 광학 장치
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제 2 항에 있어서,상기 지지대는 상기 제 1 광학계들을 통과시키는 홀들을 갖되,상기 홀들 내의 상기 제 1 광학계들과 상기 지지대를 연결하는 인터페이스들을 더 포함하되,상기 인터페이스들은 스프링 댐퍼들을 포함하는 광학 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 제 2 광학계들의 각각은 상기 빔 소스와 상기 빔 스플리터들 사이에 배치되어 상기 제 2 광의 경로를 변경하는 빔 벤더를 더 포함하되,상기 빔 스플리터들은 상기 빔 벤더에 대해 일렬로 정렬된 광학 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 센서 어레이들은 상기 지지대 하부 면에 배치된 광학 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 센서 어레이들은 포토 다이오드를 포함하는 광학 장치
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제 1 항에 있어서,상기 빔 소스와 상기 지지대 사이의 플레이트를 더 포함하는 광학 장치
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