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표면에 스킨층이 있으며 단면이 스폰지 형태인 나일론 멤브레인의 제조방법으로서, 나일론을 용매, 또는 용매와 비용매의 혼합용매에 용해시켜 고분자 용액을 얻는 단계(단계 1);상기 고분자 용액을 멤브레인 형태로 성형하는 단계(단계 2);상기 성형된 멤브레인을 수증기에 노출시켜 상전이시키는 단계(단계 3); 및상기 수증기에 노출된 멤브레인을 비용매에 침지시키는 단계(단계 4)를 포함하고, 상기 나일론은 나일론 4,6 또는 이를 포함하는 나일론 혼합물이고,상기 멤브레인의 초순수 투과유량은 190 내지 490L/m2hr이며,상기 멤브레인은 전체 멤브레인의 평균 기공 크기가 1 nm 내지 200 nm인 나노 기공 구조를 갖는 것인 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1)의 용매는 포름산, 또는 포름산과 물의 혼합용매인 것이 특징인 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1)의 비용매는 C1-8 알콜, C2-8 카르복시산, 술폰산 또는 이들의 혼합물인 것이 특징인 방법
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제4항에 있어서, 상기 C1-8 알콜은 메탄올, 에탄올, 프로판올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 및 글리세린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, 상기 C2-8 카르복시산은 아세트산, 프로피온산 및 부티르산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이며, 상기 술폰산은 캠포술폰산 및 톨루엔술폰산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 특징인 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1)의 용매와 비용매의 혼합 비율은 중량 기준으로 40 내지 70 : 5 내지 20인 것이 특징인 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1)의 고분자 용액은 금속염을 추가로 포함하는 것이 특징인 방법
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제7항에 있어서, 상기 금속염은 LiCl, CaCl2, MgSO4, Na2SO4, MgCl2 및 KH2PO4로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 특징인 방법
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제7항에 있어서, 상기 금속염의 농도는 전체 고분자 용액의 중량 기준으로 0
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제1항에 있어서, 상기 단계 1)의 고분자 용액 중 나일론의 농도는 15 내지 35 중량%인 것이 특징인 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2)의 성형은 나이프 캐스팅 또는 테이프 캐스팅으로 수행되는 것이 특징인 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3)은 50% 내지 99%의 상대습도 조건 하에서 수행되는 것이 특징인 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3)의 수증기 노출 시간은 0
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제1항에 있어서, 상기 단계 4)의 비용매는 물, C1-8 알콜, C2-8 카르복시산, 술폰산 또는 이들의 혼합물인 것이 특징인 방법
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제1항, 제3항 내지 제14항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조되고, 표면에 스킨층이 있으며 단면이 스폰지 형태인 나일론 멤브레인으로서,상기 나일론은 나일론 4,6 또는 이를 포함하는 나일론 혼합물이고,상기 멤브레인의 초순수 투과유량은 190 내지 490L/m2hr이며,상기 멤브레인은 전체 멤브레인의 평균 기공 크기가 1 nm 내지 200 nm인 나노 기공 구조를 갖는 것인 나일론 멤브레인
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제15항의 나일론 멤브레인을 포함하는 수처리용 장치
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제17항에 있어서, 반도체 공정의 폐수처리 장치, 반도체 공정의 초순수 정제 장치, 정수기, 해수담수화 공정의 전처리 장치, 연수기, 정수처리 장치, 폐수 처리 장치 또는 식품 정제장치인 것이 특징인 수처리용 장치
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제15항의 나일론 멤브레인을 이용하여 수처리하는 단계를 포함하는 수처리된 물의 제조방법
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제19항에 있어서, 상기 수처리에 사용되는 물은 초순수, 폐수 또는 해수인 것이 특징인 방법
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