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기판을 준비하는 단계;포토리소그래피를 이용하여 상기 기판 상에 전극 패턴을 형성하는 단계;스퍼터링을 이용하여 상기 전극 패턴 상에 제1 금속 층을 형성하는 단계;전기증착(electrodeposition)을 이용하여 상기 전극 패턴 상에 제2 금속 층을 형성하는 단계; 및상기 전극 패턴이 형성된 기판을 미리 설정된 온도로 가열하는 단계를포함하는 pH 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 기판 상에 전극 패턴을 형성하는 단계는상기 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계;상기 포토레지스트 상에서 상기 전극 패턴에 대응되는 영역에 마스크를 형성하는 단계;상기 포토레지스트 및 상기 마스크 상에 자외선을 조사하는 단계;상기 마스크를 제거하는 단계; 및현상액을 이용하여 상기 기판 상에서 상기 전극 패턴에 대응되는 영역의 포토레지스트를 제거하는 단계를포함하는 pH 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 전극 패턴 상에 제1 금속 층을 형성하는 단계는상기 기판 상에 크롬 입자를 증착시키는 단계;상기 기판 상에 금 입자를 증착시키는 단계;현상액을 이용하여 상기 기판 상에서 상기 전극 패턴과 대응되지 않는 영역의 포토레지스트를 제거하는 단계를포함하는 pH 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 전극 패턴 상에 제2 금속 층을 형성하는 단계는상기 전극 패턴의 연결부 및 급전부를 절연시키는 단계;전기증착 용액 내에서 상기 전극 패턴과 백금 전극을 전기적으로 연결하는 단계; 및상기 전극 패턴과 상기 백금 전극에 전류를 공급하여 상기 전극 패턴의 센싱부 상에 산화이리듐을 증착시키는 단계를포함하는 pH 전극 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 전기증착 용액은IrCl4, H2O2, (COOH)2·H2O, Li2CO3를 포함하는pH 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 기판을 미리 설정된 온도로 가열하는 단계는질소 분위기에서 상기 기판을 400℃로 가열하는 단계를포함하는 pH 전극 제조 방법
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