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내부공간을 갖는 하우징;상기 내부공간에 배치되고 상부면에 기판이 로딩되는 서셉터;상기 서셉터의 상부측에 위치하도록 상기 내부공간에 배치되고 공정가스를 상기 기판 측으로 분사하는 샤워헤드; 일정높이를 갖는 중공형으로 구비되고, 상부테두리가 상기 샤워헤드의 둘레부에 위치하여 상기 기판 및 서셉터를 감싸도록 상기 내부공간 내에 배치되는 내부배럴; 및상기 내부배럴과 동력전달수단을 매개로 연결되는 구동수단;을 포함하고,상기 내부배럴은 상기 기판 및 서셉터의 교환시 상기 구동수단의 작동을 통해 상기 기판 또는 서셉터가 상기 내부배럴의 내측으로부터 노출되는 개방상태로 변경되고,상기 내부배럴은 상부테두리로부터 내측으로 연장되어 단부가 상기 샤워헤드의 측부와 접하도록 배치되는 돌출부를 더 구비하며,상기 내부배럴은 하부테두리가 상기 하우징의 바닥면에 접하도록 연장되고, 상기 내부배럴은 상기 기판 또는 서셉터의 교환시 내부배럴 일부가 상방으로 일정높이 승강되되 상기 기판 또는 서셉터의 교환시 상기 내부배럴 일부의 하단부가 상기 서셉터보다 더 높은 위치에 위치하도록 구성되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 1항에 있어서,상기 내부배럴은 퍼지가스가 외부에서 내부로 유입될 수 있도록 다수 개의 통과공이 관통형성되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 1항에 있어서,상기 하우징의 측부에는 상기 서셉터의 위치와 대응되는 위치에 게이트밸브가 구비되고, 상기 게이트밸브를 통해 서셉터 또는 기판의 출입이 이루어져 상기 서셉터 또는 기판의 교환작업이 수행되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 1항에 있어서,상기 내부배럴은 제1부분과 제2부분이 서로 합형되도록 구비되고, 상기 제2부분만이 상기 제1부분에 대해서 높이방향을 따라 상기 구동수단에 의해 승,하강되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 8항에 있어서,상기 제1부분 및 제2부분의 접촉면에는 서로 대응되는 돌기부와 홈부가 각각 구비되어 상기 돌기부가 홈부에 슬라이딩 삽입되고, 상기 제2부분의 승,하강시 상기 돌기부 또는 홈부가 대응되는 홈부 및 돌기부를 따라 슬라이딩 이동되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 9항에 있어서,상기 동력전달수단은 일정길이를 갖는 지지봉을 포함하고, 상기 지지봉의 하부단은 상기 제2부분의 일측에 연결되고 상부단은 상기 구동수단과 연결되어 동력이 전달되는 화학기상장치용 반응챔버
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내부공간을 갖는 하우징;상기 내부공간에 배치되고 상부면에 기판이 로딩되는 서셉터;상기 서셉터의 상부측에 위치하도록 상기 내부공간에 배치되고 공정가스를 상기 기판 측으로 분사하는 샤워헤드; 일정높이를 갖는 중공형으로 구비되고, 상부테두리가 상기 샤워헤드의 둘레부에 위치하여 상기 기판 및 서셉터를 감싸도록 상기 내부공간 내에 배치되는 내부배럴; 및상기 내부배럴과 동력전달수단을 매개로 연결되는 구동수단;을 포함하고,상기 내부배럴은 상기 기판 및 서셉터의 교환시 상기 구동수단의 작동을 통해 상기 기판 또는 서셉터가 상기 내부배럴의 내측으로부터 노출되는 개방상태로 변경되고,상기 내부배럴은 상부테두리로부터 내측으로 연장되어 단부가 상기 샤워헤드의 측부와 접하도록 배치되는 돌출부가 구비되며,상기 내부배럴은 하부테두리가 상기 하우징의 바닥면으로부터 일정높이 이격되도록 배치되고, 상기 내부배럴은 상기 기판 또는 서셉터의 교환시 내부배럴 일부가 하방으로 일정높이 하강되되 상기 내부배럴 일부의 상단부가 상기 서셉터보다 더 낮은 위치에 위치하도록 상기 내부배럴이 하방으로 하강되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 11항에 있어서,상기 하우징의 바닥면에는 상기 내부배럴 일부의 승하강시 상기 내부배럴의 이동방향을 안내할 수 있도록 상기 내부배럴의 하부테두리가 삽입되는 가이드부재가 상기 하우징의 바닥면으로부터 일정높이 돌출되도록 구비되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 11항에 있어서,상기 동력전달수단은 하부단이 상기 내부배럴의 일측에 연결되어 상부로 일정높이 연장되는 복수 개의 지지봉과 상기 지지봉의 상부단을 상호 연결하는 상부프레임을 포함하고, 상기 상부프레임은 상기 구동수단과 연결되어 동력이 전달되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 1항에 있어서,상기 서셉터는 히터가 포함된 지지블럭의 상부면에 배치되는 화학기상장치용 반응챔버
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제 1항에 있어서,상기 구동수단은 상기 하우징의 외부에 배치되는 화학기상장치용 반응챔버
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