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나노와이어 또는 나노입자들이 3차원으로 연결되어 네트워크 형태의 미세한 포어(pore, 기공)을 형성하는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법에 있어서,(i) 증착챔버 내부에 기판을 위치시키고, 상기 증착챔버 내부를 진공배기하는 단계(s10);(ii) 상기 기판의 온도를 소정의 온도로 등온유지하는 단계(s20);(iii) 진공 배기된 증착챔버에 공정가스를 주입하여 상기 공정가스가 초기공정압력을 형성하는 단계(s30);(iv) 소정의 방법으로 생성된 증착입자의 에너지가 제어되어 상기 기판 상에 증착되는 단계(s40);를 포함하고,상기 (iv)단계에서 상기 증착입자의 증착에 의해 상기 기판 상에 다공성 박막이 형성되며,상기 (iv)단계에서 상기 증착챔버 내부의 공정가스종류, 공정압력, 상기 기판의 온도, 기판과 원료물질간의 거리 및 상기 증착입자의 가열온도 중 어느 하나 이상을 시간에 따라 변화시켜 상기 증착입자의 성분, 에너지 및 크기를 변화시키고, 그 결과 상기 다공성 박막 내부에 박막두께방향으로 밀도구배를 형성하는 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (iv)단계에서의 공정압력을 시간에 따라 점진적으로(gradually) 증가 또는 감소시켜, 상기 다공성 박막의 상대밀도가 박막두께바깥방향으로 점진적으로 감소 또는 증가하는 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 (iv)단계에서의 공정압력을 시간에 따라 이산적으로(discretely) 증가 또는 감소시킴으로써, 상기 다공성 박막의 상대밀도가 박막두께바깥방향으로 이산적으로 감소 또는 증가하는 다층구조를 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (iii) 단계에서의 초기 공정 압력은, 0
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청구항 1 에 있어서,상기 (ii)단계에서, 상기 기판은, 섭씨 -196도 이상 80도 이하로 유지되는 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 증착입자의 증착속도는 0
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청구항 1에 있어서,상기 증착입자는, 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 아연(Zn), 납(Pb), 바나듐(V), 코발트(Co), 어븀(Er), 칼슘(Ca), 홀뮴(Ho), 사마륨(Sm), 스칸듐(Sc), 터븀(Tb) 중에서 선택되는 하나 이상의 금속으로 된 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (iii)단계에서의 공정가스는, 불활성 기체로서의 아르곤(Ar), 질소(N2), 헬륨(He), 네온(Ne), 크립톤(Kr), 크세논(Xe), 라돈(Rn) 중 선택되는 하나 이상의 기체인 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 증착입자는, 주석(Sn), 니켈(Ni), 구리(Cu), 타이타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 아연(Zn), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 리튬(Li), 알루미늄(Al), 안티몬(Sb), 비스무스(Bi), 마그네슘(Mg), 규소(Si), 인듐(In), 납(Pb) 및 팔라듐(Pd)의 산화물 중 선택되는 하나 이상의 금속산화물로 된 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 9에 있어서,상기 (iii)단계에서의 공정가스는, 불활성 기체로서의 아르곤(Ar), 질소(N2), 헬륨(He), 네온(Ne), 크립톤(Kr), 크세논(Xe), 라돈(Rn) 중 선택되는 하나 이상의 기체와 산소(02)와의 혼합물이고, 상기 산소는 상기 금속산화물의 성분 제어 및 산화상태의 안정성을 확보하는 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (iv)단계에서의 증착입자의 생성은, 열증발법 또는 스퍼터링법에 의하는 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 기판과 원료물질 간의 거리는 3cm 이상 50cm 이하로 되는 것을 특징으로 하는 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막의 제조방법
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3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막에 있어서,청구항 1 내지 청구항 12 중 선택되는 어느 하나의 항의 방법에 의해 제조되고,상기 다공성 박막의 비표면적(specific surface area)값은 0
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청구항 13에 있어서,상기 다공성 박막의 밀도비(벌크대비)는 0
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청구항 14에 있어서,상기 다공성 박막은, 직경이 1
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청구항 14에 있어서,상기 다공성 박막은, 직경이1
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청구항 14에 있어서,상기 다공성 박막의 두께는 0
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가스센서, 바이오센서, 배터리, 커패시터, 연료전지, 태양전지, 화학촉매, 항균필터 등에 사용되는 다공성 전극(electrode)에 있어서, 상기 다공성 전극의 표면에는, 청구항 13의 밀도구배를 갖는 3차원 개방형 네트워크 구조의 다공성 박막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다공성 전극
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